JP2019161157A - プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】被処理基体であるウェハの処理の効率を向上させ、処理のスループットを上げることを可能にするプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】プラズマ処理装置100は、真空容器101と、真空容器の内部で試料を載置する試料台110と、真空容器の内部を排気する排気部120と、真空容器の内部に処理ガスを供給するガス供給部140と、真空容器の内部に高周波電力を印加する高周波電力印加部130と、試料台に載置された試料に真空容器の外部から赤外光を照射する照射部151と、排気部とガス供給部と高周波電力印加部と照射部とを制御する制御部160とを備える。制御部は、照射部で試料台に載置された試料に赤外光を照射しているときに、温度計測部で計測した温度に基づいて照射部から試料に照射する赤外光の強度を制御する。更に、試料台の試料を載置する面の温度を計測する温度計測部163を備える。【選択図】図1
Description
本発明は、プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置に係り、特にプラズマを用いて試料を原子層レベルの精度でエッチング処理するのに適したプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置に関する。
半導体集積回路は、回路性能の向上とメモリ容量の増加というニーズに対応するために、集積回路の微細化と三次元化が進められている。集積回路をより微細化することに伴い、より高いアスペクト比を有する回路パターンを形成することが求められる。この高アスペクト比を有する回路パターンを安定して形成するために、半導体製造プロセスには、従来のウェット洗浄・除去技術に代わって、ドライ洗浄・除去技術が求められる。
このドライ洗浄・除去技術の一つとして、例えば特許文献1に記載されているような、原子層レベルの制御性でパターンを形成する加工技術の開発が進められている。このような原子層レベルの制御性でパターンを形成する加工技術としてALE(Atomic Level Etching)という技法が開発されているが、特許文献1には、エッチャントガスを被処理体に吸着させた状態でマイクロ波を供給して希ガス(Arガス)による不活性ガスの低電子温度のプラズマを発生させ、この希ガスの活性化によって発生する熱によってエッチャントガスと結合している被処理基体の構成原子を、結合を切断することなく被処理体から分離させることにより被処理体を原子層レベルでエッチング処理する技術が記載されている。
また、特許文献2には、赤外光照射を用いた吸着離脱式のエッチング装置として、減圧可能な真空容器と、この真空容器内部の処理室内側に配置され活性種を生成するラジカル源と、処理室内においてラジカル源の下方に配置されウェハが上面に載置されるウェハステージと、処理室内のラジカル源とウェハステージとの間に配置されウェハを加熱するランプユニットとを備え、処理室内のランプユニットの外周側及び中央部に配置され活性種が下方に流れる流路と、ラジカル源の中央部分及び外周側部分に処理用ガスを供給する複数のガス供給手段からのガスの供給を調節する制御ユニットとを備えたプラズマ処理装置が記載されている。
一方、このALE法により被処理体を原子層レベルでエッチング処理するには、被処理体(ウェハ)の温度を制御することが重要になるが、特許文献3には、温度モニタ用半導体ウェハの熱処理時の温度分布を、処理容器内を大気開放することなく迅速に求める方法について記載されている。
原子層レベルでのエッチングを制御するためには、プラズマによる試料の表面へのダメージをできるだけ小さくし、かつ、エッチング量の制御精度を高くする必要がある。これに対応する方法として、特許文献1および2に記載されているように、エッチャントガスを被処理基体の表面に化学吸着させて、これに熱エネルギーを加えて被処理基体の表面層を離脱させる方法がある。
しかし、特許文献1に記載されている方法では、マイクロ波で活性化した低電子温度の希ガスで被処理基体の表面を加熱する方式であるので、被処理基体の加熱時間を短くして処理のスループットを上げることができないという点で問題がある。
一方、特許文献2に記載されたプラズマ処理装置では、被処理基体の表面の加熱に赤外光を放射するランプを用いているために、このランプに印加する電圧を制御することで、被処理基体であるウェハを比較的短時間で加熱することができる。また、ウェハを加熱するときに比較的高エネルギーの荷電粒子などがウェハの表面に入射することがないので、ウェハの表面にダメージを与えることなくエッチャントガスを吸着して表面層を離脱させることができる。
しかし、被処理基体であるウェハの表面には、それまでに経てきた処理工程に応じて種々な膜が形成されており、また、同じ工程を経てきても表面反射率や熱容量がウェハごとに微妙に変化する場合がある。これにより、ランプから照射する赤外光に対するウェハ表面の反射率、又はウェハの熱吸収率が、ウェハごとに異なってしまう可能性がある。特許文献2に記載されているプラズマ処理装置では、このような点について配慮されておらず、表面の反射率、又は熱吸収率がウェハごとに異なる場合に、それぞれのウェハを最適な温度で処理することが難しい。
本発明は、上記した従来技術の課題を解決して、被処理基体であるウェハの処理の効率を向上させ、処理のスループットを上げることを可能にするプラズマ処理方法およびその装置を提供するものである。
上記した課題を解決するために、本発明では、真空容器と、真空容器の内部で試料を載置する試料台と、真空容器の内部を排気する排気部と、真空容器の内部に処理ガスを供給するガス供給部と、真空容器の内部に高周波電力を印加する高周波電力印加部と、試料台に載置された試料に真空容器の外部から赤外光を照射する照射部と、排気部とガス供給部と高周波電力印加部と照射部とを制御する制御部とを備えたプラズマ処理装置において、試料台の試料を載置する面の温度を計測する温度計測部を更に備え、制御部は、照射部で試料台に載置された試料に赤外光を照射しているときに、温度計測部で計測した温度に基づいて照射部から試料に照射する赤外光の強度を制御するようにした。
また、上記した課題を解決するために、本発明では、プラズマ発生室の内部にガス供給部から処理ガスを供給した状態で高周波電力印加部により高周波電力を印加してプラズマ発生室の内部にプラズマを発生させ、プラズマ発生室の内部に発生させたプラズマにより励起された処理ガスのうちプラズマ発生室に接続している処理室に流入した処理ガスによる励起ガスを処理室の内部で試料台に載置されて所定の温度に冷却された試料の表面に付着させ、励起ガスが付着した試料に照射部から赤外光を照射することにより試料を加熱して試料の表面を1層除去することを繰り返して行うことにより、試料の表面を1層ずつ除去する加工を行うプラズマ処理方法において、励起ガスが付着した試料に照射部から赤外光を照射することを、試料台の試料を載置する面の温度を計測する温度計測部で計測した温度に基づいて照射部から試料に照射する赤外光の強度を制御しながら照射するようにした。
