JP2019057682A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
[構造説明]
以下、図面を参照しながら本実施の形態の半導体装置について詳細に説明する。
本実施の形態の半導体装置(トランジスタ)において、ゲート電極GEにしきい値電圧以上のゲート電圧を印加すると、トレンチTRの側面と接するチャネル層(n型半導体領域)CHに反転層(n型半導体領域)が形成される。そして、ソース領域SRとドリフト層DRとは、反転層で電気的に接続されることになり、ソース領域SRとドリフト層DRとの間に電位差がある場合、ソース領域SRから反転層を通ってドリフト層DRに電子が流れる。言い換えれば、ドリフト層DRから反転層を通ってソース領域SRに電流が流れる。このように、トランジスタを、オンさせることができる。
図1に示すトランジスタは、後述するように、平面視において繰り返し配置されている。このため、図1に示すトランジスタを“単位トランジスタUC”と呼ぶ場合がある。図2、図3は、本実施の形態の半導体装置の構成を示す平面図である。図1は、例えば、図2のA−A断面部に対応する。また、図2に示す領域UCは、例えば、図3に示す領域UCに対応する。図3は、1つのチップ領域Cを示す。
次いで、図4〜図15を参照しながら、本実施の形態の半導体装置の製造方法を説明するとともに、当該半導体装置の構成をより明確にする。図4〜図15は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図である。
[ウエハへのレーザ照射方法]
次いで、本実施の形態において用いられるレーザについて説明する。
実施の形態1においては、シリサイド膜を形成する際の熱処理(シリサイド化のための熱処理)として、1回のレーザアニールを行ったが、この熱処理を2工程とし、RTAとレーザアニールを組み合わせてもよい。
本実施の形態の半導体装置の構成は、実施の形態1(図1)と同様の構成であるためその説明を省略する。また、本実施の形態の半導体装置の動作は、実施の形態1の場合と同様である。
図27〜図33を参照しながら、本実施の形態の半導体装置の製造方法を説明する。図27〜図33は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図である。なお、実施の形態1の場合と同様の工程については、その詳細な説明を省略する。
実施の形態2においては、シリサイド膜を形成する際の熱処理(シリサイド化のための熱処理)を2工程とし、第1熱処理として、RTAを、第2熱処理として、レーザアニールを施したが、第1熱処理および第2熱処理ともに、レーザアニールとしてもよい。
本実施の形態の半導体装置の構成は、実施の形態1(図1)と同様の構成であるためその説明を省略する。また、本実施の形態の半導体装置の動作は、実施の形態1の場合と同様である。
図34〜図40を参照しながら、本実施の形態の半導体装置の製造方法を説明する。図34〜図40は、本実施の形態の半導体装置の製造工程を示す断面図である。なお、実施の形態1の場合と同様の工程については、その詳細な説明を省略する。
1S 基板
2P 第2パルス
10a 第1導電性膜
10b 第2導電性膜
BC ボディコンタクト領域
C チップ領域
C1 コンタクトホール
C2 コンタクトホール
CH チャネル層
DE ドレイン電極
DR ドリフト層
GE ゲート電極
GL ゲート線
GPD ゲートパッド
IL1 層間絶縁膜
MT 金属膜
NEP n型エピタキシャル層
PAS 表面保護膜
PEP p型エピタキシャル層
R レーザ
SE ソース電極
SIL シリサイド膜
SILa シリサイド膜
SR ソース領域
TR トレンチ
UC 単位トランジスタ
W ウエハ
Claims (19)
- (a)SiC基板の第1面側に、素子を形成する工程、
(b)前記素子上に層間絶縁膜を形成する工程、
(c)前記素子の構成部上の前記層間絶縁膜を除去することにより、その底面にSiCよりなる部位を露出するコンタクトホールを形成する工程、
(d)前記コンタクトホールの底面、側面および前記層間絶縁膜上に第1金属を含有する金属膜を形成する工程、
(e)熱処理を施し、前記金属膜と前記SiCよりなる部位とのシリサイド化反応により、前記コンタクトホールの底面において、前記第1金属のシリサイド膜を形成する工程、
を、有し、
前記(e)工程は、前記SiC基板の前記第1面側に、レーザ光を照射する工程である、半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置の製造方法において、
前記レーザ光は、前記SiCよりなる部位は透過し、前記金属膜には吸収される、半導体装置の製造方法。 - 請求項2記載の半導体装置の製造方法において、
前記レーザ光の波長は、455nm〜597nmである、半導体装置の製造方法。 - 請求項2記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程の後、
(f)前記金属膜のうち、前記シリサイド化反応において未反応の前記金属膜の部分を除去する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項4記載の半導体装置の製造方法において、
前記(f)工程の後、
(g)前記シリサイド膜上を含む前記コンタクトホール内に、導電性膜を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項5記載の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程と前記(d)工程の間に、
前記コンタクトホールの底面に不純物イオンを注入することにより、半導体領域を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項6記載の半導体装置の製造方法において、
前記金属膜は、前記第1金属よりなる膜のみで構成される単層膜である、半導体装置の製造方法。 - (a)SiC基板の第1面側に、素子を形成する工程、
(b)前記素子上に層間絶縁膜を形成する工程、
(c)前記素子の構成部上の前記層間絶縁膜を除去することにより、その底面にSiCよりなる部位を露出するコンタクトホールを形成する工程、
(d)前記コンタクトホールの底面、側面および前記層間絶縁膜上に第1金属を含有する金属膜を形成する工程、
(e)前記SiC基板に、熱処理を施し、前記コンタクトホールの底面において、前記第1金属の第1シリサイド膜を形成する工程、
(f)前記金属膜のうち前記(e)工程において未反応の金属膜の部分を除去する工程、
(g)前記SiC基板の前記第1面側に、レーザ光を照射し、前記第1金属の第2シリサイド膜を形成する工程、
を、有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項8記載の半導体装置の製造方法において、
前記熱処理は、赤外線ランプアニールである、半導体装置の製造方法。 - 請求項9記載の半導体装置の製造方法において、
前記レーザ光は、前記SiCよりなる部位は透過し、前記第1シリサイド膜には吸収される、半導体装置の製造方法。 - 請求項10記載の半導体装置の製造方法において、
前記レーザ光の波長は、455nm〜597nmである、半導体装置の製造方法。 - 請求項11記載の半導体装置の製造方法において、
前記(g)工程の後、
(h)前記第2シリサイド膜上を含む前記コンタクトホール内に、導電性膜を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項12記載の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程と前記(d)工程の間に、
