KR102348772B1 - 기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체 - Google Patents

기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체 Download PDF

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지로 히가시지마
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 액 받이컵의 컵체의 돌출부를 얼룩 없이 세정하는 것을 과제로 한다.
제1 컵체(51)와 제2 컵체(52) 중 어느 한쪽을 승강시켜 양자를 근접 상태로 한다. 이때, 제1 돌출부(5102)의 하면에 형성된 간극 형성부(5106)와 제2 돌출부(5202)의 상면 사이의 제1 간극(G1)이, 제1 돌출부의 간극 형성부가 없는 부분과 제2 돌출부의 상면 사이의 제2 간극(G2)보다 작다. 이 상태로, 제2 간극에 세정액을 공급한다. 반경 방향 외향으로 흐르고자 하는 세정액의 움직임이 좁은 제1 간극에 의해 제한되기 때문에, 제1 돌출부와 제2 돌출부 사이의 공간의 전역을 세정액으로 채울 수 있어, 세정 대상면을 얼룩 없이 세정할 수 있다.

Description

기판 처리 장치, 기판 처리 장치의 세정 방법 및 기억 매체{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, METHOD OF CLEANING SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, AND STORAGE MEDIUM}
본 발명은 기판 처리 장치에 있어서 회전하는 기판으로부터 비산하는 처리액을 받아내는 컵체의 세정 기술에 관한 것이다.
반도체 제조 장치의 제조에 있어서, 회전하는 반도체 웨이퍼 등의 기판의 표면에 약액 등의 처리액을 공급하여 기판에 액 처리가 실시된다. 회전하는 기판에 공급된 후에 원심력에 의해 기판으로부터 비산하는 처리액은, 기판의 주위에 배치된 액 받이컵에 의해 받아진다. 통상, 액 받이컵은, 상대적으로 상하 이동 가능한 복수의 컵체로 구성된다. 각 컵체는, 대략 원통형의 원통부와, 원통부의 상단으로부터 반경 방향 내측으로 돌출하는 경사한 돌출부를 가지고 있다.
기판으로부터 미스트 또는 액적의 형태로 비산하는 약액은 돌출부 표면에 머물기 쉽다. 돌출부 표면에 머무는 약액 또는 약액 중에 포함되는 반응 생성물이 돌출부에서 고화한 후 박리되면, 기판에의 파티클 부착의 원인이 된다. 이 때문에, 컵체 특히 그 돌출부는 정기적으로 세정된다.
컵체의 돌출부를 포함한 기판의 주위의 부재를 세정하는 방법이 특허문헌 1, 2 등에 의해 알려져 있다. 기판 유지부에 의해 유지되어 회전하는 세정용 지그에 세정액이 공급되고, 원심력에 의해 세정액이 세정용 지그로부터 비산한다. 세정용 지그에는 세정액의 비산을 안내하는 가이드면(예컨대 경사면)이 마련되어 있다. 세정용 지그의 회전 속도, 세정액의 공급 유량 등을 조절함으로써, 여러 가지 높이 또는 각도로 세정액을 비산시킬 수 있다.
그러나, 전술한 종래 기술에는, 액 받이컵의 컵체의 돌출부를 얼룩 없이 세정한다고 하는 점에서 개선의 여지가 있다.
특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2000-315671호 공보 특허문헌 2: 일본 특허 공개 제2014-130935호 공보
본 발명은 액 받이컵의 컵체의 돌출부를 얼룩 없이 세정할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명의 일실시형태에 따르면, 기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 노즐과, 상기 기판 유지부의 주위에 마련되며, 상기 기판으로부터 비산하는 상기 처리액을 받는 제1 컵체 및 제2 컵체를 갖는 액 받이컵으로서, 상기 제1 컵체가 제1 통형부와 상기 제1 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제1 돌출부를 가지며, 상기 제2 컵체가 제2 통형부와 상기 제2 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제2 돌출부를 가지고, 상기 제1 통형부가 상기 제2 통형부의 반경 방향 외측에 위치하며, 상기 제1 돌출부가 상기 제2 돌출부의 상방에 위치하고, 상기 제2 돌출부의 상면이 반경 방향 내측으로 감에 따라 높아지도록 경사져 있는, 액 받이컵과, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 이격하고 있는 제1 상태와, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 상기 제1 상태보다 근접하고 있는 제2 상태를 취할 수 있도록, 상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시키는 승강 기구를 구비하고, 상기 제2 상태에 있을 때에, 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제1 간극이 형성되며, 또한, 상기 제1 간극보다 반경 방향 내측에 있어서의 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제2 간극이 형성되고, 상기 제1 간극은 상기 제2 간극보다 좁고, 상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 세정액 노즐을 구비한 기판 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 다른 실시형태에 따르면, 기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 노즐과, 상기 기판 유지부의 주위에 마련되며, 상기 기판으로부터 비산하는 상기 처리액을 받는 제1 컵체 및 제2 컵체를 갖는 액 받이컵으로서, 상기 제1 컵체가 제1 통형부와 상기 제1 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제1 돌출부를 가지며, 상기 제2 컵체가 제2 통형부와 상기 제2 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제2 돌출부를 가지고, 상기 제1 통형부가 상기 제2 통형부의 반경 방향 외측에 위치하며, 상기 제1 돌출부가 상기 제2 돌출부의 상방에 위치하고, 상기 제2 돌출부의 상면이 반경 방향 내측으로 감에 따라 높아지도록 경사져 있는, 액 받이컵과, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 이격하고 있는 제1 상태와, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 상기 제1 상태보다 근접하고 있는 제2 상태를 취할 수 있도록, 상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시키는 승강 기구를 구비하고, 상기 제2 상태에 있을 때에, 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제1 간극이 형성되며, 또한, 상기 제1 간극보다 반경 방향 내측에 있어서의 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제2 간극이 형성되고, 상기 제1 간극은 상기 제2 간극보다 좁고, 상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 세정액 노즐을 구비한 기판 처리 장치를 세정하는 방법에 있어서, 상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시킴으로써 상기 제2 상태를 확립하는 공정과, 상기 세정액 노즐로부터 상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 공정을 구비한 기판 처리 장치의 세정 방법이 제공된다.