本発明によれば、被処理基体であるウェハの処理の効率を向上させ、処理のスループットを上げることができる。
また、本発明によれば、昇温速度(体積抵抗率)が不明なウェハでも、処理のスループットを低下させることなく、プロセスに最低限必要な温度を所定時間維持することができるようになり、処理の歩留まりを向上させることができるようになった。
本発明は、試料が複数回断続的にランプからの輻射により加熱されて当該試料表面の膜が処理されるプラズマ処理装置に関するものであって、試料を処理する複数回の加熱サイクルのうちの1回目の加熱サイクル中、又は、1回目の加熱サイクルに先立って得られた時間の経過に伴う当該試料の温度変化の情報と、予め取得された同等の構成の試料の温度の時間変化のデータから試料の抵抗率を検出し、以後の加熱サイクルにおいて、検出した抵抗率に対応する試料温度変化を推定して、特定のランプ制御を行うようにしたものである。
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。本実施の形態を説明するための全図において同一機能を有するものは同一の符号を付すようにし、その繰り返しの説明は原則として省略する。
本発明の実施例に係るプラズマ処理装置100の構成を図1に示す。本実施例に係るプラズマ処理装置100は、真空容器101と、真空容器101の内部に配置された試料台110、真空容器101の内部を排気して真空に維持する真空排気装置120、真空容器101の内部に高周波(マイクロ波)電力を供給する高周波電源130、真空容器の内部に処理用のガスを供給するガス供給源140、試料台110に載置された被処理基体であるウェハ200を加熱するランプ151に電力を供給するランプ電源150、プラズマ処理装置100全体を制御する制御部160を備えている。
真空排気装置120は真空容器101の開口部104と接続して、真空容器101の内部を排気し、真空容器101の内部を所定の圧力(真空度)に維持する。高周波電源130で発生させた高周波電力(マイクロ波電力)は、内部が空洞な導波管131の内部を通って、開口部132からで真空容器101の上部のプラズマ発生室102に供給される。また、プラズマ発生室102には、ガス供給源140から、ガス導入管141を通して処理用のガスが供給される。
真空容器101は、プラズマを生成するプラズマ発生室102と、プラズマ発生室102の下部にあって、内部に試料台110が設置されている処理室103とを備えている。試料台110の上面には被処理基体であるウェハ200が載置される。プラズマ発生室102と処理室103との境界部分には、石英(SiO2)で形成されたプレート105が設置されている。プレート105には、スリット106が多数形成されている。
このプレート105に形成された多数のスリット106は、プラズマ発生室102で発生したプラズマが処理室103の側に流れるのを防止する程度の寸法で形成されており、プラズマ発生室102から処理室103へは、プラズマ発生室102で発生したプラズマによって励起された処理ガスが流れ出る。
ランプ151は、真空容器101の外部に、真空容器101を取り巻くようにして配置され、その周りを防護板152で覆われている。ランプ151から処理室103の内部の試料台110に載置されたウェハ200を俯瞰する面に対応する真空容器101の部分には、ランプ151で発生した赤外線を透過する石英の窓部153が形成されている。
このような構成とすることにより、真空容器101の外部に配置されたランプ151により、処理室103の内部の試料台110に載置されたウェハ200を加熱することができる。また、このとき、ランプ電源150からランプ151に印加する電力を調整することにより、ウェハ200を加熱する温度を制御することができる。
試料台110の構成を、図2に示す。
試料台110の内部には、試料台110に載置したウェハ200の裏面に冷却用のガスを供給するためのガス供給管111が埋設されている。ガス供給管111は、処理室103の外部で、冷却用のガスの流量を制御するガス流量制御部161と接続しており、ウェハ200の裏面に供給する冷却用ガスの流量が調整される。
試料台110の内部には、試料台110に載置したウェハ200の裏面に冷却用のガスを供給するためのガス供給管111が埋設されている。ガス供給管111は、処理室103の外部で、冷却用のガスの流量を制御するガス流量制御部161と接続しており、ウェハ200の裏面に供給する冷却用ガスの流量が調整される。
また、試料台110の内部には、試料台110を冷却するための冷媒が流れる流路112が形成されており、この流路112に冷媒を供給する供給管113と冷媒を排出する排出管114が接続されている。供給管113と排出管114とは、処理室103の外部で、冷媒温度コントローラ162と接続しており、供給管113からは、温度が調整された冷媒が流路112に供給される。
さらに、試料台110の内部には、ウェハ200を載置する面の温度を計測するための温度センサ115と、この温度センサ115とセンサコントローラ163とを接続する導線116が埋め込まれている。温度センサ115としては、例えば熱電対型の温度センサを用いる。
試料台110の上面には、静電チャック117が形成されている。この静電チャック117は、薄く形成された絶縁膜層118の内部に、薄膜で1対の電極(薄膜電極)119が形成されている構成を有している。この1対の薄膜電極119に、図示していない電源から電力を印加することにより、絶縁膜層118の上面に載置されたウェハ200を、絶縁膜層118の上面に静電気力で吸着することができる。
このようにウェハ200を静電気力で吸着した状態で、ガス供給管111からウェハ200と絶縁膜層118の上面との間に冷却用のガスを供給すると、この供給された冷却用のガスは、ウェハ200の裏面と絶縁膜層118の上面との間に形成された微小な空間を流れて、処理室103の内部に流出し、真空排気装置120により排気される。この、ウェハ200の裏面と絶縁膜層118の上面との間に形成された微小な空間を冷却用のガスが流れることにより、ウェハ200の裏面と絶縁膜層118との間の熱伝達が行われる。ここで、試料台110を、流路112を流れる冷媒により冷却しておくと、ウェハ200の熱は絶縁膜層118を介して試料台の側に流れ、ウェハ200は冷却される。
一方、静電チャック117によるウェハ200の静電吸着を中止した状態で、かつ、ガス供給管111からウェハ200と絶縁膜層118の上面との間への冷却用のガスの供給を中段すると、ウェハ200の裏面と絶縁膜層118との間の熱伝達が行われなくなる。この状態でウェハ200を加熱すると、ウェハ200には熱が蓄積されて、ウェハ200の温度が上昇する。
