JP2019046985A - 基板保持装置 - Google Patents
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図1は、基板処理装置100の構成の一例を概略的に示す図である。基板処理装置100は基板Wに対する処理を行う装置である。基板Wは例えば半導体基板であって、平面視で円形の形状を有する板状の基板である。但し、基板Wはこれに限らず、例えば液晶などの表示パネル用の基板であって、平面視で矩形状の形状を有する板状の基板であってもよい。
図2は、基板保持装置1の構成の一例を概略的に示す平面図であり、図3は、基板保持装置1の基体部材10の構成の一例を概略的に示す斜視図であり、図4から図6は、基板保持装置1の周縁部の構成の一例を示す断面図である。
次に基板Wに対して処理液を供給する際の処理液の流れについて述べる。処理液は、基板Wを保持した基板保持装置1が回転機構13によって回転させられている状態で、ノズル41の吐出口41aから基板Wの表面に吐出される。この処理液は基板Wの表面で遠心力を受けて広がって、基板Wの周縁から飛散される。図2に例示するように、基体部材10のピン用貫通孔12の一部は基板Wの周縁よりも径方向外側に位置しているので、基板Wの周縁から飛散した処理液はピン用貫通孔12の内部へと進入し得る。つまり、ピン用貫通孔12においてピン20と基体部材10との間の隙間に、処理液が進入し得る。
基板保持装置1と基板搬送ロボットとの間で基板Wを受け渡す場合、昇降ピン20Bが上昇する(図6も参照)。続く昇降ピン20Bの下降によって、基体部材10の上面10aよりも上側の気体(処理液雰囲気)は昇降ピン用貫通孔12Bの内部へと引き込まれ得る。しかしながら、基体部材10には排液孔14が形成されているので、この処理液雰囲気の少なくとも一部を排液孔14から排出できる。またシール用部材50が設けられている場合には、排液口14aから排出される処理液雰囲気の量を向上することができる。この場合、処理液雰囲気は主として排液口14aから排出される。
ピン用貫通孔12と排液口14aとは一対一で設けられていることが望ましい。言い換えれば、一つのピン用貫通孔12に対して排液口14aの一つのみが設けられていることが望ましい。比較のために、一つのピン用貫通孔12に対して複数の排液口14aが形成される場合を考慮する。図7は、比較例にかかる基板保持装置1’の構成の一部を概略的に例示する断面図である。基板保持装置1’の基体部材10の側面10bには、一つのピン用貫通孔12に連通する第1排液口14aおよび第2排液口14aが形成されている。この第1排液口14aおよび第2排液口14aはシール用部材50よりも上側でピン用貫通孔12に連通している。第1排液口14aおよび第2排液口14aは鉛直方向において間隔を空けて並ぶ。ここでは、第1排液口14aとピン用貫通孔12を連通する孔を第1排液孔14と呼び、第2排液口14aとピン用貫通孔12を連通する孔を第2排液孔14と呼ぶ。
図8は、基板保持装置1Aの一部の構成の一例を概略的に示す平面図である。この図8では、基板保持装置1Aのうち、一つのピン用貫通孔12の相当する部分が拡大して示されている。後に参照する図面でも適宜に当該部分が示される。
図9は、基板保持装置1Bの一部の構成の一例を概略的に示す平面図である。基板保持装置1Bは排液孔14の形状という点で基板保持装置1Aと相違する。
図12は、基板保持装置1Cの一部の構成の一例を概略的に示す平面図である。基板保持装置1Cは排液孔14の形状という点で基板保持装置1と相違する。
図13は、基板保持装置1Dの一部の構成の一例を概略的に示す斜視図である。基板保持装置1Dは突起部18の有無という点で基板保持装置1と相違する。基板保持装置1Dは突起部18を更に備えている。
10 基体部材
10a 上面
10b 側面
12 ピン用貫通孔
12B 昇降ピン用貫通孔
14 排液孔
14a 排液口
14b 接続口
16 排気孔
16a 排気口
16b 接続口
18 突起部
20 ピン
20B 昇降ピン
50 第1シール用部材(シール用部材)