본 발명의 또 다른 실시형태에 따르면, 기판 처리 장치의 동작을 제어하기 위한 컴퓨터에 의해 실행되었을 때에, 상기 컴퓨터가 상기 기판 처리 장치를 제어하여 상기 기판 처리 장치의 세정 방법을 실행시키는 프로그램이 기록된 기억 매체가 제공된다.
상기 본 발명의 실시형태에 따르면, 액 받이컵의 컵체의 돌출부를 얼룩 없이 세정할 수 있다.
도 1은 본 발명의 기판 처리 장치의 일실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 전체 구성을 개략적으로 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 기판 처리 시스템에 포함되는 처리 유닛의 구성을 개략적으로 나타내는 종단면도이다.
도 3은 도 2의 영역(III)을 확대하여 상세하게 나타내는 종단면도이다.
도 4는 제1 컵체를 도 3에 있어서의 IV-IV선을 따라 절단한 단면도이며(이것은 제1 컵체의 돌출부의 저면도이기도 함), 제2 컵체 및 제3 컵체는 나타내고 있지 않다.
도 5는 제1 돌출부와 제2 돌출부 사이에 세정액이 채워진 상태를 나타내는 단면도이다.
도 6은 제1 돌출부 및 제2 돌출부의 선단부의 다른 형상을 나타내는 단면도이다.
도 7은 제1 돌출부 및 제2 돌출부의 선단부의 또 다른 형상을 나타내는 단면도이다.
도 8은 제1 돌출부 및 제2 돌출부의 다른 실시형태를 나타내는 단면도이다.
이하에 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해서 설명한다.
도 1은 본 실시형태에 따른 기판 처리 시스템의 개략 구성을 나타내는 도면이다. 이하에서는, 위치 관계를 명확하게 하기 위해, 서로 직교하는 X축, Y축 및 Z축을 규정하고, Z축 정방향을 연직 상향 방향으로 한다.
도 1에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 시스템(1)은, 반입출 스테이션(2)과, 처리 스테이션(3)을 구비한다. 반입출 스테이션(2)과 처리 스테이션(3)은 인접하여 마련된다.
반입출 스테이션(2)은, 캐리어 배치부(11)와, 반송부(12)를 구비한다. 캐리어 배치부(11)에는, 복수매의 기판, 본 실시형태에서는 반도체 웨이퍼[이하 웨이퍼(W)]를 수평 상태로 수용하는 복수의 캐리어(C)가 배치된다.
반송부(12)는, 캐리어 배치부(11)에 인접하여 마련되며, 내부에 기판 반송 장치(13)와, 전달부(14)를 구비한다. 기판 반송 장치(13)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(13)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 캐리어(C)와 전달부(14) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 스테이션(3)은, 반송부(12)에 인접하여 마련된다. 처리 스테이션(3)은, 반송부(15)와, 복수의 처리 유닛(16)을 구비한다. 복수의 처리 유닛(16)은, 반송부(15)의 양측에 배열되어 마련된다.
반송부(15)는, 내부에 기판 반송 장치(17)를 구비한다. 기판 반송 장치(17)는, 웨이퍼(W)를 유지하는 웨이퍼 유지 기구를 구비한다. 또한, 기판 반송 장치(17)는, 수평 방향 및 연직 방향으로의 이동 및 연직축을 중심으로 하는 선회가 가능하고, 웨이퍼 유지 기구를 이용하여 전달부(14)와 처리 유닛(16) 사이에서 웨이퍼(W)의 반송을 행한다.
처리 유닛(16)은, 기판 반송 장치(17)에 의해 반송되는 웨이퍼(W) 에 대하여 소정의 기판 처리를 행한다.
또한, 기판 처리 시스템(1)은, 제어 장치(4)를 구비한다. 제어 장치(4)는, 예컨대 컴퓨터이며, 제어부(18)와 기억부(19)를 구비한다. 기억부(19)에는, 기판 처리 시스템(1)에 있어서 실행되는 각종 처리를 제어하는 프로그램이 저장된다. 제어부(18)는, 기억부(19)에 기억된 프로그램을 읽어내어 실행함으로써 기판 처리 시스템(1)의 동작을 제어한다.
또한, 이러한 프로그램은, 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체에 기록되어 있던 것으로서, 그 기억 매체로부터 제어 장치(4)의 기억부(19)에 인스톨된 것이어도 좋다. 컴퓨터에 의해 판독 가능한 기억 매체로서는, 예컨대 하드 디스크(HD), 플렉시블 디스크(FD), 컴팩트 디스크(CD), 마그넷 옵티컬 디스크(MO), 메모리 카드 등이 있다.
상기한 바와 같이 구성된 기판 처리 시스템(1)에서는, 먼저, 반입출 스테이션(2)의 기판 반송 장치(13)가, 캐리어 배치부(11)에 배치된 캐리어(C)로부터 웨이퍼(W)를 취출하고, 취출한 웨이퍼(W)를 전달부(14)에 배치한다. 전달부(14)에 배치된 웨이퍼(W)는, 처리 스테이션(3)의 기판 반송 장치(17)에 의해 전달부(14)로부터 취출되어, 처리 유닛(16)에 반입된다.
처리 유닛(16)에 반입된 웨이퍼(W)는, 처리 유닛(16)에 의해 처리된 후, 기판 반송 장치(17)에 의해 처리 유닛(16)으로부터 반출되어, 전달부(14)에 배치된다. 그리고, 전달부(14)에 배치된 처리 완료된 웨이퍼(W)는, 기판 반송 장치(13)에 의해 캐리어 배치부(11)의 캐리어(C)에 복귀된다.
다음에 처리 유닛(16)의 구성에 대해서 도 2를 참조하여 설명한다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 처리 유닛(16)은, 챔버(20)와, 기판 유지 기구(30)와, 처리 유체 공급부(40)와, 액 받이컵(50)을 구비한다.