真空排気装置120、高周波電源130、ガス供給源140、ランプ電源150、ガス流量制御部161、冷媒温度コントローラ162、センサコントローラ163は、制御部160により制御されている。また、制御部160は、静電チャック117の図示していない電源の制御も行う。
このような構成を用いて、ウェハ200の表面に形成された薄膜を原子層レベルでエッチング処理する工程を、図3に示したタイムチャートを用いて説明する。図3の(a)は、プラズマ発生室102の内部におけるプラズマの発生の時間的な変化を示す。図3の(b)は、ランプ電源150からランプ151に電力を供給して、ランプ151を発光させてウェハ200を加熱するランプ加熱の時間的変化を示す。図3の(c)は、試料台110に保持されたウェハ200と試料台110との間に供給する冷却用ガスの供給(ON)と停止(OFF)を行うタイミングを示し、図3の(d)には、温度センサ115で検出された温度の時間的な変化を示している。
まず、図示していない搬送手段を用いて、試料台110の上面にウェハ200を載置し、図示していない電源で静電チャック117を作動させることにより、ウェハ200は、試料台110の上面に保持される。
この状態で、真空排気装置120を作動させて真空容器101の内部を排気し、真空容器101の内部が所定の圧力(真空度)に達した段階で、ガス供給源140を作動させて、ガス導入管141からプラズマ発生室102の内部に、処理用のガスを供給する。このガス導入管141からプラズマ発生室102の内部に供給する処理用のガスの流量、又は真空排気装置120の排気量の何れか又は両方を調整することにより、真空容器101の内部の圧力を予め設定した圧力(真空度)に維持する。
ここで、ウェハ200の表面にシリコン系の薄膜が形成されており、このシリコン系の薄膜をエッチング処理する場合には、ガス供給源140からプラズマ発生室102の内部に供給する処理用のガスとしては、例えばNF3,NH3またはCF系のガスが用いられる。
このように真空容器101の内部の圧力が予め設定した圧力(真空度)に維持された状態で、高周波電源130で発生させた高周波電力(マイクロ波電力)を導波管131の内部を通して、開口部132からプラズマ発生室102に供給する。
高周波電力(マイクロ波電力)が供給されたプラズマ発生室102の内部では、ガス導入管141から供給された処理用のガスが励起されて放電が開始され、プラズマが発生する(図3(a)の放電ON:301の状態)。ここで、プレート105に形成されたスリット106の幅は、プラズマ発生室102の内部に発生したプラズマによりスリット106を形成する両側の壁の部分のそれぞれに本来形成されるシース領域の幅を合計した寸法よりも小さくなるように設定されている。
これにより、このプラズマ発生室102の内部で発生したプラズマは、プレート105に形成されたスリット106を通って処理室103の側に流れようとするが、スリット106を形成する両側の壁の部分に形成されるシース領域を通り抜けることができず、プラズマ発生室102の内部に留まる。
一方、プラズマ発生室102の内部に供給された処理ガスの一部には、プラズマ化したガスにより励起されるがプラズマ化はしていない、いわゆる励起ガス(ラジカル)が存在する。この励起ガスは極性を持たないので、プレート105のスリット106の部分に形成されるシース領域を通り抜けることができ、処理室103の側に供給される。
ここで、プレート105に形成されるスリット106は、スリット106を通過した励起ガス(ラジカル)が、試料台110の上面に保持されているウェハ200の表面に均一に拡散するように、プレート105上の複数の箇所に配置されている。
このとき、ウェハ200は静電チャック117により吸着され、ウェハ200と静電チャック117の表面との間には、ガス供給管111から冷却用のガスが供給されており(図3(c)のON:321の状態)、ウェハ200の温度は、図3の(d)に温度:311で示すように、ウェハ200の表面に吸着された励起ガスがウェハ200の表面層と反応して反応層を形成するがそれ以上に反応が進まないようにさせるのに適した温度(例えば20℃以下)に設定され、維持されている。
この状態で、処理室103の側に供給された励起ガスの一部は、試料台110の上面に保持されているウェハ200の表面に吸着され、ウェハ200の表面層との間で反応層を形成する。
処理室103の側に励起ガスを一定の時間(図3の時刻t0から時刻t1の放電がON:301の間)供給し続けて、ウェハ200の表面に形成されたシリコン系の薄膜の表面の全面に反応層が形成された後、高周波電源130からプラズマ発生室102への高周波電力の供給を遮断して、プラズマ発生室102内部でのプラズマの発生を停止する(図3(a)の放電がOFF:302の状態)。これにより、プラズマ発生室102から処理室103への励起ガスの供給が停止する。
この状態で、ガス供給管111からの冷却用ガスの供給を停止して(図3(c)の冷却ガス供給OFF:322の状態)ウェハ200の冷却を中止する。また、図示していない電源による静電チャック117の作動を停止させて、静電気力によるウェハ200の試料台110の上面への保持を開放する。
一方、ランプ電源150からランプ151に電力を供給して(図3(b)のランプ加熱ON:312の状態)、ランプ151を発光させる。この発光したランプ151からは赤外光が発射され、石英の窓部153を透過した赤外光により、試料台110上に載置されたウェハ200は加熱され、ウェハ200の温度は上昇する(図3(d)のウェハ温度:3321)。
ランプ加熱ON:312の状態を持続させてウェハ200の温度が所定の温度に到達すると、ランプ電源150からランプ151に供給する電力を切替えて低減し、ランプ加熱を313の状態に変更してウェハ200の温度上昇を抑え、ウェハ200の温度が温度:3322のように所定の温度範囲に維持されるように制御する。
このようにランプ151から発射された赤外光で加熱されたウェハ200が所定の温度範囲に一定の時間維持されると(図3(d)の温度:3322の状態)、ウェハ200の表面に形成された反応層を形成する反応性生物がウェハ200の表面から離脱する。その結果、ウェハ200の最表面層が、1層分除去される。
ランプ151によりウェハ200を所定の時間(図3(b)の時刻t1におけるランプ加熱ON:312の開始から時刻t2におけるランプ加熱ON:313の終了までの時間:332)加熱した後、ランプ電源150からランプ151への電力の供給を停止し、ランプ151による加熱を終了する(図3(b)のランプ加熱OFF:314)。
この状態で、図示していない電源から静電チャック117の1対の電極119に電力を印加してウェハ200を静電チャック117に吸着させ、ガス供給管111からの冷却用ガスの供給を開始して(図3(c)の冷却ガス供給ON:323の状態)、ウェハ200と試料台110との間に冷却用ガスを供給する。この供給された冷却ガスにより、流路112を流れる冷媒により冷却されている試料台110とウェハ200との間で熱交換が行われ、図3(d)のウェハ温度:3331の曲線で示すように、ウェハ200の温度が、反応層を形成するのに適した温度になるまで冷却される。
