JP2019153730A - 実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造、撮像装置及び撮像装置の製造方法 - Google Patents

実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造、撮像装置及び撮像装置の製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】小型化と低コスト化が可能な実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造及び撮像装置を提供する。【解決手段】低背領域(AI4L、BI4L)では、実装部(AI4、BI4)の最大高さが低背閾値(TLthreshold)以下となる。高背領域(AI4H、BI4H)では、実装部(AI4、BI4)の最大高さが低背閾値(TLthreshold)より大きく高背閾値(THthreshold)以下となる。第1の撮像素子基板(AI)の低背領域(AI4L)と第2の撮像素子基板(BI)の高背領域(BI4H)とが対向するとともに、第1の撮像素子基板(AI)の高背領域(AI4H)と第2の撮像素子基板(BI)の低背領域(BI4L)とが対向する。【選択図】図6

Description

本発明は、実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造及び撮像装置に関する。
特許文献1には、複数(2台)のカメラを内蔵するカメラモジュールが開示されている。このカメラモジュールは、1枚のフレキシブル基板と、フレキシブル基板の同一面上に実装された第1、第2のカメラユニットと、第1、第2のカメラユニットの各視野方向が互いに逆方向となるように、フレキシブル基板の所定箇所に設定された折り曲げ部とを有している。折り曲げ部は、第1のカメラユニットのレンズ面と第2のカメラユニットの背面とがほぼ同一面になるとともに、第1のカメラユニットの背面と第2のカメラユニットのレンズ面とがほぼ同一面になるように、フレキシブル基板の所定箇所に設定されている。
特許第3952897号公報
しかしながら、特許文献1は、第1、第2のカメラユニットの光軸がずれている(第1、第2のカメラユニットが光軸直交方向に離間している)点において、カメラモジュールの大型化と高コスト化が避けられない。この大型化と高コスト化の問題は、カメラモジュールにおける第1、第2のカメラユニットに限定されるものではなく、例えば、実装基板の配置構造及び撮像素子基板の配置構造においても同様に発生し得る。
また本出願人は、180度より広い画角を持つ広角レンズと、この広角レンズによる像を撮像する撮像素子とを有する同一構造の撮像系を2つ組み合わせ、各撮像系によって撮像された像を合成して4πラジアンの立体角内の像を得る、全天球型の撮像装置の研究開発を進めている。このような撮像装置でも、2つの撮像系の撮像素子基板を如何にして配置するかが技術課題となっている。
本発明は、以上の問題意識に基づいてなされたものであり、小型化と低コスト化が可能な実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造及び撮像装置を提供することを目的とする。
本実施形態の実装基板の配置構造は、第1、第2の実装基板の実装部どうしを対向配置する実装基板の配置構造であって、前記第1、第2の実装基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、前記第1の実装基板の前記低背領域と前記第2の実装基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の実装基板の前記高背領域と前記第2の実装基板の前記低背領域とが対向する、ことを特徴としている。
本実施形態の撮像素子基板の配置構造は、第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしを対向配置する撮像素子基板の配置構造であって、前記第1、第2の撮像素子基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、ことを特徴としている。
本実施形態の撮像装置は、第1の光学系による像が結像する第1の撮像素子基板と、第2の光学系による像が結像する第2の撮像素子基板とを有し、前記第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしが対向配置される撮像装置であって、前記第1、第2の撮像素子基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、ことを特徴としている。
本発明によれば、小型化と低コスト化が可能な実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造及び撮像装置を提供することができる。
