JP2019059017A - 研磨装置およびその制御方法ならびにドレッシング条件出力方法 - Google Patents
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Abstract
Description
と研磨対象の基板の表面とを接触させた状態で両者を相対移動させることにより、基板の表面を研磨する。そのため、研磨パッドが徐々に摩耗したり、研磨パッドの表面の微細な凹凸が潰れたりして、研磨レートの低下を引き起こす。よって、表面に多数のダイヤモンド粒子を電着させたドレッサや表面にブラシを植毛したドレッサなどで研磨パッド表面のドレッシング(目立て)を行い、研磨パッド表面に微細な凹凸を再形成する必要がある。(例えば、特許文献1,2)。
Ttt/TdsおよびTds/Tttが非整数であるため、ドレッサの軌跡が重ならず、研磨パッドを均一にできる。
られたスキャン回数で効率よく研磨パッドをドレッシングできる。
これにより、研磨装置の自立制御が可能となり、効率よくドレッシング条件が得られる。
させるターンテーブル回転機構と、前記研磨パッドをドレッシングするドレッサと、前記研磨パッドに対して前記ドレッサを押圧させる押圧機構と、前記ドレッサを前記研磨パッド上の第1位置と第2位置との間をスキャンさせるスキャン機構と、を備える研磨装置におけるドレッシング条件を出力する方法であって、制約条件を受信するステップと、前記研磨パッドを均一にドレッシングできるドレッシング条件である第1条件と、前記研磨パッドを均一にドレッシングできないドレッシング条件である第2条件と、を予め記憶したデータベースを参照し、前記制約条件満たす前記第1条件が記憶されている場合に、その第1条件を出力するステップと、前記制約条件を満たす前記第1条件が記憶されていない場合に、ドレッシング条件を算出するステップと、前記データベースを参照し、前記算出されたドレッシング条件と、前記第2条件とが一致しない場合に、算出された前記ドレッシング条件を出力するステップと、を備え、前記ドレッシング条件を算出するステップでは、時刻tにおいて、前記ドレッサと前記研磨パッドとの間の相対速度をV(t)、前記ターンテーブルの中心と前記ドレッサの中心との距離をr(t)、前記研磨パッドに対する前記ドレッサの押圧力または圧力をA(t)とすると、V(t)A(t)/r(t)が略一定となるよう、前記ドレッシング条件を算出する、ドレッシング条件出力方法が提供される。
これにより、研磨装置の自立制御が可能となり、効率よくドレッシング条件が得られる。
図1は、研磨装置の概略構成を示す模式図である。この研磨装置は、半導体ウエハなどの基板Wを研磨するものであり、テーブルユニット1と、研磨液供給ノズル2と、研磨ユニット3と、ドレッシング液供給ノズル4と、ドレッシングユニット5と、制御器6とを備えている。テーブルユニット1、研磨ユニット3およびドレッシングユニット5は、ベース7上に設置されている。
研磨液供給ノズル2は研磨パッド11a上にスラリなどの研磨液を供給する。
ドレッシングユニット5は、ドレッサ51と、ドレッサシャフト52と、押圧機構53と、ドレッサ回転機構54と、ドレッサアーム55と、スキャン機構56とを有する。
サ51は、ドレスディスク51aが研磨パッド11aに接触してその表面を削ることによって、研磨パッド11aをドレッシング(コンディショニング)する。
ドレッサシャフト52は、その下端にドレッサ51が連結され、その上端に押圧機構53に連結されている。
空レギュレータ531によって生成される圧力Pは一定とし、ドレッサシャフト52を傾ける角度を制御器6が調整することで、垂直方向の押圧力Fが制御される。後者の制御によれば、ドレッサシャフト52を上下動させる際のヒステリシスに影響されることなく、押圧力Fを制御できる。
ドレッサ51の回転速度Nd[rpm]は、制御器6が駆動電流を調整することによって制御できる。
Ttt/Tds≠整数 かつ Tds/Ttt≠整数 ・・・(1)
したときにドレッサ51がちょうどn往復し、ドレッサ51が研磨パッド11a上の元の位置S1に戻る。また、Tds/Ttt=nであれば、ドレッサ51が1往復したときにターンテーブル11がちょうどn周し、やはりドレッサ51が研磨パッド11a上の元の位置S1に戻る。
結果として、Ttt/TdsまたはTds/Tttが整数の場合、研磨パッド11aの一部ばかりが削られ、研磨パッド11aが均一になりにくい。
Tds/Ttt=n+1/N ・・・(2)
ここで、nは任意の整数である。
す場合、ターンテーブル11が(nN+1)回転したときにドレッサ51がちょうどN往復し、ドレッサ51が元の位置S1に戻るためである。
結果として、N往復の間に研磨パッド11aの同じ位置を削ることなく、限られた往復回数で効率よく研磨パッド11aをドレッシングできる。