ウェハ200を一定の時間(図3(d)の冷却の時間:333)冷却して、ウェハ200の温度が、ウェハ200の表面に吸着された励起ガスがウェハ200の表面層と反応して反応層を形成するのに適した温度(図3(d)のウェハ温度3332)にまで十分に冷却された状態(図3の時刻t3)で1サイクルを終了する。
本実施例によれば、ウェハ200を加熱している時間:332において、ウェハ200を必要以上に加熱することなく、反応性生物をウェハ200の表面から離脱させるのに必要な温度に維持しているので、ウェハ200の冷却時に、比較的短い時間でウェハ200を表面に吸着された励起ガスが反応層を形成するのに適した温度にまで冷却することができる。これにより、冷却の時間:333を、加熱時のウェハ200の温度を制御しない場合と比べて短くすることができ、1サイクルの時間を短縮して、処理のスループットを上げることができる。
このように、プラズマ発生室102の内部にプラズマを発生させて生成した励起ガスをウェハ200の表面に付着させることから始まり、ランプ151を発光させてウェハ200を加熱し反応性生物がウェハ200の表面から離脱させた後、ウェハ200の温度が反応層を形成するのに適した温度になるまで冷却するまでのサイクルを所定の回数繰り返すことにより、ウェハ200の表面に形成された薄膜層を1層ずつ、所望の層数を除去することができる。
赤外線(IR)ランプ照射エネルギをEo、ウェハ200の表面反射エネルギをEr、ウェハへの吸収エネルギをEa、ウェハの透過エネルギEtとすると、赤外線(IR)ランプ照射エネルギEoは、
E0=Er+Ea+Et
と表される。
E0=Er+Ea+Et
と表される。
また、ランプ151により照射されたエネルギに対するウェハ表面の反射率は、Er/Eoとして、ウェハの吸収率は、Ea/Eoとして、ウェハの透過率は、Et/Eoとして表される。
ここで、実際のウェハ200は、母材シリコンへのドープ金属種や含有量により体積抵抗率が変動し、また、表面に形成された薄膜パターンの形状寸法や状態(表面の反射率、熱容量など)にばらつきが発生する。赤外線ランプから照射される電磁波は、ウェハ母材もしくは薄膜パターンの体積抵抗率や熱容量(膜厚)により、ウェハへの吸収率(や表面の反射率、ウェハの透過率)が変化し、昇温特性(特に昇温速度)が変化する。その結果、ランプ151によるウェハ200の加熱を図3(b)に示したように制御しても、処理するウェハ200ごとの温度が毎回、図3(d)に示すウェハ温度:3321のような上昇カーブ、及びウェハ温度3322に示すような一定の範囲の温度を再現することが難しい。
また、ウェハ200の母材の体積抵抗率が変動し、表面に形成された薄膜パターンの形状寸法や状態(表面の反射率、熱容量など)にばらつきが生じると、試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出した温度から、ランプ151により加熱されている最中のウェハ200の表面の温度を精度よく推定することも難しくなる。
そこで、本実施例においては、処理対象となるウェハ200のうち体積抵抗率が最も大きい(ウェハへの吸収率が小さく、昇温速度が小さい)ものと、最も小さい(ウェハへの吸収率が大きく、昇温速度が大きい)ものとを抽出し、それらのウェハ200について、ランプ151による加熱特性を事前に測定し、その測定結果を用いて処理中のウェハ200の温度を推定するようにした。
ランプ151による加熱特性を測定するには、処理対象となるウェハ200のうち体積抵抗率が最も大きいウェハ210について、図4に示すように複数の点201に熱電対などの温度センサ202を貼り付ける。
この温度センサ202を貼り付けたウェハ210を、図1に示したウェハ200の代わりにプラズマ処理装置の試料台110に載置して、真空排気装置120で処理室103の内部を排気し、真空容器101の内部を所定の圧力(真空度)にする。
真空容器101の内部が所定の圧力(真空度)に維持された状態で、ランプ電源150からランプ151に電力を供給して、ランプ151を発光させる。この発光したランプ151から発射された赤外光のうち、石英の窓部153を透過して処理室103に入射した赤外光により、試料台110上に載置されたウェハ210を加熱する。
このランプ151から発射された赤外光により加熱された状態におけるウェハ210の温度を、ウェハ210に貼り付けた複数の温度センサ202と、試料台110の内部に設置した温度センサ115とで検出し、ランプ151による加熱時間と温度センサ202と温度センサ115とで検出したそれぞれの温度変化の関係を求める。
処理対象となるウェハ200のうち体積抵抗率が最も小さいウェハ220についても同様に、ランプ151による加熱時間と温度センサ202と温度センサ115とで検出したそれぞれの温度変化の関係を求める。
測定して得られた結果の一例を、図5に示す。図5に示すグラフ500は、処理対象となるウェハ200のうち体積抵抗率が最も大きいウェハ210について、ランプ電源150からランプ151に所定の電力(例えば、ランプ151の許容最大印加電力の70%)を供給してランプ151を発光させ、試料台110上に載置されたウェハ210を加熱したときに、ウェハ210に貼り付けた複数の温度センサ202で検出した温度の各時刻における平均値(図5のグラフにおけるTCウェハ温度:501)と、試料台110の内部に設置した温度センサ115とで検出した温度(図5のグラフにおけるPTセンサ温度:520)の時間変化を示している。
このようにして求められたグラフから、ウェハ210の表面に貼り付けた複数の温度センサ202で検出した平均温度の昇温速度(図5のTCウェハ温度:510の曲線の立ち上がり部の角度θ1に相当)と、温度センサ115で検出した昇温速度(図5のPTセンサ温度:520の曲線の立ち上がり部の角度θ2に相当)とを求める。
このような測定を、ランプ電源150からランプ151に印加する電力(ランプ出力)、及び、ウェハ210と試料台110との間に供給する冷却ガス(ヘリウム:He)の圧力をパラメータとして、それらを種々に変化させて、それぞれの条件において図5に示したようなグラフを作成し、制御部160の記憶部1601にデータベースとして記憶させる。
このようにして測定して作成されたデータベースを用いて、試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出した温度から、ウェハ210の表面に貼り付けた複数の温度センサ202で検出されると期待される平均温度を求めることができる。