챔버(20)는, 기판 유지 기구(30)와 처리 유체 공급부(40)와 액 받이컵(50)을 수용한다. 챔버(20)의 천장부에는, FFU(Fan Filter Unit)(21)가 마련된다. FFU(21)는, 챔버(20) 내에 다운 플로우를 형성한다.
기판 유지 기구(30)는, 기판 유지부(31)와, 회전축(32)과, 회전 구동부(33)를 구비한다. 기판 유지부(31)는 웨이퍼(W)를 수평으로 유지하며, 회전 구동부(33)가 회전축(32)을 통해 웨이퍼(W)를 연직축선 둘레로 회전시킨다.
처리 유체 공급부(40)는, 웨이퍼(W)에 대하여 처리 유체(처리액, 처리 가스 등)를 공급한다. 처리 유체 공급부(40)는, 기판 유지부(31)에 유지되어 회전하는 웨이퍼(W)를 향하여 처리액을 토출(공급)하는 복수의 처리액 노즐(41, 42, 43)을 구비하고 있다. 예컨대 처리액 노즐(41)로부터 산성 세정액[예컨대 DHF(희불산)] 및 DIW(탈이온수 즉 순수) 중 어느 한쪽이 선택적으로 토출되며, 처리액 노즐(42)로부터는 알칼리성 세정액(예컨대 SC-1) 및 DIW 중 어느 한쪽이 선택적으로 토출되고, 처리액 노즐(43)로부터는 건조 보조용의 유기 용제 예컨대 IPA(이소프로필알코올)가 토출된다. 각 처리액 노즐(41∼43)에는, 처리액 공급원에 접속되며 개폐 밸브 및 유량 조정 밸브 등의 유량 조정기가 개재된 처리액 공급로를 구비한 도시하지 않는 처리액 공급 기구로부터, 각각의 처리액이 공급된다.
액 받이컵(50)은, 복수의 컵체, 도시예에서는 3개의 컵체(51, 52, 53)를 가지고 있고, 이들 3개 중 적어도 하나(도시예에서는 2개)가 유로 전환을 위해 가동이다. 상세하게는, 액 받이컵(50)은, 가장 외측에 위치하는 부동의 환형의 제1 컵체(51)와, 그 내측에 위치하는 승강 가능한 환형의 제2 컵체(52)와, 더욱 그 내측에 위치하는 승강 가능한 환형의 제3 컵체(53)와, 더욱 그 내측에 위치하는 부동의 내벽(54)을 가지고 있다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 제1 컵체(51)는, 통형부(5101)와, 통형부(5101)의 상단으로부터 반경 방향 내측으로 돌출하는 링형(원환형)의 돌출부(5102)를 가지고 있다. 제2 컵체(52)는, 통형부(5201)와, 통형부(5201)의 상단으로부터 반경 방향 내측으로 돌출하는 링형(원환형)의 돌출부(5202)를 가지고 있다. 제3 컵체(53)는, 통형부(5301)와, 통형부(5301)의 상단으로부터 반경 방향 내측으로 돌출하는 링형(원환형)의 돌출부(5302)를 가지고 있다. 돌출부(5102, 5202, 5302)의 상면은 반경 방향 내측으로 감에 따라 높아지도록 경사져 있다.
또한, 본 명세서에 있어서, 「반경 방향(직경 방향)」 및 「원주 방향(둘레 방향)」이라고 기재하는 경우, 특별한 설명이 없는 한, 전체로서 대략 회전체(기하학 용어에 있어서의 회전체)로서 형성된 액 받이컵에 있어서의 중심 축선[이것은 기판 유지부(31)의 회전 중심 축선과 동일함]을 중심으로 하는 반경(또는 직경) 방향 및 원주의 방향을 의미하고 있다.
제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)는, 도 2에 개략적으로 나타낸 각각의 승강 기구(52A, 53A)에 의해 승강한다. 도 2의 좌측에는 함께 상승 위치에 있는 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)를 나타내고, 도 2의 우측에는 함께 하강 위치에 있는 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)를 나타내고 있다. 제1∼제3 컵체(51∼53) 및 내벽(54)은 회전하지 않는다. 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52) 사이에는 제1 유로(511)가 형성되며, 제2 컵체(52)와 제3 컵체(53) 사이에는 제2 유로(521)가 형성되고, 제3 컵체(53)와 내벽(54) 사이에는 제3 유로(531)가 형성된다.
액 받이컵(50)의 바닥부에는, 제1 유로(511), 제2 유로(521) 및 제3 유로(531)에 연통하는 컵 배기구(55)가 형성되어 있다. 컵 배기구(55)에는, 컵 배기로(56)가 접속되어 있다. 컵 배기로(56)에는 버터플라이 밸브(57)가 개재되어 있고, 버터플라이 밸브(57)의 개방도를 조정함으로써, 컵 배기로(56)를 통한 액 받이컵(50)으로부터의 배기 유량을 조정할 수 있다.
제1 유로(511), 제2 유로(521) 및 제3 유로(531)의 각각의 도중에 굴곡부가 마련되어 있고, 굴곡부에서 급격하게 방향이 바뀜으로써 각 유로를 흐르는 기액 혼합 유체로부터 액체 성분이 분리된다. 분리된 액체 성분은, 제1 유로(511)에 대응하는 액 받이(512), 제2 유로(521)에 대응하는 액 받이(522) 및 제3 유로(531)에 대응하는 액 받이(532) 내에 낙하한다. 액 받이(512, 522, 532)는, 각각에 대응하는 배액구(513, 523, 533)를 통해, 공장의 산성 액체 배액계, 알칼리성 액체 배액계, 유기계 배액계(모두 도시하지 않음)에 접속되어 있다.
제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 상대적으로 연직 방향으로 이동시킴으로써, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52)는, 각각의 돌출부(5102, 5202)가 서로 이격하고 있는 제1 상태와, 제1 상태보다 근접하고 있는 제2 상태를 취할 수 있다. 또한, 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)를 상대적으로 연직 방향으로 이동시킴으로써, 제2 컵체(52)와 제3 컵체(53)는, 각각의 돌출부(5202, 5302)가 서로 이격하고 있는 제3 상태와, 제3 상태보다 근접하고 있는 제4 상태를 취할 수 있다.