前記コンタクトホールの底面に不純物イオンを注入することにより、半導体領域を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項10記載の半導体装置の製造方法において、
前記金属膜は、前記第1金属よりなる第1膜と、前記第1膜上に形成され、前記第1金属以外の第2金属よりなる第2膜との積層膜である、半導体装置の製造方法。 - (a)SiC基板の第1面側に、素子を形成する工程、
(b)前記素子上に層間絶縁膜を形成する工程、
(c)前記素子の構成部上の前記層間絶縁膜を除去することにより、その底面にSiCよりなる部位を露出するコンタクトホールを形成する工程、
(d)前記コンタクトホールの底面、側面および前記層間絶縁膜上に第1金属を含有する金属膜を形成する工程、
(e)前記SiC基板の前記第1面側に、レーザ光を照射し、前記第1金属の第1シリサイド膜を形成する工程、
(f)前記金属膜のうち前記(e)工程において未反応の金属膜の部分を除去する工程、
(g)前記SiC基板の前記第1面側に、レーザ光を照射し、前記第1金属の第2シリサイド膜を形成する工程、
を、有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項15記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程の前記レーザ光は、前記SiCよりなる部位は透過し、前記金属膜には吸収され、
前記(g)工程の前記レーザ光は、前記SiCよりなる部位は透過し、前記第1シリサイド膜には吸収される、半導体装置の製造方法。 - 請求項16記載の半導体装置の製造方法において、
前記(e)工程および前記(g)工程の前記レーザ光の波長は、455nm〜597nmである、半導体装置の製造方法。 - 請求項16記載の半導体装置の製造方法において、
前記(g)工程の後、
(h)前記第2シリサイド膜上を含む前記コンタクトホール内に、導電性膜を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。 - 請求項18記載の半導体装置の製造方法において、
前記(c)工程と前記(d)工程の間に、
前記コンタクトホールの底面に不純物イオンを注入することにより、半導体領域を形成する工程、を有する、半導体装置の製造方法。
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Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012004185A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Denso Corp | 炭化珪素半導体装置の製造方法 |
JP2012178483A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi Ltd | 炭化珪素半導体装置及びその製造方法 |
JP2013058601A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-28 | Toshiba Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
WO2014065018A1 (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-01 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2016127157A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 住友重機械工業株式会社 | レーザアニール装置及び半導体素子の製造方法 |
JP2016149566A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-08-18 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
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Family Cites Families (7)
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US20100075499A1 (en) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | Olsen Christopher S | Method and apparatus for metal silicide formation |
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JP5962475B2 (ja) * | 2012-12-06 | 2016-08-03 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置の製造方法及び炭化珪素半導体装置 |
JP6053968B2 (ja) * | 2014-02-13 | 2016-12-27 | 三菱電機株式会社 | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
JP6472714B2 (ja) * | 2015-06-03 | 2019-02-20 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
-
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Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012004185A (ja) * | 2010-06-14 | 2012-01-05 | Denso Corp | 炭化珪素半導体装置の製造方法 |
JP2012178483A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi Ltd | 炭化珪素半導体装置及びその製造方法 |
JP2013058601A (ja) * | 2011-09-08 | 2013-03-28 | Toshiba Corp | 半導体装置および半導体装置の製造方法 |
WO2014065018A1 (ja) * | 2012-10-23 | 2014-05-01 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2016149566A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-08-18 | 住友電気工業株式会社 | 炭化珪素半導体装置およびその製造方法 |
JP2016127157A (ja) * | 2015-01-05 | 2016-07-11 | 住友重機械工業株式会社 | レーザアニール装置及び半導体素子の製造方法 |
JP2017168679A (ja) * | 2016-03-16 | 2017-09-21 | 富士電機株式会社 | 炭化珪素半導体素子および炭化珪素半導体素子の製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019194057A1 (ja) | 2018-04-06 | 2019-10-10 | 三ツ星ベルト株式会社 | はす歯ベルトおよびベルト伝動装置 |
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