図6を用いて、この原理を説明する。図6に示した直線610は、図5に示したデータベースに記憶したデータから、体積抵抗率が最も大きいウェハ210と体積抵抗率が最も小さいウェハ220とを選び、これらのウェハ210及び220について求めた昇温速度を結んだ線である。昇温速度は、ランプ151に印加する電力とウェハ210(220)と試料台110との間に供給する冷却ガス(ヘリウム:He)の圧力とをそれぞれある値に設定したときに、ランプ151によるウェハ210の加熱を開始した直後の温度上昇の時間変化から求めた。
すなわち、直線610は、ウェハ210(220)の表面に貼り付けた複数の温度センサ202で検出された温度の平均温度から求めた昇温速度であって、体積抵抗率が最も小さいウェハ220における昇温速度:611と体積抵抗率が最も大きいウェハ210における昇温速度:621とを結んだ線である。
また、直線620は、体積抵抗率が最も小さいウェハ220について、ウェハ220の表面に貼り付けた複数の温度センサ202で昇温速度を求めたときに、同時に、試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出された試料台110の昇温速度:612と、体積抵抗率が最も大きいウェハ220の昇温速度を求めたときに、同時に、試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出された試料台110の昇温速度:623とを結んだ線である。
実際のウェハ200の処理においては、ランプ151でウェハ200を加熱したときに試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出した温度から、昇温温度Aを算出する。次に、図6のグラフにおける直線620上で、昇温速度Aに対応する位置Bを求める。次に、直線620上の位置Bに対応する体積抵抗率Cを求め、この体積抵抗率Cに対応する直線610上の点Dを求める。最後に、直線610上の点Dに対応する昇温速度Eを求め、この求めた昇温速度Eとランプ151によるウェハ200の加熱を開始してから現在までの経過時間から、現時点におけるウェハ200の表面の温度を推定する。
このように、処理対象のウェハ200の中から抽出した特徴的なウェハ(本実施例の場合は、体積抵抗率が最も大きいウェハ210と最も小さいウェハ220)を抽出して、図5で説明したようなデータベースを作成する。次に、図6に示したような昇温速度と体積抵抗率との関係を求めてそれらをデータベースに格納されたデータを参照することにより、実際に処理中のウェハ200をランプ151で加熱中に試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出した温度から、現時点におけるウェハ200の表面の温度を推定することができる。
次に、処理対象のウェハ200の中から抽出した任意のウェハについて本実施例を適用した例を示す。まず、抽出した任意のウェハ200を試料台に載置した状態でランプ151で加熱し、試料台110の内部に設置した温度センサ115で検出した温度の変化から昇温速度を求める。次に、温度センサ115の検出温度から求めた昇温速度に基づいて、図6を用いて説明したステップを踏んで、ウェハ200の表面の昇温速度を求める。
ランプ151で試料台に載置したウェハ200を加熱する場合、加熱開始時にランプ電源150からランプ151に印加する電力は、毎回一定(例えばランプ定格出力の70%)である。ランプ151によりウェハ200が加熱されている状態で、温度センサ115で検出した温度から、先に説明したような、データベースに記憶した温度センサ115の検出温度から求めた昇温速度とウェハ200の表面の昇温速度との関係に基づいてウェハ表面の温度を推定して、ランプ151による加熱を制御する。
図7には、図3の(b)で説明したランプ加熱と(d)で説明したウェハ温度の時間変化のうち、加熱:332に対応するランプ加熱を行う期間とその前後を含めた時間における状態を示す。温度センサ115で検出した温度から推定したウェハ表面の温度に基づいて、ランプ電源150からランプ151に印加する電力(ランプ出力)を制御する。
図7に示した例では、上記した方法で表面の昇温特性を求めたウェハについて、(a)のタイムチャートに示すように、時刻t10でランプ電源150からランプ151への電力の印加を開始してランプ加熱をL0からL1の状態(加熱:711の状態)にして、(b)のタイムチャートに示すように、ウェハ200の温度:731を上昇させる。この加熱:711の状態を持続させて、温度センサ115で検出した温度から推定したウェハ温度:732が予め設定した目標値T10に達した時点(時刻時刻t11)でランプ加熱をL1から切り替え、時刻t12でランプ加熱をL2の状態にまで低減させる(加熱:712)。
次に、ウェハ200の温度が低減し始めたことが検知された時点(時刻t12)でランプ加熱を切替えて、時刻t13の時点でL3のレベルまで上昇させる(加熱:713)。このL3のレベル状態(加熱:714の状態)を時刻t14まで持続させることで、ウェハ200の温度:733が目標値T10に近いT12に維持されて、表面に吸着された励起ガスと反応して形成されたウェハ200の表面の反応層が1層除去される。
時刻t14でランプ151による加熱を中断して、ランプ加熱のレベルをL0にする。時刻t14で、ガス供給管111からウェハ200の裏面に供給する冷却用ガスの流量を変えて、ウェハ200の裏面の冷却ガスの圧力を上昇させる。これにより、流路112を流れる冷媒により冷却されている試料台110とウェハ200との間で熱交換が効率よく行われて、ウェハ200を、励起ガス表面に吸着するのに適した温度T11にまで比較的短時間で冷却することができる。
図8には、図7の場合と比べてウェハの体積抵抗率が大きいウェハを用いた場合の例を示す。このように図7の場合と比べて体積抵抗率が大きいウェハに対して、ランプ加熱を図7の場合と同じように制御して場合、図8の点線で示すように、時刻t11ではウェハ温度が目標値T10と比べて低い状態であり、この時点でランプ加熱をL1から切替えて時刻t12でL2まで低減し、その後t13までの間にL31(図7のL3に相当)に上昇させた場合、ウェハ200の温度は、目標値のT10に対して低いT23に留まってしまう。その結果、ウェハ200の表面に吸着された励起ガスと反応して形成された反応層は、ウェハ200の表面から十分に離脱することができず、その一部はウェハ200の表面に付着したまま残ってしまい、ウェハ表面層の除去を確実に行うことができなくなってしまう。
これに対して、本実施例の方法を用いた場合には、先ず、図7に示した例の場合と同様に、温度センサ115で検出した温度とウェハ表面の温度との関係を調べることにより、温度センサ115で検出した温度に基づいて、図8に実線で示したような、図7に示した場合とは異なるランプ加熱の制御を行うことができ、体積抵抗率が異なるウェハに対しても、表面に吸着された励起がスト反応して形成されたウェハ200の表面の反応層を確実に1層除去することができる。