돌출부(5102, 5202, 5302)의 하면(5103, 5203, 5303)의 선단부(내주단부)에는, 하향의 돌기(5104, 5204, 5304)가 각각 형성되어 있고, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52)가 제2 상태에 있을 때에, 제1 컵체(51)의 돌기(5104)는 제2 컵체(52)의 상면(5205)의 선단부(내주 단부)에 접촉하여, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52) 사이의 제1 유로(511)가 폐쇄된다. 또한, 제2 컵체(52)와 제3 컵체(53)가 제4 상태에 있을 때에, 제2 컵체(52)의 돌기(5204)는 제3 컵체(53)의 상면(5305)의 선단부(내주 단부)에 접촉하여, 제2 컵체(52)와 제3 컵체(53) 사이의 제2 유로(521)가 폐쇄된다.
제3 컵체(53)를 하강 위치에 위치시키면, 제3 컵체(53)의 돌기(5304)는 내벽(54)에 마련된 둘레 방향 돌기의 형태의 받이면(5405)에 접촉하여, 제3 컵체(53)와 내벽(54) 사이의 제3 유로(531)가 폐쇄된다.
제1 컵체(51)와 제2 컵체(52)가 상하 방향으로 중첩되어 있는 링형(원환형) 영역[단 돌기(5104)가 마련되어 있는 영역을 제외함] 내에 있어서, 제1 컵체(51)의 통형부(5101)의 내주면으로부터 반경 방향 내측을 향하여 연장되는 링형(원환형) 간극 형성부(5106)(하방으로 돌출하고 있는 부분)가 돌출부(5102)의 하면(5103)에 마련되어 있다. 간극 형성부(5106)는 돌출부(5102)의 전체 둘레에 걸쳐 원주 방향으로 연속적으로 마련되어 있다. 도 3에 나타낸 바와 같이, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52)가 제2 상태에 있을 때에, 간극 형성부(5106)의 하면과 돌출부(5202)의 상면 사이의 간극(G1)은, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102) 중 간극 형성부(5106)가 마련되어 있지 않은 부분[간극 형성부(5106)보다 반경 방향 내측]의 하면과 돌출부(5202)의 상면 사이의 간극(G2)보다 좁게 되어 있다.
간극(G1)의 크기는, 간극(G1)의 전역에 세정액이 퍼질 수 있을 정도로는 크고, 그러나 간극(G1)으로부터 용이하게는 세정액이 유출되지 않을 정도로 작은 값으로 하는 것이 바람직하고, 예컨대 0.1 ㎜∼0.5 ㎜ 정도이다.
또한, 상기 설명에서는, 제1 컵체(51)의 돌출부(5012)의 하면(5103)에 2개의 링형의 돌기(5104)와 간극 형성부(5106)를 마련한 것으로 하였지만, 이 구성은, 하면(5103)의 간극(G2)에 대응하는 부분에 링형의 폭이 넓은 홈을 마련한 것으로 볼 수도 있다.
제2 컵체(52)의 돌출부(5202)에는, 세정액 예컨대 DIW를 토출하는 복수, 도시예에서는 4개(이 수에 한정되지 않음)의 세정액 노즐(5501)이 마련되어 있다. 복수 예컨대 4개의 세정액 노즐(5501)은, 예컨대 동일한 반경 방향 위치에 있어서, 원주 방향으로 등간격을 두고 마련되어 있다. 각 세정액 노즐(5501)은, 예컨대, 돌출부(5102)에 뚫린 관통 구멍에 매립된 파이프형 부재에 의해 형성할 수 있다. 각 세정액 노즐(5501)에는, 도 3에 개략적으로 나타낸 개폐 밸브(5502)가 해설된 세정액 라인(5503)을 통해, 세정액 공급원(5504)으로부터 세정액이 공급된다.
간극 형성부(5106)의 하면에는, 세정액 노즐(5501)로부터 공급된 세정액을 간극(G2)에 유도하 기위한 복수의 직경 방향홈(5109)이 형성되어 있다. 직경 방향홈(5109)의 홈 바닥면(홈의 상단면)과 이것에 대향하는 돌출부(5202)의 상면 사이의 간극은, 간극(G1)보다 넓다. 직경 방향홈(5109)은, 반경 방향 내측을 향하여 연장되어, 간극(G2)과 연통하고 있다. 직경 방향홈(5109)은, 세정액 노즐(5510)과 동일한 수 마련되어 있다. 세정액 노즐(5501)은, 직경 방향홈(5109)에 대향하는 위치에 있어서 돌출부(5202)에 마련되고, 직경 방향홈(5109)을 향하여 세정액을 공급한다. 직경 방향홈(5109)은, 엄밀하게 직경 방향으로 연장되어 있을 필요는 없고, 직경 방향에 대하여 각도를 이루어 연장되어 있어도 상관없다.
각 세정액 노즐(5501)은, 대응하는 직경 방향홈(5109)의 반경 방향 외측 단부의 바로 아래에 위치하고 있는 것이 바람직하다. 이 경우, 도 4에서는, 직경 방향홈(5109)의 반경 방향 외측 단부(5109N)(일부분만 나타냄)의 바로 아래에, 세정액 노즐(5501)이 위치하고 있다. 단, 각 세정액 노즐(5501)은, 대응하는 직경 방향홈(5109)의 반경 방향 외측 단부보다 반경 방향 내측에 위치시켜도 상관없다. 또한, 도 4에 있어서, 외측으로부터 3번째의 쇄선으로 나타낸 원은, 제2 컵체(52)의 통형부(5201)의 외주면의 윤곽에 대응한다.
각 세정액 노즐(5501)의 바로 위의 위치보다 반경 방향 내측의 위치에 있어서, 간극 형성부(5106)에는, 원주 방향으로 연장되는 원주홈(5110)이 형성되어 있다. 원주홈(5110)은 모든 직경 방향홈(5109)과 교차하며, 모든 직경 방향홈(5109)과 연통하고 있다. 원주홈(5110)은, 세정액 노즐(5501)로부터 토출된 세정액을 원주 방향으로 확산시키는 역할을 달성한다. 반경 방향 외측 영역(5107) 내에 있어서, 간극 형성부(5106)에 복수의 원주홈(5110)을 동심 원형으로 형성하여도 좋다.
