JP2019087762A - 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 - Google Patents
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- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 431
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 211
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 21
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims abstract description 27
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 47
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 claims description 37
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 12
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 claims description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 5
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 17
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 11
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 2
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005830 Polyurethane Foam Polymers 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012217 deletion Methods 0.000 description 1
- 230000037430 deletion Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000011496 polyurethane foam Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
Description
ができる。
する場合には、振動ノイズが発生することがあり得る。この振動ノイズは、洗浄部材に部分的な欠損があるときの振動に比べると極めて小さな振動である。振動ノイズは、基板の上下に配置された二つの洗浄部材で同じように発生すると考えられるため、二つの洗浄部材の保持手段の洗浄位置の変化を差分処理することにより、振動ノイズを除去(キャンセル)することができる。これにより、保持手段の位置(洗浄位置)の変化を、高精度で測定することが可能になる。
コストを実現することが可能である。
の両面に擦り付けて該両面を洗浄する。
洗浄部材2の交換時期を判定する。具体的には、洗浄位置の変化量が所定の基準値より大きくなった場合に、洗浄部材2の交換時期であると判定する。図4は、複数の基板を連続して洗浄するときの洗浄位置の変化(変位)を示す図である。図4(a)に示すように、複数の基板Wを洗浄するごとに、変位センサ9で洗浄位置の変化(変位)を測定する。すなわち、洗浄位置の初期値(洗浄部材2の交換直後の位置)との差分(変位)を測定し、その差分(変位)が所定の基準値(閾値)より大きくなった場合に、その洗浄部材2の交換時期であると判定する。洗浄部材2を長時間使用すると、スポンジが次第に柔らかくなり、洗浄位置が落ちると考えられるためである。
ときに、洗浄位置の変化量が所定の基準値(閾値)より大きくなると、その洗浄部材2の交換時期であると判定する。このように、洗浄位置の変化量を所定の基準値と比較することにより、洗浄部材2の交換時期を適切に判定することができる。
たロールスポンジに代えて、洗浄部材2にペンシル型スポンジを用いたものである。この洗浄部材(以下、「ペンシル型スポンジ」という)2は、発砲ポリウレタン、PVA等で円柱形状や台形状等に形成され、その下面に設けた洗浄面2cが、該洗浄面2aと直交する軸(回転軸42)周りに水平面内で回転しながら基板Wに当接するものである。基板洗浄装置1−3のその他の部分の構成は、基板洗浄装置1と共通するものとし、ここではその説明は省略する。
ることができる。
能を備えてもよい。荷重CLCにより、洗浄位置の変化量が所定の基準値になった場合に、制御装置11によりエアシリンダ8をコントロールし、洗浄位置が交換直後位置となるようにする。そして、これを繰り返し、所定回数を経たところで、洗浄部材の交換時期とする。
能を備えてもよい。この場合、制御装置11は、変位センサの測定値を用いて、位置CLC(Closed Loop Control)を行う。位置CLCを行うことにより、確実に一定量を押し
付けて、洗浄部材2の接触面積を一定にすることができる。
2 洗浄部材
3 シャフト
4 洗浄液供給ノズル
5 スピンドル
6 保持部材
7 アーム
8 エアシリンダ
9 変位センサ
10 位置測定用ブラケット
11 制御装置
W 基板
Claims (7)
- 基板に当接して前記基板をスクラブ洗浄する洗浄部材と、
前記洗浄部材を保持し、かつ位置測定用ブラケットが設けられた保持手段と、
前記保持手段に設けられ、前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力を発生させる押し付け手段と、
前記位置測定用ブラケットに位置測定用レーザーを照射して、少なくとも前記洗浄部材が前記基板に当接している洗浄位置を測定する変位センサからなる位置測定手段と、
前記保持手段の位置に基づいて前記洗浄部材の交換時期を判定する交換時期判定手段であって、前記洗浄位置の初期値を設定するとともに、複数の基板を連続してスクラブ洗浄するときの前記洗浄位置の初期値と前記洗浄位置との差分を測定し、洗浄枚数に対応した該差分の変化から前記洗浄部材の交換時期を判定する交換時期判定手段と、
を備えたことを特徴とする基板洗浄装置。 - 基板に当接して前記基板をスクラブ洗浄する洗浄部材を保持する保持手段と、
前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力を発生させる押し付け手段と、
前記保持手段の位置を測定する位置測定手段と、
前記洗浄部材の異常の有無を検知する異常検知手段と、
を備え、
前記保持手段の位置には、前記洗浄部材が前記基板に当接している洗浄位置が含まれ、
前記洗浄位置は、前記洗浄部材を用いて一定の圧力で前記基板をスクラブ洗浄するための前記保持手段の位置であり、