本実施形態による撮像システムを左方から見た図である。 本実施形態による撮像システムを後方から見た図である。 本実施形態による撮像システムを上方から見た図である。 第1、第2の撮像素子基板の実装部の構成を示す第1の概念図である。 第1、第2の撮像素子基板の実装部の構成を示す第2の概念図である。 第1、第2の撮像素子基板を実装部が背中合わせで対向するように組み付ける場合の工程図である。 第1、第2の撮像素子基板の実装部の変形例を示す図である。
図1〜図6を参照して、本実施形態による撮像システム(撮像装置)1について詳細に説明する。以下の説明中の前、後、上、下、左、右の各方向は、各図に記載した矢線方向を基準とする。
撮像システム1は、第1の広角レンズ系(第1の光学系)Aと、第1の広角レンズ系Aによる像が結像する第1の撮像素子基板AIと、第2の広角レンズ系(第2の光学系)Bと、第2の広角レンズ系Bによる像が結像する第2の撮像素子基板BIとを有している。第1、第2の広角レンズ系A、Bと第1、第2の撮像素子基板AI、BIは、同一仕様であり、且つ、互いに対称に配置されている。第1、第2の広角レンズ系A、Bは、180度より広い画角を有している。撮像システム1は、第1、第2の撮像素子基板AI、BIが結像した2つの像を合成することにより4πラジアンの立体角内の像を得る、全天球型の撮像システムとすることができる。
第1の広角レンズ系Aは、物体側から像側に向かって順に、負の前群AFと、プリズムAP1と、可変開口絞りAS(図示略)と、プリズムAP2と、正の後群ARと、プリズムAP3とを有している。負の前群AFは、180°より大きい高画角の光線を取り込む機能を持ち、正の後群ARは、結像画像の収差を補正する機能を持つ。
負の前群AFは、前方から入射した被写体光束を発散させながら後方に出射する。プリズムAP1は、負の前群AFから入射した被写体光束を左方に90°反射する。可変開口絞りASは、プリズムAP1が反射した被写体光束の透過量を調整(光量調整)する。プリズムAP2は、可変開口絞りASが光量調整した被写体光束を下方に90°反射する。正の後群ARは、プリズムAP2が反射した被写体光束を収束させながら下方に出射する。プリズムAP3は、正の後群ARから入射した被写体光束を右方に90°反射して、第1の撮像素子基板AIの撮像素子AI2の撮像面に結像させる。プリズムAP3の出射面には、第1の撮像素子基板AIの撮像素子AI2の撮像面に向かって突出する凸面AP3Xが形成されている。負の前群AF及び正の後群ARは、複数枚のレンズで構成される(図1〜図3では代表的な符号としてAF及びARを示している)。
第2の広角レンズ系Bは、物体側から像側に向かって順に、負の前群BFと、プリズムBP1と、可変開口絞りBSと、プリズムBP2と、正の後群BRと、プリズムBP3とを有している。負の前群BFは、180°より大きい高画角の光線を取り込む機能を持ち、正の後群BRは、結像画像の収差を補正する機能を持つ。
負の前群BFは、後方から入射した被写体光束を発散させながら前方に出射する。プリズムBP1は、負の前群BFから入射した被写体光束を右方に90°反射する。可変開口絞りBSは、プリズムBP1が反射した被写体光束の透過量を調整(光量調整)する。プリズムBP2は、可変開口絞りBSが光量調整した被写体光束を下方に90°反射する。正の後群BRは、プリズムBP2が反射した被写体光束を収束させながら下方に出射する。プリズムBP3は、正の後群BRから入射した被写体光束を左方に90°反射して、第2の撮像素子基板BIの撮像素子BI2の撮像面に結像させる。プリズムBP3の出射面には、第2の撮像素子基板BIの撮像素子BI2の撮像面に向かって突出する凸面BP3Xが形成されている。負の前群BF及び正の後群BRは、複数枚のレンズで構成される(図1〜図3では代表的な符号としてBF及びBRを示している)。
図2に示すように、第1の撮像素子基板AIは、基板AI1と、基板AI1の左面の上方に設けられた撮像素子AI2と、基板AI1の左面の下方に設けられたコネクタAI3と、基板AI1の右面に設けられた実装部AI4とを有している。第2の撮像素子基板BIは、基板BI1と、基板BI1の右面の上方に設けられた撮像素子BI2と、基板BI1の右面の下方に設けられたコネクタBI3と、基板BI1の左面に設けられた実装部BI4とを有している。第1、第2の撮像素子基板AI、BIの実装部AI4、BI4どうしが対向配置される。第1の撮像素子基板AIの実装部AI4は、第2の撮像素子基板BIの実装部BI4に向かって突出し、第2の撮像素子基板BIの実装部BI4は、第1の撮像素子基板AIの実装部AI4に向かって突出する。実装部AI4、BI4は、例えば、各種のチップ、コンデンサ、インダクタ等の電子部品によって構成されている。