제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 하면 및 제3 컵체(53)의 돌출부(5302)의 상면은, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)의 하면 및 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 상면과 각각 동일하게 구성되어 있어, 중복 설명은 생략한다. 또한, 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 하면(5203)에 마련되어 있는 구성 요소에 붙여져 있는 참조 부호는, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)의 하면(5103)에 마련되어 있는 구성 요소에 붙여져 있는 참조 부호와 백의 자릿수만이 상이하다(「1」과 「2」). 마찬가지로, 제3 컵체(53)의 돌출부(5302)의 상면(5305)에 마련되어 있는 구성 요소에 붙여져 있는 참조 부호는, 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 상면(5205)에 마련되어 있는 구성 요소에 붙여져 있는 참조 부호와 백의 자릿수만이 상이하다(「2」와 「3」). 제3 컵체(53)의 돌출부(5302)에도, 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)에 있어서의 양태와 동일한 양태로, 세정액 노즐(5501)이 마련되어 있다.
챔버(20)[처리 유닛(16)의 하우징]의 하부로서, 또한, 액 받이컵(50)의 외부에는, 챔버(20) 내의 분위기를 배기하기 위한 챔버 배기구(62)가 마련되어 있다. 챔버 배기구(62)에는 챔버 배기로(64)가 접속되어 있다. 챔버 배기로(64)에는, 버터플라이 밸브(66)가 개재되어 있다.
챔버 배기로(64)는 컵 배기로(56)에 합류한다. 컵 배기로(56)에는 전환 밸브(80)가 마련되어 있다. 전환 밸브(80)의 전환 상태에 따라, 컵 배기로(56)로부터 배출되는 가스가, 산성 가스 배기 라인(81), 알칼리성 가스 배기 라인(82) 또는 유기 가스 배기 라인(83) 중 어느 하나에 배출된다. 각 배기 라인(81∼83)은 부압으로 되어 있기 때문에, 전환 밸브(80)의 전환 상태에 따라, 액 받이컵(50)의 내부 공간 및 챔버(20)의 내부 공간이 흡인된다.
다음에, 제어 장치(4)에 의한 제어 하에서 자동적으로 행해지는 처리 유닛(16)의 동작에 대해서 간단하게 설명한다.
웨이퍼(W)가 기판 유지 기구에 의해 유지되어 회전한다. 회전하는 웨이퍼(W)에는, 미리 정해진 처리 레시피에 따라 상이한 종류의 처리액이 처리액 노즐(41∼43) 중 어느 하나로부터 공급된다. 웨이퍼(W)에 공급되고 있는 처리액의 종류에 따라, 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)의 상하 방향 위치와, 전환 밸브(80)의 상태가 전환된다.
산성 약액 세정 처리를 행하는 경우, 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)의 양방을 하강 위치(도 1의 우측에 나타내는 위치)에 위치시키고, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52) 사이의 제1 유로(511)를 개방한다. 이때, 처리액 노즐(41)로부터 공급된 후에 회전하는 웨이퍼(W)로부터 비산하는 산성 약액은, 제1 유로(511)에 유입된다. 또한 이때, FFU(21)로부터 공급되어 웨이퍼(W)의 상방의 공간에 존재하는 청정 에어는, 액 받이컵(50) 내에 유입되어, 제1 유로(511)를 통하여 흐르고, 컵 배기구(55)로부터 배출되어, 컵 배기로(56) 및 전환 밸브(80)를 통하여 산성 가스 배기 라인(81)에 흐른다.
이때, 산성 약액은, 웨이퍼(W)에의 충돌에 의해, 혹은 제1 컵체(51) 등에의 충돌에 의해, 일부가 미스트형으로 되어 있고, 이 미스트는 제1 유로(511)를 통하여 흐르는 기류를 타고, 컵 배기구(55)를 향하여 흐른다. 미스트의 대부분은, 제1 유로(511)의 도중에 마련된 굴곡부의 벽체에 포착되어, 액 받이(512)에 낙하한다. 또한, 제1 유로(511)에 면하는 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)의 표면을 따라 유하하는 산성 약액도 액 받이(512)에 낙하한다. 액 받이(512)에 떨어진 산성 약액은, 배액구(513)를 통해 액 받이컵(50) 내로부터 배출된다.
또한, 챔버(20)의 내부 공간의 액 받이컵(50)의 주변의 공간에 존재하는 가스가 챔버 배기구(62)로부터 배출되어, 챔버 배기로(64) 및 전환 밸브(80)를 통하여 산성 가스 배기 라인(81)에 흐른다.
알칼리성 약액 세정 처리를 행하는 경우, 제2 컵체(52)를 상승 위치에 위치시키고, 제3 컵체(53)를 하강 위치에 위치시켜, 제2 컵체(52)와 제3 컵체(53) 사이의 제2 유로(521)를 개방한다. 유기 용제 처리를 행하는 경우에는, 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)의 양방을 상승 위치에 위치시켜, 제3 컵체(53)와 내벽(54) 사이의 제3 유로(531)를 개방한다. 노즐(41∼43)로부터 DIW를 공급하는 경우에는, DIW 공급의 직전에 공급된 처리액의 공급 시와 동일한 위치에 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)를 위치시킨다. 제2 유로(521) 및 제3 유로(531) 내에 있어서의 처리액의 흐름의 양태는, 제1 유로(511) 내에 있어서의 처리액의 흐름의 양태와 동일하기 때문에, 중복 설명은 생략한다.