Tds/Ttt=n±d/2πr0 ・・・(3)
r0を1周するのに多くの往復回数が必要となってしまう。よって、スキャン機構56は、研磨パッド11aの中心近傍を始点としてドレッサ51を揺動させるのが望ましい。
Vds=d/Ttt ・・・(4)
Vds=L/Tds ・・・(5)
上記(4),(5)式から下記(6)式が導かれる。
Tds/Ttt=L/d ・・・(6)
Tds≦T0/m ・・・(7)
の回転周期Tttにはそれほど制限はない。そこで、制御器6は、まず上記(7)式を満たすようドレッサ51のスキャン周期Tdsを設定し、その上で、上記(1)〜(3)式のいずれかを満たすようターンテーブル11の回転周期Tttを設定することができる。
Tds=Ttt(n+d/2πr0)≒0.666(n+0.3188)
≒3.54, 4.21, 4.87[s](n=5,6,7) ・・・(3’)
Tds=Ttt(n−d/2πr0)≒0.666(n−0.3188)
≒3.12, 3.78, 4.45[s](n=5,6,7) ・・・(3’
’)
Vds=d/Ttt≒150[mm/s] ・・・(4’)
また、ドレッサ51の加減速を無視し、上記(5)式に数値および上記(4’)式の結果を代入すると下記(5’)式が得られる。
Tds=L/Vds≒4.133[s] ・・・(5’)
Vds=150[mm/s]に達するまでに要する時間は0.3[s]である。そして、1往復において加減速が4回発生するため、加減速の合計時間は1.2[s]である。よって、ドレッサ51のスキャン周期Tdsは下記(5’’)式となる。
Tds≒(L−(Vds*加減速の合計時間/2))/Vds+加減速の合計時間
=(620−(150*1.2)/2)/150+1.2
=4.73[s] ・・・(5’’)
上述した第1の実施形態は、ドレッサ51の軌跡が重ならないこと、言い換えると、研磨パッド11aのできる限り多くの位置を磨くことに主眼を置いていた。これに対し、次に説明する第2の実施形態では、ドレッサ51の位置に応じて研磨パッド11aの削り量が変動するのを抑えるものである。
上記相対速度V、押圧力Fおよび距離rは時々刻々と変化し得るため、時刻tにおける値をそれぞれV(t),F(t),r(t)と表記する。
V(t)F(t)/r(t)=一定 ・・・(7)
距離r(t)の制御は困難であるので、制御器6は上記(7)式を満たすよう相対速度V(t)および/または押圧力F(t)を制御する。
上述した第2の実施形態では、ドレッサ51と研磨パッド11aとの間の摩擦係数が一定としていた。しかしながら、実際には摩擦係数が変動することもある。そこで、次に説明する第3の実施形態では、摩擦係数の変動も考慮した制御を行うものである。
係数zがほぼ一定である領域aと、比V/Fに応じて摩擦係数zが変動する領域b〜eがある。ドレッサ51が領域aで動作していれば、ドレッサ51の位置に応じて相対速度Vが変動しても、摩擦係数zは一定である。よって、制御器6は、摩擦係数zと比V/Fとの関係をモニターし、ドレッサ51が領域aで動作するよう、相対速度Vおよび/または押圧力Fを調整すればよい。この関係は次のようにしてモニターでき、制御器6はこの関係を不図示のディスプレイに表示してもよい。
第4の実施形態における制御器6は、第1〜第3の実施形態のいずれかで設定された条件でターンテーブル11およびドレッサ51を制御する。ただし、ドレッサ51および研磨パッド11aの摩耗を防ぐために、制御器6は、ドレッサ51が研磨パッド11aとは接触せずに研磨パッド11aの上方にある状態で、ターンテーブル11およびドレッサ51を動作させる。いわゆる「空レシピ」と呼ばれるものである。
この軌跡に基づいて、研磨パッド11aを均一にドレッシングできるか否かを判断できる。この判断は人手で行ってもよいし制御器6が行ってもよい。
第5の実施形態における制御器6は自立制御を行うものである。本実施形態における制御器6は、研磨パッド11aを均一にドレッシングできるドレッシング条件と、均一にドレッシングできないドレッシング条件とを予めデータベースに保持しているものとする。前者は、例えば上記(1)〜(3)式を満たし、かつ、第4の実施形態で示したチェックによって良い結果が得られた条件である。後者は、例えば上記(1)〜(3)式を満たさない条件や、満たしたとしても第4の実施形態で示したチェックによって良い結果が得られなかった条件である。
有る場合(ステップS2のYES)、制御器6は該当するドレッシング条件を出力する(ステップS3)。
11a 研磨パッド
12 ターンテーブル回転機構
51 ドレッサ
53 押圧機構
56 スキャン機構
6 制御器
Claims (10)
- 基板を研磨する研磨パッドが設けられたターンテーブルと、
前記ターンテーブルを回転させるターンテーブル回転機構と、
前記研磨パッドをドレッシングするドレッサと、