即ち、図7の場合と比べて体積抵抗率が大きい図8の場合のウェハについて、上記した方法で表面の昇温特性を求め、時刻t10でランプ電源150からランプ151への電力の印加を開始してランプ加熱をL0からL1の状態(加熱:811の状態)にして、ウェハ200の温度:831を上昇させる。この加熱:811の状態を持続させて、温度センサ115で検出した温度から推定したウェハ温度:832が予め設定した目標値T10に達した時点(時刻t21)でランプ加熱をL1から切り替え、時刻t22でランプ加熱をL21の状態にまで低減させる(加熱:812)。次に、ウェハ温度が低減し始めたことが検知された時点(時刻t22)でランプ加熱を切替えて、時刻t23の時点でL31のレベルまで上昇させる(加熱:813)。このL31のレベル状態(加熱:814)を図7の場合と同じ時刻t14まで持続させることで、ウェハ200の温度:833が目標値T10に近いT22に維持されて、表面に吸着された励起ガスと反応して形成されたウェハ200の表面の反応層が1層除去される。
時刻t24でランプ151による加熱を中断して、ランプ加熱のレベルをL0にする。時刻t24で、ガス供給管111からウェハ200の裏面に供給する冷却用ガスの流量を変えてウェハ200の裏面のガス圧力を上昇させることにより、流路112を流れる冷媒により冷却されている試料台110とウェハ200との間で熱交換が効率よく行われて、励起ガス表面に吸着するのに適した温度T21(図7の温度T11に相当)にまで比較的短時間で冷却することができる。
このように、処理対象のウェハについて予め温度センサ115で検出した温度とウェハ表面の温度との関係を調べることにより、所定の時間内で励起ガスと反応して形成されたウェハ200の表面の反応層を1層だけ除去することを、それぞれのウェハに適した加熱条件でウェハの温度制御を行いながら確実に実施することが可能になった。また、反応層除去後のウェハ200の冷却に要する時間を短くすることができ、スループットを低下させることなく確実に処理を行うことができるようになった。
ここで、処理対象のウェハについて予め温度センサ115で検出した温度とウェハ表面の温度との関係を調べる方法としては、繰り返して行われる処理サイクルの最初のサイクルで行う方法と、繰り返して行われる処理サイクルを始める前に固定したシーケンスでウェハを加熱し温度センサ115で検出した温度から処理対象のウェハの昇温速度を同定する方法、または、同一仕様のダミーウェハを用いてウェハを加熱し温度センサ115で検出した温度から処理対象のウェハの昇温速度を推定する方法とが考えられる。
これらの方法のうち、最初の、繰り返して行われる処理サイクルの最初のサイクルで行う方法について、図9を用いて説明する。
図9に示した方法においては、処理サイクルの最初のサイクル921を始めるに準備段階おいて、先ず、静電チャック117の1対の薄膜電極119に図示していない電源から電力を印加することにより、ウェハ200を静電気力で薄膜電極119に吸着する。次に、ガス供給管111から冷却ガスをウェハ200の裏面に供給して、ウェハ温度が励起ガスをウェハ200の表面に吸着させるのに適した温度:900に設定する。この状態で、処理の最初のサイクル921に入る。この最初のサイクル921において、ランプ電源150からランプ151に印加する電力のパターンは、予め設定したパターンを採用する。
すなわち、処理の最初のサイクル921において、時刻t100でプラズマ発生室102で発生させたプラズマにより励起されて処理室103の側に流出した励起ガスを所定の時間ウェハの表面に吸着させる。励起ガスを所定の時間ウェハの表面に吸着させた後、時刻t101でガス供給管111からウェハ200の裏面への冷却ガスの供給量(流量)を加熱時に適した流量に調整し、ランプ電源150からランプ151に予め設定したパターンで電力を印加して、ウェハ200を加熱する。
このランプ151で加熱されたウェハ200の温度は、図9に示す曲線901のように上昇し、予め設定したパターンでランプ151に印加する電力を切替えることにより、ウェハ200の温度は曲線902のようにほぼ一定に維持される。ここで、ウェハ200の温度が曲線901のように上昇している段階において、温度センサ115で検出した試料台110におけるウェハ裏面の温度の変化から昇温速度(図6のAに相当)を求め、この求めた試料台110におけるウェハ裏面の昇温速度の情報から、制御部160の記憶部1601に記憶されたデータベースを用いて、図6を用いて説明した方法によりウェハ200の昇温速度(図6のEに相当)を求める。次に、この求めたウェハ200の昇温速度のデータに基づいて、予め設定したランプ電源150からランプ151に印加する電力のパターンを修正する。
ウェハ処理の2回目のサイクル922以降は、この修正したパターンを用いて実行する。これにより時刻t111(3回目のサイクル923の時刻t121、4回目のサイクル924の時刻t131)から始まる加熱工程におけるウェハ200の温度履歴は、曲線911に示すように温度が上昇し、次にランプ151に印加する電力を切替えることにより曲線912に示すように時刻t112(3回目のサイクル923の時刻t122、4回目のサイクル924の時刻t132)まで一定の温度(図7及び8で説明した目標値T10に近い温度)に維持される。
時刻t112(時刻t121、時刻t131)でランプ151に印加する電力が切断されると同時に、ガス供給管111からウェハ200の裏面に供給する冷却ガスの流量をウェハ200の冷却に適した流量に調整して、ウェハ温度が励起ガスをウェハの表面に吸着させるのに適した温度:900にまで冷却される。ウェハ200が確実に冷却された状態(時刻t120、時刻t130、時刻t140)で、次のウェハ処理サイクル(922以降)を所定の回数実行することにより、ウェハ200の表面に形成された層を、確実に除去することができる。
この方法では、ウェハ処理サイクルの中でウェハ200の昇温速度を求めるので、ウェハ処理のスループットを低下させることなく、確実に表面層を除去することができる。
一方、最初のサイクル921におけるウェハ200の加熱パターンが、その後のサイクルにおけるウェハ200の加熱パターンと異なるために、最初のサイクル921におけるウェハ200の表面層の除去が確実に行われずに、一部に残ってしまう可能性がある。しかし、その後の修正された除去サイクルを繰り返すことにより、最初のサイクル921におけるウェハ200の表面層の除去残りは、無視できるようになる。
次に、繰り返して行われる処理サイクルを始める前に固定したシーケンスでウェハを加熱し温度センサ115で検出した温度から処理対象のウェハの昇温速度を同定する方法について、図10を用いて説明する。
図9で説明した方法と異なるのは、図9の最初のサイクル921に変えて、計測サイクル1020を設けた点である。即ち、図9で説明した最初のサイクル921においては、励起ガスをウェハ200の表面に付着させた状態でウェハ200を加熱して表面層を除去していたが、図10に示した方法では、励起ガスをウェハ200の表面に付着させない状態でウェハ200を加熱して、ウェハ200の昇温特性を求めるようにした。