전술한 바와 같이, 미스트형의 처리액이 제1 유로(511)를 통하여 흐를 때에, 처리액의 대부분은 대응하는 배액구(513)까지 유하해 가지만, 일부는, 제1 유로(511)를 구성하는 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)의 벽면에 부착되어 그 벽면 상에 머무른다. 특히, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)의 하면(5103), 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 상면(5205)에는, 특히 처리액이 표면에 머무는 경향에 있다. 처리액에는 반응 생성물도 포함되어 있다. 이 처리액이 건조하여 고형물이 하면(5103) 또는 상면(5205)에 퇴적하고, 그 후 박리되면, 파티클 발생의 요인이 될 수 있다. 이 때문에, 하면(5103) 및 상면(5205)이 정기적으로 세정된다. 「정기적」인 세정을 행하는 시점은, 전회의 세정 후에 미리 정해진 매수(1장 또는 복수매)의 웨이퍼(W)를 처리된 시점이어도 좋고, 전회의 세정으로부터 미리 정해진 시간이 경과한 시점이어도 좋다.
이하에 하면(5103) 및 상면(5205)의 세정 방법에 대해서 설명한다. 먼저, 제2 컵체(52)를 상승시켜, 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)를 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)가 근접하고 있는 제2 상태로 한다.
다음에, 세정액 노즐(5501)로부터 세정액을 토출한다. 각 세정액 노즐(5501)로부터 토출된 세정액은, 대응하는 직경 방향홈(5109)을 통하여, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)와 제2 컵체(52)의 돌출부(5202) 사이의 비교적 넓은 간극(G2)에 유입된다. 간극(G2)에 유입된 세정액은 간극(G2) 내를 둘레 방향으로 퍼져 간다. 이때, 세정액 노즐(5501)로부터 토출하는 세정액의 유량은, 간극(G1)을 통하여 통형부(5101)와 통형부(5201) 사이의 간극에 유출되는 세정액의 유량보다 많게 하고 있다. 이 때문에, 간극(G2)을 전체 둘레에 걸쳐 세정액으로 채울 수 있다. 이때, 제1 컵체(51)의 돌기(5104)가, 제2 컵체(52)의 상면(5205)에 접하고 있기 때문에, 세정액이 돌기(5104)의 하면과 돌출부(5202)의 상면(5205) 사이로부터 누출되는 일은 거의 없다. 이 때문에, 간극(G2) 내의 주위 방향 전역을 균일하게 세정액으로 채울 수 있다.
제1 컵체(51)의 돌기(5104)가, 제2 컵체(52)의 상면(5205)에 접하지 않고 있어도 좋다. 이 경우, 세정액 노즐(5501)로부터 토출하는 세정액의 유량은, 간극(G1)을 통하여 통형부(5101)와 통형부(5201) 사이의 간극에 유출되는 세정액의 유량과, 제1 컵체(51)의 돌기(5104)와 제2 컵체(52)의 상면(5205) 사이의 간극으로부터 유출되는 세정액의 유량의 합계보다 많게 하면 좋다.
직경 방향홈(5109) 내를 흐르는 세정액은 원주홈(5110)에도 유입되어 둘레 방향에 퍼져 간다. 간극(G2), 직경 방향홈(5109) 및 원주홈(5110)이 세정액으로 채워지면, 간극(G1)에의 세정액의 확산도 진행되어 간다. 최종적으로는, 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)와 제2 컵체(52)의 돌출부(5202) 사이의 공간의 전역[즉 간극(G1+G2)]이 세정액으로 채워진다. 이 상태가 도 5에 나타나 있고, 도트로 칠한 영역에 세정액이 존재한다. 이 세정액에, 돌출부(5102)의 하면(5103) 및 돌출부(5202)의 상면(5205)에 부착된 약액 및 반응 생성물 등의 부착물이 녹아든다. 세정액에 녹아든 부착물은, 세정액과 함께 통형부(5101)와 통형부(5201) 사이의 간극에 배출된다. 이와 같이 하여, 돌출부(5102)의 하면(5103)을 얼룩 없이 세정할 수 있다. 또한, 돌출부(5202)의 상면(5205)도 동시에 세정할 수 있다.
그 후, 제2 컵체(52)를 하강시켜, 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)가 제1 컵체(51)의 돌출부(5102)로부터 이격한 제1 상태로 한다. 이에 의해, 돌출부(5102)와 돌출부(5202) 사이에 있는 세정액은, 돌출부(5202)의 상면(5205)의 경사를 따라 반경 방향 외측을 향하여 흘러, 통형부(5101)와 통형부(5201) 사이의 간극에 떨어지고, 최종적으로 액 받이컵(50)으로부터 배출된다. 이상에 의해 세정이 종료한다.
돌출부(5102)와 돌출부(5202) 사이의 공간의 전역이 세정액으로 채워진 후, 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 제1 상태로 하기 전에, 미리 정해진 시간만큼 세정액 노즐(5501)로부터의 세정액의 토출을 계속하여도 좋고, 채워진 후에 즉시, 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 제1 상태로 하여도 좋다.
세정액 노즐(5501)로부터의 세정액의 토출은, 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 제1 상태로 하기 전에 정지하여도 좋고, 제1 상태로 한 후에, 미리 정해진 시간만큼 계속하여도 좋다.
오염 상황에 따라서는, 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 제2 상태로 하여 간극(G1) 및 간극(G2)에 세정액을 채우는 공정과, 제1 컵체(51) 및 제2 컵체(52)를 제1 상태로서 간극(G1) 및 간극(G2)으로부터 세정액을 배출하는 공정을 복수회 교대로 반복해서 실행하여도 좋다.
상기 설명에서는, 제1 컵체(51)의 하면(5103) 및 제2 컵체(52)의 상면(5205)의 세정 방법에 대해서 설명하였지만, 제2 컵체(52)의 하면(5203) 및 제3 컵체(53)의 상면(5305)의 세정도 동일한 순서로 행할 수 있어, 동일한 효과를 발휘한다. 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53)를 제1 상태/제2 상태로 하는 조작은, 제2 컵체(52) 및 제3 컵체(53) 중 어느 한쪽을 이동시킴으로써 행할 수 있다.
