JP2020013950A - 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車 - Google Patents

光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車 Download PDF

Info

Publication number
JP2020013950A
JP2020013950A JP2018136849A JP2018136849A JP2020013950A JP 2020013950 A JP2020013950 A JP 2020013950A JP 2018136849 A JP2018136849 A JP 2018136849A JP 2018136849 A JP2018136849 A JP 2018136849A JP 2020013950 A JP2020013950 A JP 2020013950A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photodetector
photodetectors
trench
light
wiring
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018136849A
Other languages
English (en)
Other versions
JP7039411B2 (ja
Inventor
鎬楠 権
Honam Kwon
鎬楠 権
和拓 鈴木
Kazuhiro Suzuki
和拓 鈴木
藤原 郁夫
Ikuo Fujiwara
郁夫 藤原
啓太 佐々木
Keita Sasaki
啓太 佐々木
勇希 野房
Yuki Nofusa
勇希 野房
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP2018136849A priority Critical patent/JP7039411B2/ja
Priority to US16/288,991 priority patent/US11346953B2/en
Publication of JP2020013950A publication Critical patent/JP2020013950A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7039411B2 publication Critical patent/JP7039411B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/1463Pixel isolation structures
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483Details of pulse systems
    • G01S7/486Receivers
    • G01S7/4861Circuits for detection, sampling, integration or read-out
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483Details of pulse systems
    • G01S7/486Receivers
    • G01S7/4861Circuits for detection, sampling, integration or read-out
    • G01S7/4863Detector arrays, e.g. charge-transfer gates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14603Special geometry or disposition of pixel-elements, address-lines or gate-electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14601Structural or functional details thereof
    • H01L27/14625Optical elements or arrangements associated with the device
    • H01L27/14629Reflectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/103Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier being of the PN homojunction type
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/107Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier working in avalanche mode, e.g. avalanche photodiodes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/93Lidar systems specially adapted for specific applications for anti-collision purposes
    • G01S17/931Lidar systems specially adapted for specific applications for anti-collision purposes of land vehicles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/14Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation
    • H01L27/144Devices controlled by radiation
    • H01L27/146Imager structures
    • H01L27/14643Photodiode arrays; MOS imagers

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)
  • Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)

Abstract

【課題】本発明が解決しようとする課題は、高感度な光検出器を提供する。【解決手段】上記の課題を達成するために、実施形態の光検出器は、複数の光検出素子1と、複数の光検出素子1の間に設けられるトレンチ3と、複数の光検出素子1の内、2つの光検出素子1の間に設けられ、2つの光検出素子1と電気的に接続する配線4と、を具備し、トレンチ3は、2つの光検出素子1を含む2m(mは正の整数)個の光検出素子1を囲み、配線4の延伸方向と直交する方向に2つの光検出素子1が並ぶ。【選択図】 図1