図4A、図5Aに示すように、第1の撮像素子基板AIの実装部AI4は、前方に位置して上下方向に延びる低背領域AI4Lと、後方に位置して上下方向に延びる高背領域AI4Hとを有している。低背領域AI4Lと高背領域AI4Hの間に位置する前後方向の中間部には、上下方向に延びる放熱領域AI4Fが形成されている。放熱領域AI4Fは、低背領域AI4Lと高背領域AI4Hを構成する電子部品が存在しない放熱平面部からなる。別言すると、放熱領域AI4Fを境界として、放熱領域AI4Fより前方に位置する低背領域AI4Lと、放熱領域AI4Fより後方に位置する高背領域AI4Hとが区画されている。放熱領域AI4Fの前後方向の長さ(低背領域AI4Lの後端部と高背領域AI4Hの前端部の間の距離)は、低背領域AI4Lを構成する電子部品どうしの間隔、及び、高背領域AI4Hを構成する電子部品どうしの間隔よりも大きく設定されている。
図5Aに示すように、低背領域AI4Lにおいては、実装部AI4を構成する電子部品の最大高さが低背閾値TLthreshold以下となっており、高背領域AI4Hにおいては、実装部AI4を構成する電子部品の最大高さが低背閾値TLthresholdより大きく高背閾値THthreshold以下となっている。低背閾値TLthresholdと高背閾値THthresholdの値には自由度があり、種々の設計変更が可能である。図5Aでは、発明の理解を容易にするために、低背領域AI4Lにおける電子部品の高さが低背閾値TLthresholdに統一されており、高背領域AI4Hにおける電子部品の高さが高背閾値THthresholdに統一されている場合を例示して描いている。
低背領域AI4Lと高背領域AI4Hを区画する放熱領域AI4Fには、例えば、発熱が大きい撮像素子AI2からの熱が伝わり易いグラウンド開口AI4Oが形成されている。このグラウンド開口AI4Oにより、撮像素子AI2からの放熱効果を高めることができる。また放熱領域AI4Fには、図示を省略した放熱部品(熱伝導率が高い放熱シート)を配置することができる。
第1の撮像素子基板AIは、コネクタAI3に接続されたフレキシブル基板(図示略)を介して受け取った電力を撮像素子AI2や実装部AI4に供給する電源回路を有している。この電源回路のコネクタAI3に近い側の上流部は、流れる電流量が多いので、使用する電子部品(例えばコンデンサやインダクタ等)が大きなものになってしまう。一方、電源回路の下流部は、流れる電流が少ないので、使用する電子部品は小さなもので十分である。このため、電源回路の上流部は高背領域AI4Hに配置することが好ましく、電源回路の下流部は高背領域AI4H及び/又は低背領域AI4Lに配置することが好ましい。
図4B、図5Bに示すように、第2の撮像素子基板BIの実装部BI4は、後方に位置して上下方向に延びる低背領域BI4Lと、前方に位置して上下方向に延びる高背領域BI4Hとを有している。低背領域BI4Lと高背領域BI4Hの間に位置する前後方向の中間部には、上下方向に延びる放熱領域BI4Fが形成されている。放熱領域BI4Fは、低背領域BI4Lと高背領域BI4Hを構成する電子部品が存在しない放熱平面部からなる。別言すると、放熱領域BI4Fを境界として、放熱領域BI4Fより後方に位置する低背領域BI4Lと、放熱領域BI4Fより前方に位置する高背領域BI4Hとが区画されている。放熱領域BI4Fの前後方向の長さ(低背領域BI4Lの前端部と高背領域BI4Hの後端部の間の距離)は、低背領域BI4Lを構成する電子部品どうしの間隔、及び、高背領域BI4Hを構成する電子部品どうしの間隔よりも大きく設定されている。
図5Bに示すように、低背領域BI4Lにおいては、実装部BI4を構成する電子部品の最大高さが低背閾値TLthreshold以下となっており、高背領域BI4Hにおいては、実装部BI4を構成する電子部品の最大高さが低背閾値TLthresholdより大きく高背閾値THthreshold以下となっている。低背閾値TLthresholdと高背閾値THthresholdの値には自由度があり、種々の設計変更が可能である。図5Bでは、発明の理解を容易にするために、低背領域BI4Lにおける電子部品の高さが低背閾値TLthresholdに統一されており、高背領域BI4Hにおける電子部品の高さが高背閾値THthresholdに統一されている場合を例示して描いている。
低背領域BI4Lと高背領域BI4Hを区画する放熱領域BI4Fには、例えば、発熱が大きい撮像素子BI2からの熱が伝わり易いグラウンド開口BI4Oが形成されている。このグラウンド開口BI4Oにより、撮像素子BI2からの放熱効果を高めることができる。また放熱領域BI4Fには、図示を省略した放熱部品(熱伝導率が高い放熱シート)を配置することができる。
