JP2013026272A5 - - Google Patents

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2014006935A1 (ja) * 2012-07-06 2014-01-09 株式会社ニコン 位置計測装置、ステージ装置、露光装置、およびデバイス製造方法
CN112799162B (zh) * 2021-02-02 2024-11-08 廊坊市莱格光电仪器有限公司 一种激光直刻金属柱面光栅光刻机

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0660808B2 (ja) * 1986-08-01 1994-08-10 日本電信電話株式会社 微小変位測定方法および微小変位測定装置
JP2683098B2 (ja) * 1989-05-12 1997-11-26 キヤノン株式会社 エンコーダー
JPH032504A (ja) * 1989-05-30 1991-01-08 Nikon Corp 位置合わせ装置
JPH085324A (ja) * 1994-06-16 1996-01-12 Mitsutoyo Corp 格子干渉型変位検出装置
JP4023923B2 (ja) * 1998-07-02 2007-12-19 ソニーマニュファクチュアリングシステムズ株式会社 光学式変位測定装置
JP2005026614A (ja) * 2003-07-02 2005-01-27 Nikon Corp 露光装置
KR101770082B1 (ko) * 2006-09-01 2017-08-21 가부시키가이샤 니콘 이동체 구동 방법 및 이동체 구동 시스템, 패턴 형성 방법 및 장치, 노광 방법 및 장치, 디바이스 제조 방법, 그리고 캘리브레이션 방법

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