Description

本発明の実施形態は、光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車に関する。
光検出器として高感度化が望まれる。
特願平10−272640公報 特願2005―97702公報 特願2007―505127公報
本発明の実施形態は、高感度な光検出器を提供する。
上記の課題を達成するために、実施形態の光検出器は、複数の光検出素子と、複数の光検出素子の間に設けられるトレンチと、複数の光検出素子の内、2つの光検出素子の間に設けられ、2つの光検出素子と電気的に接続する配線と、を具備し、トレンチは、2つの光検出素子を含む2m(mは正の整数)個の光検出素子を囲み、配線の延伸方向と直交する方向に2つの光検出素子が並ぶ。
第1の実施形態に係る光検出器を示す図。 図1で示した光検出器の光検出素子のp−p´断面を示す図。 トレンチの有無とIV特性の関係を示す図。 トレンチの有無と余剰ノイズの関係を示す図。 トレンチの有無と光検出器の動作モデルを示す図。 トレンチを用いた一般の光検出器を示す図。 第1の実施形態に係る光検出器の変形例1を示す図 第1の実施形態に係る光検出器の変形例2を示す図 本実施形態に係るライダー装置を示す図。 本実施形態に係るライダー装置を備えた車の上面略図。
以下図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。同じ符号が付されているものは、互いに対応するものを示す。なお、図面は模式的または概念的なものであり、各部分の厚みと幅との関係、部分間の大きさの比などは、必ずしも現実のものと同一とは限らない。また、同じ部分を表す場合であっても、図面により互いの寸法や比が異なって表される場合もある。
(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る光検出器を示す図である。この光検出器は、入射した光を電荷に変換して電気信号として検出することができる。
光検出器はアレイ状に複数設けられた光検出素子1と、複数の光検出素子1の間に設けられる非光検出領域2と、非光検出領域2内で複数の光検出素子の間に設けられるトレンチ3と、非光検出領域2内で2つの光検出素子の間に設けられ、2つの光検出素子と電気的に接続する配線4とを含む。また、トレンチ3は、2つの光検出素子を含む2m(mは正の整数)個の光検出素子を囲むように設けられる。配線4が伸びる方向を延伸方向とし、延伸方向と直交する方向に2つの光検出素子が並んでいる。ここで、「上」とは、光が入射する側のことである。本実施形態に係る「囲む」とは、完全に囲むことだけを意図しておらず、トレンチ3同士が離間していてもトレンチ3同士をたどって、図1のAのように多角形(第1の実施形態では、四角形)の軌道を描ければ囲むとする。
光検出素子1は、入射した光を電荷に変換することで光を検出する。例えばガイガーモード動作するアバランシェフォトダイオードである。
非光検出領域2は、入射した光を検出できない領域である。
トレンチ3は、互いに隣り合う光検出素子1同士が干渉し合わないために設けられている。
配線4は、光検出素子1が変換した電気信号を駆動・読み出し部(図示せず)へと出力するために設けられる。また、配線4は、クエンチ抵抗(図示せず)も含む。クエンチ抵抗は、光検出素子が一つの光子を検出し、次の光子を検出できるまでの時間を短くするため、増倍を収束できるように設けられる。
図2は、図1で示した光検出器の光検出素子1のp−p´断面を示す図である。
図2のp−p´断面において、光検出器は、さらに裏面電極9と、裏面電極9上に設けられる高濃度p型基板11と、高濃度p型基板11上に設けられ、光検出素子1を形成するエピ層12と、光検出素子1上に設けられる保護層70を含む。光検出素子1は、p型半導体層5と、p型半導体層5上に設けられるn型半導体層40と、を含む。保護層70の一部で配線4がn型半導体層40と電気的に接続されている。また、トレンチ3は、配線4によって電気的に接続された2つの光検出素子1を積層方向に交差する方向において挟むようにエピ層12を垂直加工して形成される。垂直加工することでできる窪みの側壁はそのままでもトレンチとして機能するが、側壁を絶縁膜又は金属膜で覆うか、窪みを絶縁材料又は金属で充填するとさらにクロストークの低減ができる。
裏面電極9は、電圧を与えて配線4との間に電位差を生じさせるために設けられる。裏面電極9の材料は、例えばアルミもしくはアルミ含有材料、またはその材料と組み合わせた他の金属材料である。
p型半導体層5は、高純度の半導体(たとえば、シリコン)に不純物(たとえば、ボロン)が添加されたものである。
n型半導体層40は、高純度の半導体(たとえば、シリコン)に不純物(たとえば、リン)が添加されたものである。
保護層70は、配線4が外部と接触して短絡しないように保護する目的で設けられている。保護層70の材料は例えばシリコン酸化膜または窒化膜である。
図3は、トレンチ3の有無とIV特性の関係を示す図である。
