JP2019212672A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2019212672A5
JP2019212672A5 JP2018104910A JP2018104910A JP2019212672A5 JP 2019212672 A5 JP2019212672 A5 JP 2019212672A5 JP 2018104910 A JP2018104910 A JP 2018104910A JP 2018104910 A JP2018104910 A JP 2018104910A JP 2019212672 A5 JP2019212672 A5 JP 2019212672A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
diffraction grating
order
diffracted
detection
pole
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018104910A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2019212672A (ja
JP7182904B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2018104910A priority Critical patent/JP7182904B2/ja
Priority claimed from JP2018104910A external-priority patent/JP7182904B2/ja
Priority to US16/422,701 priority patent/US10777440B2/en
Priority to KR1020190063076A priority patent/KR102507709B1/ko
Priority to CN201910465808.XA priority patent/CN110553583B/zh
Publication of JP2019212672A publication Critical patent/JP2019212672A/ja
Publication of JP2019212672A5 publication Critical patent/JP2019212672A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7182904B2 publication Critical patent/JP7182904B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018104910A 2018-05-31 2018-05-31 検出装置、インプリント装置、平坦化装置、検出方法及び物品製造方法 Active JP7182904B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018104910A JP7182904B2 (ja) 2018-05-31 2018-05-31 検出装置、インプリント装置、平坦化装置、検出方法及び物品製造方法
US16/422,701 US10777440B2 (en) 2018-05-31 2019-05-24 Detection device, imprint apparatus, planarization device, detection method, and article manufacturing method
KR1020190063076A KR102507709B1 (ko) 2018-05-31 2019-05-29 검출 장치, 임프린트 장치, 평탄화 장치, 검출 방법 및 물품 제조 방법
CN201910465808.XA CN110553583B (zh) 2018-05-31 2019-05-31 检测设备、方法、压印装置、平坦化设备和物品制造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018104910A JP7182904B2 (ja) 2018-05-31 2018-05-31 検出装置、インプリント装置、平坦化装置、検出方法及び物品製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019212672A JP2019212672A (ja) 2019-12-12
JP2019212672A5 true JP2019212672A5 (enExample) 2021-12-09
JP7182904B2 JP7182904B2 (ja) 2022-12-05

Family

ID=68694230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018104910A Active JP7182904B2 (ja) 2018-05-31 2018-05-31 検出装置、インプリント装置、平坦化装置、検出方法及び物品製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10777440B2 (enExample)
JP (1) JP7182904B2 (enExample)
KR (1) KR102507709B1 (enExample)
CN (1) CN110553583B (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6849365B2 (ja) * 2016-09-29 2021-03-24 キヤノン株式会社 光造形装置、光造形方法および光造形プログラム
JP6833431B2 (ja) * 2016-09-29 2021-02-24 キヤノン株式会社 光造形装置、光造形方法および光造形プログラム
JP6786332B2 (ja) 2016-09-29 2020-11-18 キヤノン株式会社 光造形装置、光造形方法および光造形プログラム
JP7257853B2 (ja) * 2019-04-02 2023-04-14 キヤノン株式会社 位置検出装置、露光装置および物品製造方法
CN110954980A (zh) * 2019-12-31 2020-04-03 嘉兴驭光光电科技有限公司 具有保护盖板的衍射光学器件及其制备方法
US11243071B2 (en) * 2020-02-03 2022-02-08 The Boeing Company Sub-surface patterning for diffraction-based strain measurement and damage detection in structures
US11512948B2 (en) * 2020-05-26 2022-11-29 Kla Corporation Imaging system for buried metrology targets
JP7614858B2 (ja) * 2021-01-26 2025-01-16 キヤノン株式会社 検出装置、リソグラフィ装置、および物品製造方法

