JP2019117859A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
[構造説明]
以下、図面を参照しながら本実施の形態の半導体装置について詳細に説明する。
本実施の形態の半導体装置(トランジスタ)において、ゲート電極GEにしきい値電圧以上のゲート電圧を印加すると、トレンチTRの側面と接するチャネル層(p型半導体領域)CHに反転層(n型半導体領域)が形成される。そして、ソース領域SRとドリフト層DRとは、反転層で電気的に接続されることになり、ソース領域SRとドリフト層DRとの間に電位差がある場合、ソース領域SRから反転層を通ってドリフト層DRに電子が流れる。言い換えれば、ドリフト層DRから反転層を通ってソース領域SRに電流が流れる。このように、トランジスタを、オンさせることができる。
次いで、図4〜図16を参照しながら、本実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するとともに、当該半導体装置の構成をより明確にする。図4〜図16は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図または平面図である。
本実施の形態においては、実施の形態1の応用例について説明する。
実施の形態1(図2)においては、p型半導体領域PRSの一部を間引いたが、p型半導体領域PRTの一部を間引いてもよい。別の言い方をすれば、実施の形態1(図2)においては、p型半導体領域PRSを、Y方向に隙間SPを開けて配置したが、p型半導体領域PRTを、Y方向に隙間SPを開けて配置してもよい。
実施の形態1(図2)および上記応用例1(図24)においては、p型半導体領域(PRS、PRT)のいずれか一方に、隙間SPを設けたが、p型半導体領域(PRS、PRT)の双方に、隙間SPS、SPTを設けてもよい。この場合、p型半導体領域PRSの隙間SPSと、p型半導体領域PRTの隙間SPTとが、Y方向において重ならないように配置することが好ましい。
上記応用例2(図25)においては、p型半導体領域(PRS、PRT)の双方に、隙間SPS、SPTを設け、p型半導体領域(PRS、PRT)の領域を細分化したが、これらの領域(パターン)を接続部CRにより接続してもよい。
本応用例においては、セル領域(CA)の最外周のユニットセルにおいては、p型半導体領域(PRS、PRT)に隙間SPを設けない構成とする。
本実施の形態においては、p型半導体領域(PRS、PRT)の形成高さを変える。このような構成により、ゲート絶縁膜GIの耐圧を維持しつつ、面積で規格化したオン抵抗を低減することができる。
以下、図面を参照しながら本実施の形態の半導体装置について詳細に説明する。なお、本実施の形態の半導体装置においては、ドリフト層(p型半導体領域(PRS、PRT)を含む)DRの構成以外は、実施の形態1と同様であるため、実施の形態1と対応する部位には同様の符号を付け、その詳細な説明を省略する。
本実施の形態の半導体装置(トランジスタ)の動作については、実施の形態1の場合とほぼ同じである。
次いで、図30〜図34を参照しながら、本実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するとともに、当該半導体装置の構成をより明確にする。図30〜図34は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図である。
本実施の形態においては、変形例について説明する。
実施の形態2の応用例1(図24)においては、トレンチTR(ゲート電極GE)を、Y方向にライン状に配置したが、トレンチTR(ゲート電極GE)をY方向およびX方向に延在させ、交差部を有するように配置してもよい。
実施の形態2の応用例1(図24)においては、トレンチTR(ゲート電極GE)を、Y方向にライン状に配置したが、トレンチTR(ゲート電極GE)をY方向およびX方向に延在させ、交差部を有するように配置してもよい。
上記変形例1において、p型半導体領域PRSに開口部OAを設けてもよい(図39)。別の言い方をすれば、p型半導体領域PRSを環状の矩形としてもよい。図39は、本実施の形態の変形例3の半導体装置の構成を示す平面図である。
上記変形例2において、p型半導体領域PRSに開口部OAを設けてもよい(図40)。別の言い方をすれば、p型半導体領域PRSを環状の矩形としてもよい。図40は、本実施の形態の変形例4の半導体装置の構成を示す平面図である。
上記変形例1、2等においては、トレンチTR(ゲート電極GE)のうち、X方向に延在する部分と、Y方向に延在する部分とを90度で交差させたが、トレンチTR(ゲート電極GE)を多角形状としてもよい。