トレンチ3を設けた場合は、電流がブレークダウン電圧である25Vから緩やかに上昇して、44Vから急激に増加して発散する。一方で、トレンチ3を設けない場合は、電流がブレークダウン電圧である25Vから急激に増加して30Vで発散してしまう。ブレークダウン電圧から発散する電圧までの差をΔVcと定義すると、トレンチ3を設けた場合のΔVcは44V−25V=19Vであり、トレンチ3を設けない場合のΔVcは30V−25V=5Vである。したがって、トレンチ3を形成した光検出器はクロストークやアフターパルスのような余剰ノイズが低減できるため、発散するまでの電圧が大きくなりΔVcが拡張する。ΔVcが大きければ、それだけ光検出器に印加できる電圧も大きくできるため、トレンチ3を形成すると光検出器の高感度化に繋がる。
図4は、トレンチ3の有無と余剰ノイズの関係を示す図である。
図4におけるVOVは、ブレークダウン電圧以上に印加する電圧のことである。また、余剰ノイズとしてのクロストークは、一定時間に発生するパルスの数と、同時に発生した複数個のパルスの比のことであり、アフターパルスは、発生したパルスに起因して一定時間後に励起され発生するパルス数の比のことである。図4(a)が示すように、トレンチ3を形成するとクロストークがトレンチ3が無い場合と比べて大きく減少する。また、図4(b)が示すように、アフターパルスが大きく減少することがわかる。
図5は、トレンチ3の有無と光検出器の動作モデルを示す図である。
図5(a)は、本実施形態のトレンチ3を設けた場合における動作モデルであり、図5(b)は、比較例として用意したトレンチ3を設けない場合における動作モデルである。
図5(a)に示すように、一つの光検出素子1にて発生したキャリアがアバランシェ増倍する過程で2次光子が発生する。その2次光子が全方向に広がり、エピ層12とトレンチ3の屈折率に差があるため光子の屈折が起こる。一部の2次光子は余剰ノイズとしてほとんど機能しない方向に進行する。また、一部の2次光子はトレンチ3によって全反射され2次光子発生源である光検出素子1の内部に戻り、キャリアを発生させて余剰ノイズとなる懸念があるが、クエンチ抵抗中に電流が流れ、光検出素子1にかかる電圧が低くなることで低増倍率になってパルス出力として現れなくなる。したがって、余剰ノイズとしてほとんど検出されない。一方で、図5(b)で示すように、トレンチがないので、隣接した光検出素子1に2次光子が進行して余剰ノイズが大きくなる。
次に製造方法を説明する。
高濃度p型基板11上(例えば、シリコン基板で、直径8インチ、厚み725um)に低濃度(例えば、1E14/cm以上1E16/cm以下)のp型シリコンをエピ成長(例えば、5um以上15um以下)しエピ層12を形成する。そのエピ層12の表面近傍にp型半導体層5(例えば、3E12/cm)とn型半導体層40(5E14/cm3)をイオン注入によって形成し、n型半導体層40上にコンタクトを経由して配線4(例えばpoly−Siまたは金属膜)と繋ぐ。配線4を覆うように保護膜70を形成する。配線4を形成する前か後にトレンチを形成することを前作りトレンチ、後作りトレンチとすると、前作りトレンチは光入射方向からみて光検出素子1を完全にトレンチで囲むことができるが、トレンチ3の埋め込み及び保護層70、配線4を形成するプロセスに制約が生まれる。また、後作りトレンチは配線4が形成された後にトレンチを形成するので配線4を断線させないために、光入射方向からみて光検出素子1を完全に囲むことはできなくなるが、製造上簡便にできる。第1の実施形態に係る光検出器は、後作りトレンチであるが、後作りトレンチだけと限定されず、前作りトレンチと後作りトレンチの両方に適用可能である。
図6は、トレンチを用いた一般の光検出器を示す図である。
図6に示すように、一般の光検出器は、光検出素子1毎にトレンチ3がBのよう囲むようにして形成されている。この構造であると、一つの光検出素子1にて発生したキャリア及び2次光子による影響を最低限に抑える効果はあるが、トレンチ3と配線4を設けるために複数の光検出素子1の間の距離を大きくとらなければならず、光検出素子1の開口率を低下させてしまう。また、光検出器全体に対して、トレンチ3の割合が大きくなるために、トレンチ加工時におこる欠陥による余剰ノイズが大きくなってしまう。
一方で、第1の実施形態に係る光検出器は、光検出素子2個を囲むようにトレンチ3が形成されている。一つの光検出素子1毎にトレンチ3で囲む一般構造に比べ、光検出素子1にて発生したキャリア及び2次光子による影響を抑える効果はほぼ同じか少し劣るが、隣接する2つの光検出素子1の間にトレンチ3と配線4を同時に設ける必要がない。したがって、第1の実施形態に係る光検出器は、一般の光検出器よりも開口率を向上させることができる。また、第1の実施形態に係る光検出器は、一般の光検出器よりも光検出器全体に対して、トレンチ3の割合を小さくできる。したがって、トレンチ加工時におこる欠陥による余剰ノイズを抑えることができる。開口率が大きく、余剰ノイズを抑えることで高感度な光検出器を実現する。
(変形例)