第2の撮像素子基板BIは、コネクタBI3に接続されたフレキシブル基板(図示略)を介して受け取った電力を撮像素子BI2や実装部BI4に供給する電源回路を有している。この電源回路のコネクタBI3に近い側の上流部は、流れる電流量が多いので、使用する電子部品(例えばコンデンサやインダクタ等)が大きなものになってしまう。一方、電源回路の下流部は、流れる電流が少ないので、使用する電子部品は小さなもので十分である。このため、電源回路の上流部は高背領域BI4Hに配置することが好ましく、電源回路の下流部は高背領域BI4H及び/又は低背領域BI4Lに配置することが好ましい。
図6A〜図6Cは、第1、第2の撮像素子基板AI、BIを実装部AI4、BI4が背中合わせで対向するように組み付ける場合の工程図である。
図6Aに示すように、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの実装部AI4、BI4は、前後左右の各方向に重ならないように設計されている。そして、例えば、第2の広角レンズ系Bを固定した状態で第1の広角レンズ系Aを第2の広角レンズ系Bに向かって前方に移動させ、又は、第1の広角レンズ系Aを後方に移動させるとともに第2の広角レンズ系Bを前方に移動させる。これにより、第1、第2の撮像素子基板AI、BIが基板平面と平行な方向に相対移動して組み付けられる。
第1、第2の撮像素子基板AI、BIを相対移動させていくと、図6Bに示すように、第1の撮像素子基板AIの低背領域AI4Lと第2の撮像素子基板BIの低背領域BI4Lとが対向する。このとき、低背領域AI4Lと低背領域BI4Lの間には比較的大きなクリアランスが存在するため、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの接触(干渉)を確実に防止することができる。
第1、第2の撮像素子基板AI、BIを図6Bの状態からさらに相対移動させていくと、図6Cに示すように、第1の撮像素子基板AIの低背領域AI4Lと第2の撮像素子基板BIの高背領域BI4Hとが対向するとともに、第1の撮像素子基板AIの高背領域AI4Hと第2の撮像素子基板BIの低背領域BI4Lとが対向する。このとき、低背領域AI4Lと高背領域BI4Hの間、高背領域AI4Hと低背領域BI4Lの間には微小クリアランスが存在しており、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの接触(干渉)を防止することができる。また、図6Cの状態では、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの放熱領域(放熱平面)AI4F、BI4Fどうしが対向しているので、両者の間に放熱部品を配置するスペースを広く確保することができる(高いレイアウト効率で放熱部品を配置することができる)。
このように、本実施形態による撮像システム1では、第1、第2の撮像素子基板AI、BIを実装部AI4、BI4が背中合わせで対向するように組み付けたときに、第1の撮像素子基板AIの低背領域AI4Lと第2の撮像素子基板BIの高背領域BI4Hとが対向するとともに、第1の撮像素子基板AIの高背領域AI4Hと第2の撮像素子基板BIの低背領域BI4Lとが対向する。従って、第1、第2の撮像素子基板AI、BIを極限まで接近させて小型化と低コスト化を図ることが可能になる。
ちなみに、従来の実装基板や撮像素子基板等の実装部を構成する電子部品の高さは、製品規格等により複数の段階(例えば高中低の三段階)に分類される。しかし、複数の高さを持つ電子部品をランダムに配置する場合、必然的に、最も高さのある電子部品を実装部の高さとして見積もらなければならないので、これらを単純に組み合わせた配置構造の大型化が避けられない。また、基板の内部にコンデンサ等の電子部品を埋め込む技術もあるが、小型はできても高コスト化が避けられない。
図7は、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの実装部AI4、BI4の変形例を示している。図7では、第1の撮像素子基板AIの実装部AI4が4つの領域AI4A、AI4B、AI4C、AI4Dに区画されており(AI4AからAI4Dに向かって高さが高くなる)、第2の撮像素子基板BIの実装部BI4が4つの領域BI4A、BI4B、BI4C、BI4Dに区画されている(BI4AからBI4Dに向かって高さが高くなる)。そして、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの実装部AI4、BI4を組み付けた状態では、領域AI4Aと領域BI4Dが対向配置され、領域AI4Bと領域BI4Cが対向配置され、領域AI4Cと領域BI4Bが対向配置され、領域AI4Dと領域BI4Aが対向配置される。このように、第1、第2の撮像素子基板AI、BIの実装部AI4、BI4を区画する領域は、低背領域AI4L、BI4Lと高背領域AI4H、BI4Hの二段階に限定されず、三段階以上の任意の段階数としてもよい。