即ち、図10に示した方法においては、先ず、静電チャック117の1対の薄膜電極119に図示していない電源から電力を印加することにより、ウェハ200を静電気力で静電チャック117に吸着する。次に、ガス供給管111から冷却ガスをウェハ200の裏面に供給してウェハ温度が励起ガスをウェハの表面に吸着させるのに適した温度:1000に設定する。この状態で、計測サイクル1020に入る。この計測サイクル1020において、ランプ電源150からランプ151に印加する電力のパターンは、予め設定したパターン(例えば、図7(a)に示したようなパターン)を採用する。
すなわち、計測サイクル1020において、時刻t201でガス供給管111からウェハ200の裏面へ供給する冷却ガスの流量がウェハ200の裏面の圧力がウェハ200の加熱に適した圧力となるように調整した状態で、ランプ電源150からランプ151に予め設定したパターンで電力を印加して、ウェハ200を加熱する。
このランプ151で加熱されたウェハ200の温度は、図10に示す曲線1001のように上昇し、予め設定したパターンでランプ151に印加する電力を切替えることにより、ウェハ200の温度は曲線1002のようにほぼ一定に維持される。ここで、ウェハ200の温度が曲線1001のように上昇している段階において、温度センサ115で検出した試料台110におけるウェハ裏面の温度の変化から昇温速度(図6のAに相当)を求め、この求めた試料台110におけるウェハ裏面の昇温速度の情報から、制御部160の記憶部1601に記憶されたデータベースを用いて、図6を用いて説明した方法によりウェハ200の昇温速度(図6のEに相当)を求める。次に、この求めたウェハ200の昇温速度のデータを用いて、予め設定したランプ電源150からランプ151に印加する電力のパターンを修正する。
ウェハ処理の1回目のサイクル1021以降は、この修正したパターンを用いて実行する。これにより時刻t211(2回目のサイクル1022の時刻t221、3回目のサイクル1023の時刻t231)から始まる加熱工程におけるウェハ200の温度履歴は、曲線1011に示すように温度が上昇し、次にランプ151に印加する電力を切替えることにより曲線1012に示すように時刻t212(2回目のサイクル1022の時刻t222、3回目のサイクル1023の時刻t232)まで一定の温度(図7及び8で説明した目標値T10又はそれに近い温度)に維持される。
時刻t212でランプ151に印加する電力が切断されると同時に、ガス供給管111から供給する冷却ガスの流量を、ウェハ200の裏面の圧力がウェハ200の冷却に適した圧力となるように調整し、この冷却ガスによりウェハ温度が励起ガスをウェハの表面に吸着させるのに適した温度:1000にまで冷却される。ウェハ200が確実に冷却された状態(時刻t220)で、次のウェハ処理サイクル(1022以降)を所定の回数実行することにより、ウェハ200の表面に形成された層を、確実に除去することができる。
この方法によれば、ウェハの表面層除去のプロセスを伴わずにウェハ200の昇温特性を求めるので、その後のウェハの表面層除去のプロセスにおいて確実に1層ずつ除去することができ、ウェハ表面処理を、除去残りを発生させることなく、高い品質で確実に実行することができる。
同一仕様のダミーウェハを用いてウェハを加熱し温度センサ115で検出した温度から処理対象のウェハの昇温速度を推定する方法については、図5乃至図8を用いて説明した方法と図9で説明した2回目のサイクル922以降のサイクル、又は図10で説明した1回目のサイクル1021以降のサイクルとを組み合わせたものと同じであるので、説明を省略する。
図11に、本実施例に係るプラズマ処理装置100を制御する制御部160の概略の構成を、図11を用いて説明する。
本実施例に係るプラズマ処理装置100を制御する制御部160は、記憶部1601と、演算部1602、ランプ制御部1603、全体制御部1604とを備えている。
記憶部1601には、真空排気装置120や、高周波電源130、ガス供給源140、ランプ電源150、ガス流量制御部161、冷媒温度コントローラ162、センサコントローラ163を含むプラズマ処理装置100全体を制御するプログラムや、図5で説明したような、PTセンサ温度とTCウェハ温度との関係を、体積抵抗率やIR出力、He圧力ごとにデータベースとして記憶する。
演算部1602は、ランプ151で加熱中に温度センサ115で検出した試料台110の温度の変化と、記憶部1601に記憶された体積抵抗率やIR出力、He圧力ごとのPTセンサ温度とTCウェハ温度との関係から、記憶部1601に記憶したデータベースを用いて、図6で説明したような方法でウェハ200の昇温速度を求める。この求めた結果は記憶部1601に記憶されたランプ電源150を制御するプログラムに反映される。
ランプ制御部1603は、演算部1602で求めたウェハ200の昇温速度の情報に基づいて制御部160から出力される制御信号に基づいて、処理対象のウェハ200ごとにランプ電源150を制御する。
全体制御部1604は、記憶部1601に記憶された制御プログラムに基づいて、真空排気装置120や、高周波電源130、ガス供給源140、ランプ電源150、ガス流量制御部161、冷媒温度コントローラ162、センサコントローラ163を含むプラズマ処理装置100全体を制御する。
以上説明したように、本実施例によれば、また、本発明によれば、昇温速度(体積抵抗率)が不明なウェハでも、処理のスループットを低下させることなく、プロセスに最低限必要な温度を所定時間維持することができるようになり、処理の歩留まりを向上させることができるようになった。
以上、本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。例えば、上記した実施例は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、各実施例の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
100・・・プラズマ処理装置 101・・・真空容器 102・・・プラズマ発生室 103・・・処理室 105・・・プレート 110・・・試料台 111・・・ガス供給管 112・・・流路 115・・・温度センサ 117・・・静電チャック 120・・・真空排気装置 130・・・高周波電源 140・・・ガス供給源 150・・・ランプ電源 151・・・ランプ 200・・・ウェハ。
Claims (14)
- 真空容器と、
前記真空容器の内部で試料を載置する試料台と、
前記真空容器の内部を排気する排気部と、
前記真空容器の内部に処理ガスを供給するガス供給部と、
前記真空容器の内部に高周波電力を印加する高周波電力印加部と、
前記試料台に載置された前記試料に前記真空容器の外部から赤外光を照射する照射部と、
前記排気部と前記ガス供給部と前記高周波電力印加部と前記照射部とを制御する制御部と