図7は、第1の実施形態に係る光検出器の変形例1を示す図である。
第1の実施形態に係る光検出器の変形例1は、十字のトレンチ3を形成して、延伸方向及び延伸方向と直交する方向に並んだ4つの光検出素子1を囲んでいる。
図7の例では、延伸方向に2つ、延伸方向と直交する方向に2つの4つの光検出素子1をトレンチ3で囲んでいるが、4つだけでなく2m(mは整数)倍個の光検出素子1をトレンチ3で囲めばよい。
第1の実施形態に係る光検出器の変形例1は、第1の実施形態に係る光検出器よりも光検出器全体に対して、トレンチ3の割合を小さくできる。したがって、トレンチ加工時におこる欠陥による余剰ノイズをさらに抑えることができる。
図8は、第1の実施形態に係る光検出器の変形例2を示す図である。
第1の実施形態に係る光検出器の変形例2は、延伸方向と直交する方向に並んだ4つの光検出素子1をトレンチ3で囲んでいる。
図8の例では、4つの光検出素子1をトレンチ3で囲んでいるが、4つだけでなく2m(mは整数)倍個の光検出素子1をトレンチ3で囲めばよい。
第1の実施形態に係る光検出器の変形例2は、第1の実施形態に係る光検出器の変形例1の効果を得る。また、長方形状に並んだ複数の光検出素子1を囲むことで、末端同士の光検出素子1の距離が大きくすることができ、クロストークによる余剰ノイズを低減することが可能である。
なお、図面に示した第1の実施形態に係る光検出素子は、光入射側からみて、四角形であったが、多角形又は円形の光検出素子であっても同様の効果を得る。
また、第1の実施形態では、トレンチ3で2m(mは正の整数)個の光検出素子を囲んだが、これに限定されない。例えばトレンチ3で3m(mは正の整数)個の光検出素子を囲んでも上述した同様の効果を得る。
(第2の実施形態)
図9に本実施形態に係るライダー(Laser Imaging Detection and Ranging:LIDAR)装置5001を示す。
この実施形態は、ライン光源、レンズと構成され長距離被写体検知システム(LIDAR)などに応用できる。ライダー装置5001は、対象物501に対してレーザ光を投光する投光ユニットTと、対象物501からのレーザ光を受光しレーザ光が対象物501までを往復してくる時間を計測し距離に換算する受光ユニットR(光検出システムともいう)と、を備えている。
投光ユニットTにおいて、レーザ光発振器(光源ともいう)304はレーザ光を発振する。駆動回路303は、レーザ光発振器304を駆動する。光学系305は、レーザ光の一部を参照光として取り出し、そのほかのレーザ光をミラー306を介して対象物501に照射する。ミラーコントローラ302は、ミラー306を制御して対象物501にレーザ光を投光する。ここで、投光とは、光を当てることを意味する。
受光ユニットRにおいて、参照光用検出器309は、光学系305によって取り出された参照光を検出する。光検出器310は、対象物500からの反射光を受光する。距離計測回路308は、参照光用光検出器309で検出された参照光と光検出器310で検出された反射光に基づいて、対象物501までの距離を計測する。画像認識システム307は、距離計測回路308で計測された結果に基づいて、対象物501を認識する。
ライダー装置5001は、レーザ光が対象物501までを往復してくる時間を計測し距離に換算する光飛行時間測距法(Time of Flight)を採用している。ライダー装置5001は、車載ドライブ−アシストシステム、リモートセンシング等に応用される。光検出器310として上述した実施形態の光検出器を用いると、特に近赤外線領域で良好な感度を示す。このため、ライダー装置5001は、人が不可視の波長帯域への光源に適用することが可能となる。ライダー装置5001は、例えば、車向け障害物検知に用いることができる。
なお、光検出器310および光源304のセットを複数設け、その配置関係を前もってソフトウェア(回路でも代替可)に設定しておくことが好ましい。光検出器310および光源304のセットの配置関係は、例えば、等間隔で設けられることが好ましい。それにより、各々の光検出器310の出力信号を補完しあうことにより、正確な3次元画像を生成することができる。
図10は、本実施形態に係るライダー装置を備えた車の上面略図である。
本実施形態に係る車700は、車体710の4つの隅にライダー装置5001を備えている。
本実施形態に係る車は、車体の4つの隅にライダー装置を備えることで、車の全方向の環境をライダー装置によって検出することができる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。この実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。この実施形態やその変形は、説明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
1・・光検出素子、2・・非光検出領域、3・・トレンチ、4・・配線、5・・p型半導体層、9・・裏面電極、11・・高濃度p型基板、12・・エピ層、40・・n型半導体層、70・・保護層