上記変形例5において、トレンチTR(ゲート電極GE)のうち、第1の方向に延在する第1部分と、第1部分と120度で交差する第2部分と、第2部分と120度で交差する第3部分との交差部の下方に、p型半導体領域PRTを配置してもよい。この場合において、p型半導体領域PRTの平面形状を、例えば、三角形状としてもよい(図42)。図42は、本実施の形態の変形例6の半導体装置の構成を示す平面図である。
上記変形例5において、p型半導体領域PRSに開口部OAを設けてもよい(図43)。別の言い方をすれば、p型半導体領域PRSを環状の六角形としてもよい。図43は、本実施の形態の変形例7の半導体装置の構成を示す平面図である。
上記変形例6において、p型半導体領域PRSに開口部OAを設けてもよい(図44)。別の言い方をすれば、p型半導体領域PRSを環状の六角形としてもよい。図44は、本実施の形態の変形例8の半導体装置の構成を示す平面図である。
(付記1)
半導体基板上に形成されたドリフト層と、
前記ドリフト層上に形成されたチャネル層と、
前記チャネル層上に形成されたソース領域と、
前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されたゲート絶縁膜と、
前記トレンチを埋め込むゲート電極と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域と、
を有し、
前記トレンチは、第1方向に延在する第1部と、前記第1方向と交差する第2方向に延在する第2部とを有し、
前記第1半導体領域および前記第2半導体領域は、前記トレンチの形成領域に沿って延在し、
前記第1半導体領域は、第1間隔をおいて配置される複数の第1領域よりなる、半導体装置。
(付記2)
付記1記載の半導体装置において、
前記第1部と、前記第2部との交差部を有し、
平面視において、前記交差部と重なるように前記第1領域が配置されている、半導体装置。
(付記3)
付記1記載の半導体装置において、
前記第2半導体領域は、第1間隔をおいて配置される複数の第1領域よりなり、
前記第2領域は開口部を有する、半導体装置。
(付記4)
付記2記載の半導体装置において、
前記交差部において、前記第1部と、前記第2部との交差角度は、90度である、半導体装置。
(付記5)
付記2記載の半導体装置において、
前記交差部において、前記第1部と、前記第2部との交差角度は、120度である、半導体装置。
(付記6)
付記1記載の半導体装置において、
前記ドリフト層、前記チャネル層および前記ソース領域は、SiCよりなる、半導体装置。
(付記7)
(a)半導体基板上にドリフト層を形成する工程、
(b)前記ドリフト層上にチャネル層を形成する工程、
(c)前記チャネル層上にソース領域を形成する工程、
(d)前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチを形成する工程、
(e)前記トレンチの内壁にゲート絶縁膜を形成する工程、
(f)前記ゲート絶縁膜上に、前記トレンチを埋め込むゲート電極を形成する工程、
を有し、
前記(a)工程は、
前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域であって、前記トレンチの形成領域に沿って、第2間隔をおいて配置される複数の第2領域よりなる第2半導体領域と、
の形成工程を有する、半導体装置の製造方法。
(付記8)
付記7記載の半導体装置の製造方法において、
前記(a)工程は、
(a1)第1ドリフト層を形成した後、第1ドリフト層の表面部にイオン注入法により第1半導体領域および第2半導体領域を形成する工程、
(a2)前記第1ドリフト層上に第2ドリフト層を形成する工程、
を有する、半導体装置の製造方法。
(付記9)
付記7記載の半導体装置の製造方法において、
前記(a)工程は、
(a1)ドリフト層を形成した後、前記ドリフト層の途中にイオン注入法により第1半導体領域および第2半導体領域を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。
(付記10)
(a)半導体基板上にドリフト層を形成する工程、
(b)前記ドリフト層上にチャネル層を形成する工程、
(c)前記チャネル層上にソース領域を形成する工程、
(d)前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチを形成する工程、
(e)前記トレンチの内壁にゲート絶縁膜を形成する工程、
(f)前記ゲート絶縁膜上に、前記トレンチを埋め込むゲート電極を形成する工程、
を有し、
前記(a)工程は、
前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域であって、前記第1半導体領域より浅い位置に配置される前記第2半導体領域と、
の形成工程を有する、半導体装置の製造方法。
BC ボディコンタクト領域
C1 コンタクトホール
C2 コンタクトホール
CH チャネル層
CA セル領域
CR 接続部
DE ドレイン電極
DR ドリフト層
EP エピ層(エピタキシャル層)