以上の実施形態では、撮像素子基板の配置構造を全天球型の撮像装置に適用した場合を例示して説明したが、撮像素子基板の配置構造は、全天球型以外の任意の種類の撮像装置に適用することが可能である。また本実施形態の配置構造は、撮像素子基板以外の任意の種類の実装基板に適用することが可能である(本基板の配置構造は任意の装置に適用することが可能である)。
以上の実施形態では、第1の撮像素子基板AIの低背領域AI4Lと高背領域AI4Hの間に位置する放熱領域AI4Fを放熱平面部とし、第2の撮像素子基板BIの低背領域BI4Lと高背領域BI4Hの間に位置する放熱領域BI4Fを放熱平面部とした場合を例示して説明した。しかし、放熱領域AI4F、BI4Fを放熱平面部以外の構成要素(例えば放熱加工を施した放熱凹部や放熱溝部)によって実現することも可能であるし、放熱領域AI4F、BI4Fを省略することも可能である。
以上の実施形態では、第1、第2の撮像素子基板AI、BIを基板平面と平行な方向に相対移動させて組み付ける場合を例示して説明した(図6A〜図6C参照)。しかし、第1、第2の撮像素子基板AI、BIを基板平面と交差(例えば直交)する方向に相対移動させて組み付けることも可能である。
1 撮像システム(撮像装置)
A 第1の広角レンズ系(第1の光学系)
AF 前群
AR 後群
AS 可変開口絞り
AP1 プリズム
AP2 プリズム
AP3 プリズム
AP3X 凸面
AI 第1の撮像素子基板(実装基板)
AI1 基板
AI2 撮像素子
AI3 コネクタ
AI4 実装部
AI4L 低背領域
AI4H 高背領域(電源回路)
AI4F 放熱領域(放熱平面部)
AI4O グラウンド開口
B 第2の広角レンズ系(第2の光学系)
BF 前群
BR 後群
BS 可変開口絞り
BP1 プリズム
BP2 プリズム
BP3 プリズム
BP3X 凸面
BI 第2の撮像素子基板(実装基板)
BI1 基板
BI2 撮像素子
BI3 コネクタ
BI4 実装部
BI4L 低背領域
BI4H 高背領域(電源回路)
BI4F 放熱領域(放熱平面部)
BI4O グラウンド開口
TLthreshold 低背閾値
THthreshold 高背閾値
本発明は、実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造撮像装置及び撮像装置の製造方法に関する。
本発明は、以上の問題意識に基づいてなされたものであり、小型化と低コスト化が可能な実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造撮像装置及び撮像装置の製造方法を提供することを目的とする。
本実施形態の撮像装置は、第1の光学系による像が結像する第1の撮像素子基板と、第2の光学系による像が結像する第2の撮像素子基板とを有し、前記第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしが対向配置される撮像装置であって、前記第1、第2の撮像素子基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、ことを特徴としている。
本実施形態の撮像装置の製造方法は、第1の光学系による像が結像する第1の撮像素子基板と、第2の光学系による像が結像する第2の撮像素子基板とを有し、前記第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしが対向配置される撮像装置の製造方法であって、前記第1、第2の撮像素子基板に、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを形成する第1のステップと、前記第1、第2の撮像素子基板を基板平面と平行な方向に相対移動させて組み付けることにより、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とを対向させるとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とを対向させる第2のステップと、を有することを特徴としている。
本発明によれば、小型化と低コスト化が可能な実装基板の配置構造、撮像素子基板の配置構造撮像装置及び撮像装置の製造方法を提供することができる。

Claims (15)

  1. 第1、第2の実装基板の実装部どうしを対向配置する実装基板の配置構造であって、
    前記第1、第2の実装基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、
    前記第1の実装基板の前記低背領域と前記第2の実装基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の実装基板の前記高背領域と前記第2の実装基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする実装基板の配置構造。