Claims (9)

  1. 複数の光検出素子と、
    前記複数の光検出素子の間に設けられるトレンチと、
    前記複数の光検出素子の内、2つの光検出素子の間に設けられ、前記2つの光検出素子と電気的に接続する配線と、を具備し、
    前記トレンチは、前記2つの光検出素子を含む2m(mは正の整数)個の光検出素子を囲み、
    前記配線の延伸方向と直交する方向に前記2つの光検出素子が並ぶ光検出器。
  2. 前記延伸方向と直交する方向に前記2m個の光検出素子が並ぶ請求項1に記載の光検出器。
  3. 前記トレンチの側壁に絶縁膜又は金属膜を有する請求項1又2に記載の光検出器。
  4. 前記トレンチは、絶縁材料又は金属で充填される請求項1又2に記載の光検出器。
  5. 複数の光検出素子と、
    前記複数の光検出素子の間に設けられ、少なくとも2つの光検出素子を囲むトレンチと、を具備する光検出器。
  6. 請求項1から5のいずれか1項に記載の光検出器と、
    前記光検出器の出力信号から光の飛行時間を算出する距離計測回路と、
    を備える光検出システム。
  7. 物体に光を照射する光源と、
    前記物体に反射された光を検出する請求項6に記載の光検出システムと、
    を備えるライダー装置。
  8. 前記光源と前記光検出器の配置関係に基づいて、三次元画像を生成する手段と、
    を備える請求項7に記載のライダー装置。
  9. 車体の4つの隅に請求項7又は8に記載のライダー装置を備える車。
JP2018136849A 2018-07-20 2018-07-20 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車 Active JP7039411B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018136849A JP7039411B2 (ja) 2018-07-20 2018-07-20 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車
US16/288,991 US11346953B2 (en) 2018-07-20 2019-02-28 Photo detector, photo detection system, lidar device and vehicle

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018136849A JP7039411B2 (ja) 2018-07-20 2018-07-20 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2020013950A true JP2020013950A (ja) 2020-01-23
JP7039411B2 JP7039411B2 (ja) 2022-03-22

Family

ID=69161753

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018136849A Active JP7039411B2 (ja) 2018-07-20 2018-07-20 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車

Country Status (2)

