JP2019218623A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2018-0068493 | 2018-06-15 | ||
KR1020180068493A KR101965102B1 (ko) | 2018-06-15 | 2018-06-15 | 성막장치, 성막방법 및 전자 디바이스 제조방법 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019218623A JP2019218623A (ja) | 2019-12-26 |
JP2019218623A5 true JP2019218623A5 (zh) | 2022-01-06 |
JP7262212B2 JP7262212B2 (ja) | 2023-04-21 |
Family
ID=66166997
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018221606A Active JP7262212B2 (ja) | 2018-06-15 | 2018-11-27 | 成膜装置、成膜方法および電子デバイスを製造する方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7262212B2 (zh) |
KR (1) | KR101965102B1 (zh) |
CN (1) | CN110607504B (zh) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111676454B (zh) * | 2020-08-04 | 2023-09-05 | 光驰科技(上海)有限公司 | 一种节省真空镀膜室内空间的蒸发源配置结构及其设计方法 |
CN112538605B (zh) * | 2020-12-03 | 2024-05-14 | 福建华佳彩有限公司 | 一种蒸镀设备 |
CN112626462B (zh) * | 2020-12-11 | 2023-05-30 | 江苏集萃有机光电技术研究所有限公司 | 一种蒸镀源供料装置及蒸镀源供料方法 |
JP7314210B2 (ja) | 2021-06-30 | 2023-07-25 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット |
JP2023006678A (ja) | 2021-06-30 | 2023-01-18 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置及び成膜方法 |
JP7314209B2 (ja) | 2021-06-30 | 2023-07-25 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び蒸発源ユニット |
JP2023035655A (ja) | 2021-09-01 | 2023-03-13 | キヤノントッキ株式会社 | 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法 |
CN114150273A (zh) * | 2021-12-06 | 2022-03-08 | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 | 蒸镀装置及蒸镀方法 |
CN115110037B (zh) * | 2022-06-23 | 2024-01-12 | 北海惠科半导体科技有限公司 | 蒸发镀膜装置的镀膜方法和蒸发镀膜装置 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4177021B2 (ja) | 2002-04-25 | 2008-11-05 | 東北パイオニア株式会社 | 蒸着装置の制御方法及び蒸着装置 |
JP2005029895A (ja) * | 2003-07-04 | 2005-02-03 | Agfa Gevaert Nv | 蒸着装置 |
KR100671673B1 (ko) | 2005-03-09 | 2007-01-19 | 삼성에스디아이 주식회사 | 다중 진공증착장치 및 제어방법 |
JP4762763B2 (ja) | 2006-03-10 | 2011-08-31 | 富士フイルム株式会社 | 真空蒸着装置 |
KR101323029B1 (ko) * | 2006-12-26 | 2013-10-29 | 엘지디스플레이 주식회사 | 리볼버를 포함하는 증착 장치 |
KR101104802B1 (ko) * | 2009-05-06 | 2012-01-12 | (주)알파플러스 | 하향식 노즐형 진공 증발원 장치 및 이를 이용한 하향식 노즐형 진공 증착 장치 |
JP5346268B2 (ja) | 2009-10-09 | 2013-11-20 | 株式会社アルバック | 蒸着装置及び蒸着方法 |
KR20130045432A (ko) * | 2011-10-26 | 2013-05-06 | 주식회사 탑 엔지니어링 | 회전식 증착 장치 |
CN103305803B (zh) * | 2013-05-23 | 2015-05-20 | 四川虹视显示技术有限公司 | 基于温度控制系统的oled有机层蒸镀温度控制方法 |
CN103526164B (zh) * | 2013-10-23 | 2015-09-09 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种蒸镀设备 |
KR101562275B1 (ko) * | 2014-05-30 | 2015-10-22 | 주식회사 선익시스템 | 증착장치 |
WO2016082874A1 (en) * | 2014-11-26 | 2016-06-02 | Applied Materials, Inc. | Crucible assembly for evaporation purposes |
JP2017088976A (ja) * | 2015-11-13 | 2017-05-25 | 神港精機株式会社 | 多元系被膜形成装置および多元系被膜形成方法 |
CN107177821B (zh) * | 2017-06-12 | 2019-04-23 | 京东方科技集团股份有限公司 | 坩埚装置 |
CN107604317B (zh) * | 2017-09-21 | 2019-11-26 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸镀坩埚以及蒸镀装置 |
CN107815648B (zh) * | 2017-09-26 | 2019-11-05 | 上海升翕光电科技有限公司 | 一种线性蒸发源装置及蒸镀设备 |
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2018
- 2018-06-15 KR KR1020180068493A patent/KR101965102B1/ko active IP Right Grant
- 2018-11-27 JP JP2018221606A patent/JP7262212B2/ja active Active
- 2018-12-20 CN CN201811562201.5A patent/CN110607504B/zh active Active
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