상기 실시형태에 따르면, 세정액이 공급되는 돌출부(5102)와 돌출부(5202) 사이에 있어서의 간극(G1)을, 간극(G2)보다 좁게 하고 있다. 이 때문에, 중력의 영향에 의해, 반경 방향 외측으로 감에 따라 경사하고 있는 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 상면(5205)을 따라 반경 방향 외향으로 진행하고자 하는 세정액의 움직임이 대폭 제한되어, 간극(G2)의 전역에 확실하게 세정액을 채울 수 있다. 간극(G2)이 전체 둘레에 걸쳐 세정액으로 채워진 후에, 중력 및 액압에 의해 간극(G2)보다 좁은 간극(G1)이 채워지기 때문에, 간극(G1)의 전역에 세정액을 채울 수 있다. 이 때문에, 제1 컵체(51)의 하면(5103)을 얼룩 없이 세정할 수 있다. 또한, 제2 컵체(52)의 상면(5205)도 동시에 얼룩 없이 세정할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에 따르면, 간극 형성부(5106)에 직경 방향홈(5109)이 마련되고, 세정액 노즐(5501)이 세정액을 직경 방향홈을 향하여 공급하고 있다. 직경 방향홈(5109)을 통해 넓은 간극(G2)에 우선적으로 세정액이 보내지게 되어 있다. 이에 의해, 넓은 간극(G2)의 가장 낮은 위치로부터 높은 위치를 향하여 순서대로 세정액이 채워져 가기 때문에, 넓은 간극(G2)을 균일하게 세정액으로 채울 수 있다. 이 때문에, 제1 컵체(51)의 하면(5103)을 얼룩 없이 또한 균일하게 세정할 수 있다. 또한, 제2 컵체(52)의 상면(5205)도 동시에 얼룩 없이 또한 균일하게 세정할 수 있다.
또한, 상기 실시형태에 따르면, 세정액 노즐(5501)이 마련되는 직경 방향 위치보다 반경 방향 내측의 위치에 원주홈(5110)이 마련되어 있다. 이 때문에, 좁은 간극(G1) 중 원주홈(5110)보다 반경 방향 외측 부분은, 넓은 간극(G2)으로부터 중력에 의해 유하해 오는 세정액이 아니라, 원주홈(5110)으로부터 유하해 오는 세정액에 의해 채울 수 있다. 이 때문에, 원주홈(5110)을 마련함으로써, 보다 얼룩 없이 또한 효율적으로 좁은 간극(G1)의 전역을 세정액으로 채울 수 있다. 이 때문에, 제1 컵체(51)의 하면(5103)을 보다 얼룩 없이 또한 효율적으로 세정할 수 있다. 또한, 제2 컵체(52)의 상면(5205)도 동시에 보다 얼룩 없이 또한 효율적으로 세정할 수 있다.
도시된 실시형태에 있어서는 제1 컵체(51)의 돌출부(5102) 및 제2 컵체(52)의 돌출부(5202)의 선단부(내주 단부)에 하향의 돌기(5104, 5204)가 마련되어 있었지만, 이 돌기(5104, 5204)는 반드시 마련되어 있지 않아도 좋다. 예컨대, 도 6에 나타내는 바와 같이, 돌기가 없어도, 제1 컵체(51)와 제2 컵체(52)가 제2 상태에 있을 때, 돌출부(5102)의 선단부가 돌출부(5202)의 상면(5205)에 접촉하고, 또한, 접촉부보다 반경 방향 외측에 전술한 간극(G1, G2)이 형성되도록 돌출부(5102, 5202)가 형성되어 있으면 좋다. 돌출부(5202, 5302)와의 관계에 있어서도 동일한 것을 말할 수 있다.
또한, 도 7에 나타내는 바와 같이, 돌출부(5202)의 상면(5205)에, 돌출부(5102)의 돌기(5104)의 적어도 하단부를 수용하는 오목부(5211)를 형성하여도 좋다. 그렇게 함으로써, 돌기(5104)와 상면(5205) 사이로부터 반경 방향 내측에의 세정액의 누설이 보다 생기기 어려워져, 액 충전 효율 및 세정 효율이 향상된다. 마찬가지로, 도시는 하지 않지만, 돌출부(5302)의 상면(5305)에, 돌출부(5202)의 돌기(5204)의 적어도 하단부를 수용하는 오목부를 형성하여도 좋다.
상기 실시형태에 있어서는, 간극 형성부(5106)에는, 직경 방향홈(5109)이 형성되어 있지만, 직경 방향홈(5109)이 없어도 좋다. 이 경우, 도 8에 나타내는 바와 같이, 세정액 토출 노즐(5501B)이, 제1 컵체(51B)의 간극 형성부(5106B)보다 반경 방향 내측의 위치에 있어서, 제2 돌출부(5202B)에 마련된다. 이 경우에도, 세정액 토출 노즐(5501B)로부터 공급되는 세정액에 의해, 간극 형성부(5106B)보다 반경 방향 내측에 있는 제1 컵체(51B)의 돌출부(5102B)의 하면과, 제2 컵체(52B)의 돌출부(5202B)의 상면 사이의 간극(G2)을 전체 둘레에 걸쳐 세정액으로 채울 수 있다. 또한, 간극 형성부(5106B)의 하면과 돌출부(5202B)의 상면 사이의 간극(G1)도 전체 둘레에 걸쳐 세정액으로 채울 수 있다. 세정액에 녹아든 부착물은, 세정액과 함께 통형부(5101B)와 통형부(5201B) 사이의 간극에 배출된다. 이와 같이 하여, 제1 돌출부(5102B)의 하면을 세정할 수 있다.