Country Link
US (1) US11346953B2 (ja)
JP (1) JP7039411B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN113437173A (zh) * 2020-03-23 2021-09-24 株式会社东芝 光检测器、光检测系统、激光雷达装置及车
JP2021150359A (ja) * 2020-03-17 2021-09-27 株式会社東芝 光検出素子、光検出システム、ライダー装置、および移動体
JP2022107240A (ja) * 2021-01-08 2022-07-21 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、移動体及び車
US11398544B2 (en) 2019-09-18 2022-07-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, and vehicle
JP2022109009A (ja) * 2021-01-14 2022-07-27 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体
US11598858B2 (en) 2019-08-29 2023-03-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, and vehicle
US11693114B2 (en) 2020-09-18 2023-07-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Distance measuring device
US12034091B2 (en) 2020-08-20 2024-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, LIDAR device, and moving body

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7446061B2 (ja) * 2018-04-06 2024-03-08 キヤノン株式会社 撮像装置及び撮像システム
CN117476800B (zh) * 2023-12-27 2024-04-09 上海铭锟半导体有限公司 硅基光电探测器及其制备方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017033962A (ja) * 2015-07-28 2017-02-09 株式会社東芝 光検出器およびこれを用いたライダー装置
JP2017045873A (ja) * 2015-08-27 2017-03-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US20170170216A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Image sensor and method of manufacturing the same
WO2018055449A2 (en) * 2016-09-20 2018-03-29 Innoviz Technologies Ltd. Lidar systems and methods
US20180204961A1 (en) * 2017-01-18 2018-07-19 SK Hynix Inc. Image sensor having light refractive patterns

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2985691B2 (ja) 1994-03-23 1999-12-06 株式会社デンソー 半導体装置
JP2998662B2 (ja) 1996-11-15 2000-01-11 日本電気株式会社 半導体装置
JP3876496B2 (ja) 1997-09-13 2007-01-31 株式会社ニコン 固体撮像装置
JP2000101028A (ja) 1998-09-28 2000-04-07 Oki Electric Ind Co Ltd 半導体装置
JP4062517B2 (ja) 2003-02-20 2008-03-19 旭化成エレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
US20040190377A1 (en) 2003-03-06 2004-09-30 Lewandowski Robert Stephen Method and means for isolating elements of a sensor array
US7851860B2 (en) 2004-03-26 2010-12-14 Honeywell International Inc. Techniques to reduce substrate cross talk on mixed signal and RF circuit design
US7307327B2 (en) 2005-08-04 2007-12-11 Micron Technology, Inc. Reduced crosstalk CMOS image sensors
JP4618064B2 (ja) 2005-09-12 2011-01-26 ソニー株式会社 半導体装置およびその製造方法
US7652257B2 (en) 2007-06-15 2010-01-26 General Electric Company Structure of a solid state photomultiplier
KR20100025107A (ko) 2008-08-27 2010-03-09 크로스텍 캐피탈, 엘엘씨 에어갭을 구비한 샐로우 트렌치 소자분리구조, 이를 이용한시모스 이미지 센서 및 그 제조방법
JP2010103316A (ja) 2008-10-23 2010-05-06 Sharp Corp 固体撮像装置およびその製造方法、並びに電子情報機器
JP5726005B2 (ja) 2010-08-02 2015-05-27 アイメックImec Cmos撮像装置アレイの製造方法
KR101797014B1 (ko) * 2011-09-14 2017-11-14 삼성전자주식회사 3차원 이미지 센서의 단위 픽셀
JP2015012043A (ja) 2013-06-26 2015-01-19 株式会社東芝 撮像装置およびその製造方法
JP2015084392A (ja) * 2013-10-25 2015-04-30 浜松ホトニクス株式会社 光検出器
CN114910884A (zh) * 2015-10-06 2022-08-16 日本先锋公司 信息处理装置、信息处理方法和程序
WO2018207340A1 (ja) * 2017-05-12 2018-11-15 オリンパス株式会社 固体撮像装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017033962A (ja) * 2015-07-28 2017-02-09 株式会社東芝 光検出器およびこれを用いたライダー装置
JP2017045873A (ja) * 2015-08-27 2017-03-02 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法および半導体装置
US20170170216A1 (en) * 2015-12-15 2017-06-15 Samsung Electronics Co., Ltd. Image sensor and method of manufacturing the same
WO2018055449A2 (en) * 2016-09-20 2018-03-29 Innoviz Technologies Ltd. Lidar systems and methods
US20180204961A1 (en) * 2017-01-18 2018-07-19 SK Hynix Inc. Image sensor having light refractive patterns