EP1 第1ドリフトエピ層
EP2 第2ドリフトエピ層
EP3 第3ドリフトエピ層
GE ゲート電極
GI ゲート絶縁膜
GL ゲート線
GPD ゲートパッド
IL1 層間絶縁膜
L 距離
MK マスク膜
MK1 マスク膜
MK2 マスク膜
NEP n型エピタキシャル層
OA 開口部
PAS 表面保護膜
PEP p型エピタキシャル層
PRS p型半導体領域
PRS1 p型半導体領域
PRS2 p型半導体領域
PRSa〜d 領域(p型半導体領域)
PRT p型半導体領域
PRTa〜d 領域(p型半導体領域)
SE ソース電極
SP 間隔(隙間)
SPS PRSの間隔(隙間)
SPT PRTの間隔(隙間)
SP1a 第1隙間
SP1b 第2隙間
SP2a 第1隙間
SP2b 第2隙間
SR ソース領域
TR トレンチ
UC 単位トランジスタ(ユニットセル)
UCe 最外周のユニットセル
Claims (11)
- 半導体基板上に形成されたドリフト層と、
前記ドリフト層上に形成されたチャネル層と、
前記チャネル層上に形成されたソース領域と、
前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されたゲート絶縁膜と、
前記トレンチを埋め込むゲート電極と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域と、
を有し、
前記トレンチは、第1方向に延在し、
前記第1半導体領域は、前記第1方向に延在し、
前記第2半導体領域は、前記第1方向に、第2間隔をおいて配置される複数の第2領域よりなる、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域は、前記第1方向に、第1間隔をおいて配置される複数の第1領域よりなる、半導体装置。 - 請求項2記載の半導体装置において、
前記複数の第2領域は、前記第1間隔に対応する位置に配置される、半導体装置。 - 請求項3記載の半導体装置において、
前記複数の第1領域のいずれか1つと、前記複数の第2領域のいずれか1つとを接続する第3半導体領域を有する、半導体装置。 - 請求項4記載の半導体装置において、
前記複数の第1領域および前記複数の第2領域の少なくとも1つには、所定の電位が印加される、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記ドリフト層、前記チャネル層および前記ソース領域は、SiCよりなる、半導体装置。 - 半導体基板上に形成されたドリフト層と、
前記ドリフト層上に形成されたチャネル層と、
前記チャネル層上に形成されたソース領域と、
前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されたゲート絶縁膜と、
前記トレンチを埋め込むゲート電極と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域と、
を有し、
前記トレンチは、第1方向に延在し、
前記第1半導体領域は、前記第1方向に、第1間隔をおいて配置される複数の第1領域よりなり、
前記第2半導体領域は、前記第1方向に延在する、半導体装置。 - 半導体基板上に形成されたドリフト層と、
前記ドリフト層上に形成されたチャネル層と、
前記チャネル層上に形成されたソース領域と、
前記チャネル層を貫通して、前記ドリフト層に達し、前記ソース領域と接するトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されたゲート絶縁膜と、
前記トレンチを埋め込むゲート電極と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と重なる位置に形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第1半導体領域と、
前記トレンチの下方の前記ドリフト層中に、平面視において前記トレンチの形成領域と離間して形成された、前記ドリフト層と逆導電型の不純物を有する第2半導体領域と、
を有し、
前記トレンチは、第1方向に延在し、
前記第1半導体領域は、前記第2半導体領域より深い位置に形成されている、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記第1半導体領域は、前記第1方向に、第1間隔をおいて配置される複数の第1領域よりなる、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記第2半導体領域は、前記第1方向に、第2間隔をおいて配置される複数の第2領域よりなる、半導体装置。 - 請求項8記載の半導体装置において、
前記ドリフト層、前記チャネル層および前記ソース領域は、SiCよりなる、半導体装置。
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