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62172203A (ja) * 1986-01-27 1987-07-29 Agency Of Ind Science & Technol 相対変位測定方法
WO1996038706A1 (en) * 1995-05-31 1996-12-05 Massachusetts Institute Of Technology Interferometric broadband imaging
US5808742A (en) * 1995-05-31 1998-09-15 Massachusetts Institute Of Technology Optical alignment apparatus having multiple parallel alignment marks
KR20060014063A (ko) * 2003-05-28 2006-02-14 가부시키가이샤 니콘 위치 정보 계측 방법 및 장치, 그리고 노광 방법 및 장치
KR100740995B1 (ko) 2006-07-26 2007-07-20 한국기계연구원 나노 임프린트 공정에서 원형 모아레를 이용한 기판정렬장치
NL1036245A1 (nl) * 2007-12-17 2009-06-18 Asml Netherlands Bv Diffraction based overlay metrology tool and method of diffraction based overlay metrology.
CN101329514B (zh) * 2008-07-29 2011-06-29 上海微电子装备有限公司 一种用于光刻设备的对准系统及对准方法
CN101639630B (zh) * 2009-08-14 2011-04-20 中国科学院光电技术研究所 一种投影光刻中的同轴对准系统
NL2006454A (en) 2010-05-03 2011-11-07 Asml Netherlands Bv Imprint lithography method and apparatus.
US8842294B2 (en) 2011-06-21 2014-09-23 Canon Kabushiki Kaisha Position detection apparatus, imprint apparatus, and position detection method
JP5706861B2 (ja) 2011-10-21 2015-04-22 キヤノン株式会社 検出器、検出方法、インプリント装置及び物品製造方法
JP6196830B2 (ja) * 2013-07-22 2017-09-13 太陽誘電株式会社 変位計測装置及び変位計測方法
CN104460247A (zh) * 2013-09-18 2015-03-25 上海微电子装备有限公司 对准装置及方法
JP6341883B2 (ja) 2014-06-27 2018-06-13 キヤノン株式会社 位置検出装置、位置検出方法、インプリント装置及び物品の製造方法
NL2014956A (en) * 2014-07-16 2016-04-12 Asml Netherlands Bv Lithographic Method and Apparatus.
CN105988309B (zh) * 2015-02-26 2019-01-18 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种用于光刻设备的对准装置及对准方法
CN104614955B (zh) * 2015-03-06 2017-01-11 中国科学院光电技术研究所 一种复合光栅纳米光刻自动对准系统
JP2017010962A (ja) 2015-06-16 2017-01-12 株式会社東芝 デバイス基板およびデバイス基板の製造方法並びに半導体装置の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2019212672A5 (enExample)
CN105954977B (zh) 全息光栅制作装置、曝光干涉条纹相位稳定装置及方法
CN105222705B (zh) 位置检测装置、位置检测方法、压印装置及物品的制造方法
JP5858995B2 (ja) 大きな焦点深度による、周期的パターンの印刷方法および印刷装置
TWI344060B (en) Displacement measurement system, lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4724495B2 (ja) 光学式エンコーダ
JP2013030757A5 (enExample)
CN101726779B (zh) 一种制作全息双闪耀光栅的方法
US8368871B2 (en) Lithographic fabrication of general periodic structures
IL292787A (en) A diffraction-based metrology coverage tool and method
JP2004069702A5 (enExample)
CN103403621A (zh) 用于在大面积上产生纳米结构的系统和方法
JP2006514441A5 (enExample)
JP7182904B2 (ja) 検出装置、インプリント装置、平坦化装置、検出方法及び物品製造方法
JP2013102139A5 (enExample)
WO2010013052A3 (en) Exposure apparatus and methods
JP3735441B2 (ja) 露光装置
CN101639630A (zh) 一种投影光刻中的同轴对准系统
JP2009302155A5 (enExample)
Shimizu et al. Design optimization of a non-orthogonal two-axis Lloyd's mirror interferometer for fabrication of large-area two-dimensional scale gratings
CN101103442A (zh) 曝光方法、电子元件制造方法、曝光装置及照明光学装置
JP7057094B2 (ja) 位置検出装置、インプリント装置および、物品製造方法
CN111780688A (zh) 一种线结构光投影装置及轮廓测量方法
JP3314414B2 (ja) ホログラフィック露光装置調整方法
JP2010045360A (ja) 回折光学素子、リソグラフィ装置及び半導体デバイスの製造方法