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11598858B2 (en) 2019-08-29 2023-03-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, and vehicle
US11398544B2 (en) 2019-09-18 2022-07-26 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, and vehicle
JP2021150359A (ja) * 2020-03-17 2021-09-27 株式会社東芝 光検出素子、光検出システム、ライダー装置、および移動体
JP7441086B2 (ja) 2020-03-23 2024-02-29 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び車
JP2021150563A (ja) * 2020-03-23 2021-09-27 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び車
CN113437173A (zh) * 2020-03-23 2021-09-24 株式会社东芝 光检测器、光检测系统、激光雷达装置及车
US12034091B2 (en) 2020-08-20 2024-07-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, LIDAR device, and moving body
US11693114B2 (en) 2020-09-18 2023-07-04 Kabushiki Kaisha Toshiba Distance measuring device
JP2022107240A (ja) * 2021-01-08 2022-07-21 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、移動体及び車
US11996419B2 (en) 2021-01-08 2024-05-28 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, mobile body, and vehicle
JP7531408B2 (ja) 2021-01-08 2024-08-09 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、移動体及び車
US12009442B2 (en) 2021-01-14 2024-06-11 Kabushiki Kaisha Toshiba Light detector, light detection system, lidar device, and moving body
JP2022109009A (ja) * 2021-01-14 2022-07-27 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体
JP7515422B2 (ja) 2021-01-14 2024-07-12 株式会社東芝 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体

Also Published As

Publication number Publication date
US20200025934A1 (en) 2020-01-23
US11346953B2 (en) 2022-05-31
JP7039411B2 (ja) 2022-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7039411B2 (ja) 光検出器、光検出システム、ライダー装置及び車
US10681292B2 (en) Image sensor, image capturing system, and production method of image sensor
JP5518667B2 (ja) 距離センサ及び距離画像センサ
KR102342233B1 (ko) 거리 센서 및 거리 화상 센서
JP2017075906A (ja) 測距装置
US11189746B2 (en) Photodetector comprising dual cells with different thickness of interposing substrates, photodetection device, laser imaging detection and ranging apparatus and method of manufacturing a photodetector
JP2022049838A (ja) 光検出器及び距離測定装置
US10879415B2 (en) Photodetector, photodetection system, lidar apparatus, vehicle, and method of manufacturing photodetector
US20220310866A1 (en) Light detector
JP2012083215A (ja) 距離センサ及び距離画像センサ
US20190157479A1 (en) Photodetection element, photodetector, photodetection system and laser imaging detection and ranging apparatus
US10782428B1 (en) Light receiving device and distance measuring apparatus
JP2022169968A (ja) 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体
JP6862386B2 (ja) 光検出器、ライダー装置、及び光検出器の製造方法
US20220278155A1 (en) Photoelectric conversion element, image sensing device, and imaging system
US20180372872A1 (en) Photodetector, method of manufacturing photodetector, and lidar apparatus
US20190088812A1 (en) Photodetection element, photodetector and laser imaging detection and ranging apparatus
US11139326B2 (en) Photodetector, photodetection device, laser imaging detection and ranging apparatus
JP6847878B2 (ja) 光検出器、光検出装置及びライダー装置
JP2021150359A (ja) 光検出素子、光検出システム、ライダー装置、および移動体
JP7515422B2 (ja) 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体
JP7414776B2 (ja) 光検出器、光検出システム、ライダー装置、及び移動体
US20220254945A1 (en) Low-power photonic demodulator
JP2012083219A (ja) 距離センサ及び距離画像センサ

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20180831

RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20190125

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200227

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210125

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210305

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210419

RD07 Notification of extinguishment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7427

Effective date: 20210618

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210820

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20211018

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20220208

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20220309

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7039411

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151