JP2019160858A - 固体撮像素子 - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 50
- 239000007787 solid Substances 0.000 title abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 78
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims abstract description 64
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 claims abstract description 57
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 34
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 31
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 26
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 claims description 23
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 14
- 239000012212 insulator Substances 0.000 abstract 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 22
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 13
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 11
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 8
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 8
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 6
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 5
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 5
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 4
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 4
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 2
- 229910000449 hafnium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 2
- TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N tetrafluoromethane Chemical compound FC(F)(F)F TXEYQDLBPFQVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N Oxozirconium Chemical compound [Zr]=O GEIAQOFPUVMAGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007772 electrode material Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N hafnium(4+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Hf+4] WIHZLLGSGQNAGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005468 ion implantation Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 230000002250 progressing effect Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N tantalum nitride Chemical compound [Ta]#N MZLGASXMSKOWSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
本開示の第1実施形態について図面を参照しながら説明する。
以下、第1実施形態に係る固体撮像素子の製造方法について図2〜図10を参照しながら説明する。
以下、第1実施形態の一変形例について図11を参照しながら説明する。
以下、本開示の第2実施形態について図面を参照しながら説明する。図12及び図13は第2実施形態に係る固体撮像素子の一例を示している。ここでは、固体撮像素子100Bにおける単位画素を示している。
101 半導体基板
102 光電変換層
103 フローティングディフュージョン(FD)部
104 配線層(下層)
106 配線層(上層)
107 導波路
108 電荷蓄積部
108a 開口部
109、109B 下部電極
109A 下部電極形成膜
110 容量膜
110A 容量膜形成膜
111、111B 上部電極
111A 上部電極形成膜
111a 段差部
112 高屈折率絶縁膜(埋め込み絶縁膜)
203 層間絶縁膜(上層)
Claims (12)
- 半導体基板と、
前記半導体基板に設けられた光電変換部と、
前記半導体基板の上に設けられた層間絶縁膜と、
前記層間絶縁膜における前記光電変換部の上に設けられ、前記光電変換部に受光光を導入する導波路と、
前記導波路の少なくとも側壁上に順次積層された下部電極、容量膜及び上部電極を有する電荷蓄積部と、
前記層間絶縁膜の内部に設けられた複数の配線層とを備え、
前記下部電極は、前記複数の配線層のうちの少なくとも一つの配線層と前記導波路の側壁上で電気的に接続され、
前記容量膜及び上部電極は、前記層間絶縁膜における前記導波路の上縁部に延伸している、固体撮像素子。 - 請求項1に記載の固体撮像素子において、
前記下部電極は、前記複数の配線層のうちの下層の配線層と接続され、
前記上部電極は、その上端部が前記層間絶縁膜の上面において前記複数の配線層のうちの最上層の配線層と接続されている、固体撮像素子。 - 請求項2に記載の固体撮像素子において、
前記上部電極における前記最上層の配線層上での厚さは、他の部分での厚さよりも大きい、固体撮像素子。 - 請求項1〜3のいずれか1項に記載の固体撮像素子において、
前記導波路の側壁上において、前記下部電極の厚さは、前記上部電極の厚さよりも大きい、固体撮像素子。 - 請求項1〜4のいずれか1項に記載の固体撮像素子において、
前記導波路は埋め込み絶縁膜により埋め込まれており、
前記埋め込み絶縁膜は高屈折率絶縁膜である、固体撮像素子。 - 請求項5に記載の固体撮像素子において、
前記高屈折率絶縁膜はシリコン窒化膜である、固体撮像素子。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像素子において、
前記電荷蓄積部は、前記導波路の底部において前記半導体基板を露出する開口部を有している、固体撮像素子。 - 請求項7に記載の固体撮像素子において、
前記電荷蓄積部における前記開口部側の端面は、前記上部電極と前記容量膜との間、及び前記容量膜と前記下部電極との間の少なくとも一方において段差部を形成している、固体撮像素子。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載の固体撮像素子において、
前記電荷蓄積部は、前記導波路の底部において、前記下部電極を残して前記容量膜及び上部電極が除かれている、固体撮像素子。 - 請求項9に記載の固体撮像素子において、
前記下部電極は、透明電極である、固体撮像素子。 - 請求項1に記載の固体撮像素子において、
前記半導体基板に設けられ、前記光電変換部により変換された電荷を蓄積するフローティングディフュージョン部をさらに備え、
前記フローティングディフュージョン部は、前記上部電極における前記導波路の前記上縁部に延伸した部分の下側に配置されている、固体撮像素子。 - 請求項11に記載の固体撮像素子において、
前記フローティングディフュージョン部は、平面視において、前記上部電極における前記導波路の前記上縁部に延伸した部分と重なっている、固体撮像素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2018041491A JP7194918B2 (ja) | 2018-03-08 | 2018-03-08 | 固体撮像素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018041491A JP7194918B2 (ja) | 2018-03-08 | 2018-03-08 | 固体撮像素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019160858A true JP2019160858A (ja) | 2019-09-19 |
JP7194918B2 JP7194918B2 (ja) | 2022-12-23 |
Family
ID=67996593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018041491A Active JP7194918B2 (ja) | 2018-03-08 | 2018-03-08 | 固体撮像素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP7194918B2 (ja) |
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