前記異常検知手段は、一枚の基板をスクラブ洗浄するときの前記洗浄位置の変化が所定の基準振幅より大きくなった場合に前記洗浄部材の異常があると判定することで、異常の有無を検知することを特徴とする基板洗浄装置。 - 前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力を測定する荷重測定手段と、
前記荷重測定手段の測定結果をフィードバックすることによって、前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力をコントロールする荷重制御手段と、
を備える、請求項1または2に記載の基板洗浄装置。 - 二つの前記洗浄部材が前記基板を挟むように前記基板の上下に配置され、
前記基板を前記二つの洗浄部材で挟んでスクラブ洗浄するときに、前記二つの洗浄部材の前記洗浄位置の変化を差分処理することにより、前記洗浄位置を測定するときのノイズを除去するノイズ除去手段を備える、請求項1〜3のいずれかに記載の基板洗浄装置。 - 基板に当接して前記基板をスクラブ洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材の交換時期判定方法であって、
前記交換時期判定方法は、
前記洗浄部材を保持する保持手段に設けられた位置測定用ブラケットに位置測定用レーザーを照射して、少なくとも前記洗浄部材が前記基板に当接している洗浄位置を測定する位置測定測定ステップと、
前記保持手段の位置に基づいて前記洗浄部材の交換時期を判定する交換時期判定ステップであって、前記洗浄位置の初期値を設定するとともに、複数の基板を連続してスクラブ洗浄するときの前記洗浄位置の初期値と前記洗浄位置との差分を測定し、洗浄枚数に対応した該差分の変化から前記洗浄部材の交換時期を判定する交換時期判定ステップと、
を備えたことを特徴とする交換時期判定方法。 - 前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力を測定する荷重測定ステップと、
前記荷重測定ステップの測定結果をフィードバックすることによって、前記洗浄部材を前記基板に押し付ける力をコントロールする荷重制御ステップと、
を含む、請求項5に記載の交換時期判定方法。 - 基板をスクラブ洗浄する基板洗浄装置の洗浄部材の異常検知方法であって、
前記異常検知方法は、
前記洗浄部材を保持する保持手段の位置を測定する測定ステップと、
前記洗浄部材の異常の有無を検知する検知ステップと、
を含み、
前記洗浄部材を保持する保持手段の位置には、前記洗浄部材が前記基板に当接している洗浄位置が含まれ、
前記洗浄位置は、前記洗浄部材を用いて一定の圧力で前記基板をスクラブ洗浄するための前記保持手段の位置であり、
前記検知ステップでは、
一枚の基板をスクラブ洗浄するときの前記洗浄位置の変化が所定の基準振幅より大きくなった場合に前記洗浄部材の異常があると判定することで、異常の有無を検知することを特徴とする異常検知方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019033955A JP6736713B2 (ja) | 2019-02-27 | 2019-02-27 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
JP2020091390A JP6895565B2 (ja) | 2019-02-27 | 2020-05-26 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019033955A JP6736713B2 (ja) | 2019-02-27 | 2019-02-27 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014104471A Division JP2015220402A (ja) | 2014-05-20 | 2014-05-20 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
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---|---|---|---|
JP2020091390A Division JP6895565B2 (ja) | 2019-02-27 | 2020-05-26 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019087762A true JP2019087762A (ja) | 2019-06-06 |
JP6736713B2 JP6736713B2 (ja) | 2020-08-05 |
Family
ID=66763438
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019033955A Active JP6736713B2 (ja) | 2019-02-27 | 2019-02-27 | 基板洗浄装置および基板洗浄装置で実行される方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6736713B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07307321A (ja) * | 1994-05-12 | 1995-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄方法及び洗浄装置 |
US20080070479A1 (en) * | 2004-11-01 | 2008-03-20 | Ebara Corporation | Polishing Apparatus |
JP2012056029A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Ebara Corp | 研磨装置 |
-
2019
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07307321A (ja) * | 1994-05-12 | 1995-11-21 | Tokyo Electron Ltd | 洗浄方法及び洗浄装置 |
US20080070479A1 (en) * | 2004-11-01 | 2008-03-20 | Ebara Corporation | Polishing Apparatus |
JP2012056029A (ja) * | 2010-09-09 | 2012-03-22 | Ebara Corp | 研磨装置 |
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---|---|
JP6736713B2 (ja) | 2020-08-05 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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