前記研磨パッドに対して前記ドレッサを押圧させる押圧機構と、
前記ドレッサを前記研磨パッドの第1位置と第2位置との間をスキャンさせるスキャン機構と、を備え、
時刻tにおいて、前記ドレッサと前記研磨パッドとの間の相対速度をV(t)、前記ターンテーブルの中心と前記ドレッサの中心との距離をr(t)、前記研磨パッドに対する前記ドレッサの押圧力または圧力をA(t)とすると、V(t)A(t)/r(t)が略一定である、研磨装置。 - V(t)A(t)/r(t)が略一定となるよう、前記V(t)および/または前記A(t)を制御する制御器を備える、請求項1に記載の研磨装置。
- 前記ドレッサと前記研磨パッドとの間の摩擦係数が一定となるよう、前記V(t)および/または前記A(t)を制御する制御器を備える、請求項1に記載の研磨装置。
- 前記制御器は、前記V(t)と、前記A(t)と、前記ドレッサが前記研磨パッドを実際にドレッシングする力と、に基づいて前記摩擦係数を算出する、請求項3に記載の研磨装置。
- 前記ドレッサが前記研磨パッドに接触しない状態で、前記ターンテーブル回転機構を制御して前記ターンテーブルを回転させるとともに、前記スキャン機構を制御して前記ドレッサをスキャンさせ、前記研磨パッド上での前記ドレッサの軌跡をモニターする制御器を備える、請求項1に記載の研磨装置。
- 基板を研磨する研磨パッドが設けられたターンテーブルと、
前記ターンテーブルを回転させるターンテーブル回転機構と、
前記研磨パッドをドレッシングするドレッサと、
前記研磨パッドに対して前記ドレッサを押圧させる押圧機構と、
前記ドレッサを前記研磨パッドの第1位置と第2位置との間をスキャンさせるスキャン機構と、を備えた研磨装置の制御方法であって、
時刻tにおいて、前記ドレッサと前記研磨パッドとの間の相対速度をV(t)、前記ターンテーブルの中心と前記ドレッサの中心との距離をr(t)、前記研磨パッドに対する前記ドレッサの押圧力または圧力をA(t)とすると、V(t)A(t)/r(t)が略一定となるよう、前記ターンテーブル回転機構、前記押圧機構および前記スキャン機構を制御する、研磨装置の制御方法。 - 基板を研磨する研磨パッドが設けられたターンテーブルと、
前記ターンテーブルを回転させるターンテーブル回転機構と、
前記研磨パッドをドレッシングするドレッサと、
前記研磨パッドに対して前記ドレッサを押圧させる押圧機構と、
前記ドレッサを前記研磨パッド上の第1位置と第2位置との間をスキャンさせるスキャン機構と、を備える研磨装置におけるドレッシング条件を出力する方法であって、
制約条件を受信するステップと、
前記研磨パッドを均一にドレッシングできるドレッシング条件である第1条件と、前記研磨パッドを均一にドレッシングできないドレッシング条件である第2条件と、を予め記憶したデータベースを参照し、前記制約条件満たす前記第1条件が記憶されている場合に、その第1条件を出力するステップと、
前記制約条件を満たす前記第1条件が記憶されていない場合に、ドレッシング条件を算出するステップと、
前記データベースを参照し、前記算出されたドレッシング条件と、前記第2条件とが一致しない場合に、算出された前記ドレッシング条件を出力するステップと、を備え、
前記ドレッシング条件を算出するステップでは、時刻tにおいて、前記ドレッサと前記研磨パッドとの間の相対速度をV(t)、前記ターンテーブルの中心と前記ドレッサの中心との距離をr(t)、前記研磨パッドに対する前記ドレッサの押圧力または圧力をA(t)とすると、V(t)A(t)/r(t)が略一定となるよう、前記ドレッシング条件を算出する、ドレッシング条件出力方法。 - 前記算出されたドレッシング条件と、前記第2条件と、が一致しない場合に、前記算出されたドレッシング条件を前記データベースに追加するステップを備える、請求項7に記載のドレッシング条件出力方法。
- 前記算出されたドレッシング条件と、前記第2条件と、が一致しない場合に、前記算出されたドレッシング条件にて、前記ドレッサが前記研磨パッドに接触しない状態で、前記ターンテーブル回転機構を制御して前記ターンテーブルを回転させるとともに、前記スキャン機構を制御して前記ドレッサをスキャンさせ、前記研磨パッド上での前記ドレッサの軌跡をモニターすることで、前記研磨パッドを均一にドレッシングできるか否かをチェックするステップを備え、
このチェックの結果、前記研磨パッドを均一にドレッシングできる場合に、前記算出されたドレッシング条件を出力する、請求項7または8に記載のドレッシング条件出力方法。 - 前記算出されたドレッシング条件と、前記第2条件と、が一致する場合に、別のドレッシング条件を算出するステップを備える、請求項7乃至9の何れかに記載のドレッシング条件出力方法。
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