50B 昇降シール用部材
52 第2シール用部材(シール用部材)
141 第1面(面)
142 第2面(面)
DR 回転方向
W 基板
Claims (9)
- 基板に処理液を供給する基板処理装置に用いられる基板保持装置であって、
前記基板の裏面と対向する上面を有しており、鉛直方向に延びて前記上面において開口する複数のピン用貫通孔が形成されている基体部材と、
前記複数のピン用貫通孔を介して前記基体部材を鉛直方向に貫通し、前記上面から突出して前記基板に当接する複数のピンと
を備え、
前記基体部材の側面には、前記複数のピン用貫通孔にそれぞれ連通する複数の排液口が形成されている、基板保持装置。 - 請求項1に記載の基板保持装置であって、
前記複数のピン用貫通孔の内部において、それぞれ、前記複数のピンと前記基体部材の間の隙間に設けられる複数の第1シール用部材を更に備え、
前記複数のピン用貫通孔と前記複数の排液口とをそれぞれ連通する複数の孔を複数の排液孔と呼ぶと、
前記複数の第1シール用部材は、前記複数のピン用貫通孔と前記複数の排液孔とを接続する複数の第1接続口のそれぞれに対して、下側に位置している、基板保持装置。 - 請求項2に記載の基板保持装置であって、
前記複数のピンは、鉛直方向に沿って昇降する昇降ピンを含み、
前記複数のピン用貫通孔のうち前記昇降ピンが貫通する孔を昇降ピン用貫通孔と呼び、前記複数の第1シール用部材のうち前記昇降ピン用貫通孔の内部に設けられる第1シール用部材を昇降シール用部材と呼ぶと、
前記基体部材の前記側面には、前記昇降シール用部材よりも下側で前記昇降ピン用貫通孔に連通する排気口が形成されている、基板保持装置。 - 請求項3に記載の基板保持装置であって、
前記昇降ピン用貫通孔の内部において、前記昇降ピンと前記基体部材との間の隙間に設けられている第2シール用部材を更に備え、
前記排気口と前記昇降ピン用貫通孔とを連通する孔を排気孔と呼ぶと、
前記第2シール用部材は、前記排気孔と前記昇降ピン用貫通孔との第2接続口よりも下側に位置している、基板保持装置。 - 請求項1から請求項4のいずれか一つに記載の基板保持装置であって、
前記複数のピン用貫通孔の一つに対して前記複数の排液口の一つのみが形成されている、基板保持装置。 - 請求項1から請求項5のいずれか一つに記載の基板保持装置であって、
前記複数の排液口と前記複数のピン用貫通孔とをそれぞれ連通する複数の孔を複数の排液孔と呼ぶと、
前記複数の排液孔は前記基体部材の前記側面に近づくにつれて広がっている、基板保持装置。 - 請求項6に記載の基板保持装置であって、
前記基体部材は、前記基板の中心を通って鉛直方向に延びる回転軸の周りで所定の回転方向に回転し、
前記複数の排液孔の各々の前記回転方向とは反対側の第1面は、前記回転軸を中心とした径方向に対して前記回転方向とは反対側に第1角度で傾いており、
前記複数の排液孔の各々の前記回転方向側の第2面は、前記径方向に対して前記回転方向側に、前記第1角度よりも小さい第2角度で傾いている、基板保持装置。 - 請求項1から請求項7のいずれか一つに記載の基板保持装置であって、
前記基体部材は、前記基板の中心を通って鉛直方向に延びる回転軸の周りで所定の回転方向に回転し、
前記複数の排液口と前記複数のピン用貫通孔とをそれぞれ連通する複数の孔を複数の排液孔と呼ぶと、
前記複数の排液孔は、それぞれ、前記複数のピン用貫通孔から前記側面に向かって、前記回転軸を中心とした径方向から傾いた方向に沿って延在している、基板保持装置。 - 請求項1から請求項8のいずれか一つに記載の基板保持装置であって、
前記基体部材は、前記基板の中心を通って鉛直方向に延びる回転軸の周りで所定の回転方向に回転し、
前記基体部材の前記側面には、一対の突起部が設けられており、
前記一対の突起部は前記複数の排液口の一つを上下で挟む位置にそれぞれ設けられており、前記一対の突起部の間の間隔は、前記回転方向側から前記回転方向とは反対側へ向かうにしたがって狭くなる、基板保持装置。
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