を備えたプラズマ処理装置であって、
前記試料台の前記試料を載置する面の温度を計測する温度計測部を更に備え、
前記制御部は、前記照射部で前記試料台に載置された前記試料に赤外光を照射しているときに、前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、前記試料台は、前記試料台に載置した前記試料の裏面との間に冷却ガスを供給する冷却ガス供給部と、前記試料台を冷却する冷媒を前記試料台に形成された流路に供給する冷媒供給部と、前記試料台に載置した前記試料を静電吸着する静電チャック部とを備えることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1記載のプラズマ処理装置であって、前記真空容器は、前記高周波電力印加部により印加された高周波電力により前記ガス供給部から供給された前記処理ガスのプラズマを発生させるプラズマ発生室と、前記プラズマ発生室で発生したプラズマにより励起された前記処理ガスによる励起ガスを流入させる処理室とを備え、前記プラズマ発生室と前記処理室との間を多数のスリットが形成された石英のプレートで仕切られていることを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項1乃至3の何れかに記載のプラズマ処理装置であって、前記制御部は、前記照射部で前記試料台に載置された前記試料に前記赤外光を照射しているときに、前記温度計測部で計測した温度に基づいて、予め求めておいた前記試料の体積抵抗率と昇温速度との関係から、前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項4記載のプラズマ処理装置であって、前記制御部は、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求め、前記求めた前記試料の昇温速度に基づいて前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御することを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項5記載のプラズマ処理装置であって、前記制御部は、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求めることを、前記試料の表面の最初の1層を除去する工程において前記温度計測部で計測した温度に基づいて行うことを特徴とするプラズマ処理装置。
- 請求項5記載のプラズマ処理装置であって、前記制御部は、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求めることを、前記試料の表面の最初の1層を除去する前に前記試料に前記照射部から前記赤外光を照射することにより前記試料を加熱して前記温度計測部で計測した温度に基づいて行うことを特徴とするプラズマ処理装置。
- プラズマ発生室の内部にガス供給部から処理ガスを供給した状態で高周波電力印加部により高周波電力を印加して前記プラズマ発生室の内部にプラズマを発生させ、
前記プラズマ発生室の内部に発生させたプラズマにより励起された前記処理ガスのうち前記プラズマ発生室に接続している処理室に流入した前記処理ガスによる励起ガスを、前記処理室の内部で試料台に載置されて所定の温度に冷却された試料の表面に付着させ、
前記励起ガスが付着した前記試料に照射部から赤外光を照射することにより前記試料を加熱して前記試料の表面を1層除去する
ことを繰り返して行うことにより、前記試料の表面を1層ずつ除去する加工を行うプラズマ処理方法であって、
前記励起ガスが付着した前記試料に前記照射部から前記赤外光を照射することを、前記試料台の前記試料を載置する面の温度を計測する温度計測部で計測した温度に基づいて前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御しながら照射することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項8記載のプラズマ処理方法であって、前記処理室の内部で前記励起ガスを前記試料台に載置されて前記所定の温度に冷却された前記試料の表面に付着させることを、前記試料台に載置した前記試料の裏面と前記試料台との間に冷却ガス供給部から冷却ガスを供給し、前記試料台に形成された流路に冷媒供給部により前記試料台を冷却する冷媒を供給し、前記試料台に載置した前記試料を静電チャック部で静電吸着しながら行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項8記載のプラズマ処理方法であって、前記プラズマ発生室の内部に発生させたプラズマで励起された前記処理ガスによる前記励起ガスのうち、前記プラズマ発生室と前記処理室との間を仕切る多数のスリットが形成された石英のプレートを通過した励起ガスを、前記処理室の内部で前記試料台に載置されて所定の温度に冷却された前記試料の表面に付着させることを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項8乃至10の何れかに記載のプラズマ処理方法であって、前記照射部で前記試料台に載置された前記試料に前記赤外光を照射しているときに、前記温度計測部で計測した温度に基づいて、予め求めておいた前記試料の体積抵抗率と昇温速度との関係から、制御部で前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項11記載のプラズマ処理方法であって、前記制御部で、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求め、前記求めた前記試料の昇温速度に基づいて前記照射部から前記試料に照射する前記赤外光の強度を制御することを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項12記載のプラズマ処理方法であって、前記制御部で、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求めることを、前記試料の表面の最初の1層を除去する工程において前記温度計測部で計測した温度に基づいて行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
- 請求項12記載のプラズマ処理方法であって、前記制御部で、予め求めておいた前記試料の前記体積抵抗率と前記昇温速度との関係から前記温度計測部で計測した温度に基づいて前記試料の昇温速度を求めることを、前記試料の表面の最初の1層を除去する前に前記試料に前記照射部から前記赤外光を照射することにより前記試料を加熱して前記温度計測部で計測した温度に基づいて行うことを特徴とするプラズマ処理方法。
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