  2. 前記第1、第2の実装基板を基板平面と平行な方向に相対移動させて組み付ける際に、前記第1、第2の実装基板の前記低背領域どうしが対向した後、前記第1の実装基板の前記低背領域と前記第2の実装基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の実装基板の前記高背領域と前記第2の実装基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする請求項1に記載の実装基板の配置構造。
  3. 前記第1、第2の実装基板は、前記低背領域と前記高背領域の間に位置する放熱領域を有する、
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の実装基板の配置構造。
  4. 前記放熱領域は、前記低背領域と前記高背領域の間に形成された放熱平面部から構成され、
    前記第1、第2の実装基板の前記放熱平面部どうしが対向する、
    ことを特徴とする請求項3に記載の実装基板の配置構造。
  5. 前記第1、第2の実装基板は、前記第1、第2の実装基板に電力を供給する電源回路を有し、
    前記電源回路の上流部は前記高背領域に配置され、前記電源回路の下流部は前記高背領域及び/又は前記低背領域に配置される、
    ことを特徴とする請求項1から請求項4のいずれかに記載の実装基板の配置構造。
  6. 第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしを対向配置する撮像素子基板の配置構造であって、
    前記第1、第2の撮像素子基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、
    前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする撮像素子基板の配置構造。
  7. 前記第1、第2の撮像素子基板を基板平面と平行な方向に相対移動させて組み付ける際に、前記第1、第2の撮像素子基板の前記低背領域どうしが対向した後、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする請求項6に記載の撮像素子基板の配置構造。
  8. 前記第1、第2の撮像素子基板は、前記低背領域と前記高背領域の間に位置する放熱領域を有する、
    ことを特徴とする請求項6又は請求項7に記載の撮像素子基板の配置構造。
  9. 前記放熱領域は、前記低背領域と前記高背領域の間に形成された放熱平面部から構成され、
    前記第1、第2の撮像素子基板の前記放熱平面部どうしが対向する、
    ことを特徴とする請求項8に記載の撮像素子基板の配置構造。
  10. 前記第1、第2の撮像素子基板は、前記第1、第2の撮像素子基板に電力を供給する電源回路を有し、
    前記電源回路の上流部は前記高背領域に配置され、前記電源回路の下流部は前記高背領域及び/又は前記低背領域に配置される、
    ことを特徴とする請求項6から請求項9のいずれかに記載の撮像素子基板の配置構造。
  11. 第1の光学系による像が結像する第1の撮像素子基板と、第2の光学系による像が結像する第2の撮像素子基板とを有し、前記第1、第2の撮像素子基板の実装部どうしが対向配置される撮像装置であって、
    前記第1、第2の撮像素子基板は、前記実装部の最大高さが低背閾値以下となる低背領域と、前記実装部の最大高さが前記低背閾値より大きく高背閾値以下となる高背領域とを有し、
    前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする撮像装置。
  12. 前記第1、第2の撮像素子基板を基板平面と平行な方向に相対移動させて組み付ける際に、前記第1、第2の撮像素子基板の前記低背領域どうしが対向した後、前記第1の撮像素子基板の前記低背領域と前記第2の撮像素子基板の前記高背領域とが対向するとともに、前記第1の撮像素子基板の前記高背領域と前記第2の撮像素子基板の前記低背領域とが対向する、
    ことを特徴とする請求項11に記載の撮像装置。
  13. 前記第1、第2の撮像素子基板は、前記低背領域と前記高背領域の間に位置する放熱領域を有する、
    ことを特徴とする請求項11又は請求項12に記載の撮像装置。
  14. 前記放熱領域は、前記低背領域と前記高背領域の間に形成された放熱平面部から構成され、
    前記第1、第2の撮像素子基板の前記放熱平面部どうしが対向する、
    ことを特徴とする請求項13に記載の撮像装置。
  15. 前記第1、第2の撮像素子基板は、前記第1、第2の撮像素子基板に電力を供給する電源回路を有し、
    前記電源回路の上流部は前記高背領域に配置され、前記電源回路の下流部は前記高背領域及び/又は前記低背領域に配置される、
    ことを特徴とする請求項11から請求項14のいずれかに記載の撮像装置。
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