W 기판
31 기판 유지부
33 회전 구동부
41, 42, 43 처리액 노즐
50 액 받이컵
51 제1 컵체
5101 제1 통형부
5102 제1 돌출부
5103 제1 돌출부의 하면
5106 간극 형성부
5107 반경 방향 외측 영역
5108 반경 방향 내측 영역
5109 직경 방향홈
5110 원주홈
52 제2 컵체
5201 제2 통형부
5202 제2 돌출부
5205 제2 돌출부의 상면
52A 승강 기구
5501 세정액 노즐
G1 제1 간극
G2 제2 간극

Claims (12)

  1. 기판 처리 장치에 있어서,
    기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 노즐과,
    상기 기판 유지부의 주위에 마련되며, 상기 기판으로부터 비산하는 상기 처리액을 받는 제1 컵체(cup body) 및 제2 컵체를 갖는 액 받이컵으로서, 상기 제1 컵체가 제1 통형부와 상기 제1 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제1 돌출부를 가지며, 상기 제2 컵체가 제2 통형부와 상기 제2 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제2 돌출부를 가지고, 상기 제1 통형부가 상기 제2 통형부의 반경 방향 외측에 위치하며, 상기 제1 돌출부가 상기 제2 돌출부의 상방에 위치하고, 상기 제2 돌출부의 상면이 반경 방향 내측으로 감에 따라 높아지도록 경사져 있는 것인, 상기 액 받이컵과,
    상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 이격하고 있는 제1 상태와, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 상기 제1 상태보다 근접하고 있는 제2 상태를 취할 수 있도록, 상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시키는 승강 기구
    를 포함하고,
    상기 제2 상태에 있을 때에, 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제1 간극이 형성되며, 또한, 상기 제1 간극보다 반경 방향 내측에 있어서의 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제2 간극이 형성되고, 상기 제1 간극은 상기 제2 간극보다 좁고,
    상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 세정액 노즐을 포함한, 기판 처리 장치.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 제1 간극에 대응하는 상기 제1 돌출부의 하면에는, 상기 세정액 노즐로부터 공급된 세정액을 상기 제2 간극에 유도하는 반경 방향으로 연장되는 직경 방향홈이 형성되어 있는 것인, 기판 처리 장치.
  3. 제2항에 있어서,
    상기 세정액 노즐은, 상기 직경 방향홈에 대향하는 위치에 있어서 상기 제2 돌출부에 마련되어 있는 것인, 기판 처리 장치.
  4. 제2항 또는 제3항에 있어서,
    상기 제1 간극에 대응하는 상기 제1 돌출부의 하면에는, 상기 직경 방향홈과 교차하며, 원주 방향으로 연장되는 원주홈이 형성되어 있는 것인, 기판 처리 장치.
  5. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 제2 상태에 있을 때에, 상기 제1 돌출부의 반경 방향 내측 단부와 상기 제2 돌출부의 반경 방향 내측 단부가 접촉하는 것인, 기판 처리 장치.
  6. 제4항에 있어서, 상기 제1 돌출부의 하면에 하방으로 볼록한 원환 형상의 간극 형성부가 마련되어 있고, 이에 의해 상기 제1 간극이 상기 제2 간극보다 좁게 되어 있으며, 상기 직경 방향홈 및 상기 원주홈은 상기 간극 형성부에 형성되어 있는 것인, 기판 처리 장치.
  7. 기판 처리 장치의 세정 방법에 있어서,
    상기 기판 처리 장치는,
    기판을 수평으로 유지하는 기판 유지부와,
    상기 기판 유지부에 의해 유지된 상기 기판에 처리액을 공급하는 처리액 노즐과,
    상기 기판 유지부의 주위에 마련되며, 상기 기판으로부터 비산하는 상기 처리액을 받는 제1 컵체 및 제2 컵체를 갖는 액 받이컵으로서, 상기 제1 컵체가 제1 통형부와 상기 제1 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제1 돌출부를 가지며, 상기 제2 컵체가 제2 통형부와 상기 제2 통형부의 상단부로부터 반경 방향 내향으로 연장되는 제2 돌출부를 가지고, 상기 제1 통형부가 상기 제2 통형부의 반경 방향 외측에 위치하며, 상기 제1 돌출부가 상기 제2 돌출부의 상방에 위치하고, 상기 제2 돌출부의 상면이 반경 방향 내측으로 감에 따라 높아지도록 경사져 있는 것인, 상기 액 받이컵과,
    상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 이격하고 있는 제1 상태와, 상기 제1 돌출부 및 상기 제2 돌출부가 상기 제1 상태보다 근접하고 있는 제2 상태를 취할 수 있도록, 상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시키는 승강 기구
    를 포함하고,
    상기 제2 상태에 있을 때에, 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제1 간극이 형성되며, 또한, 상기 제1 간극보다 반경 방향 내측에 있어서의 상기 제1 돌출부의 하면과 상기 제2 돌출부의 상면 사이에 제2 간극이 형성되고, 상기 제1 간극은 상기 제2 간극보다 좁고,
    상기 기판 처리 장치는 상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 세정액 노즐을 포함하며,
    상기 기판 처리 장치의 세정 방법은,
    상기 제1 컵체 및 상기 제2 컵체 중 적어도 한쪽을 연직 방향으로 이동시킴으로써 상기 제2 상태를 확립하는 공정과,
    상기 세정액 노즐로부터 상기 제2 간극에 세정액을 공급하는 공정
    을 포함한 것인, 기판 처리 장치의 세정 방법.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 제1 간극에 대응하는 상기 제1 돌출부의 하면에 반경 방향으로 연장되는 직경 방향홈이 형성되고,
    상기 세정액을 공급하는 공정에 있어서, 상기 세정액 노즐로부터 공급된 세정액이 상기 직경 방향홈을 통해 상기 제2 간극에 유도되는 것인, 기판 처리 장치의 세정 방법.
  9. 제8항에 있어서,
    복수의 상기 직경 방향홈이 상기 제1 돌출부의 하면에 마련되며, 복수의 상기 세정액 노즐이 상기 복수의 직경 방향홈에 각각 대향하는 위치에 있어서, 상기 제2 돌출부에 마련되어 있고,
    상기 세정액을 공급하는 공정에 있어서, 상기 복수의 세정액 노즐로부터 공급된 세정액이 각각 대응하는 직경 방향홈을 통해 상기 제2 간극에 유도되는 것인, 기판 처리 장치의 세정 방법.
  10. 제8항 또는 제9항에 있어서,
    상기 제1 간극에 대응하는 상기 제1 돌출부의 하면에는, 상기 직경 방향홈과 교차하며, 원주 방향으로 연장되는 원주홈이 형성되고,
    상기 세정액을 공급하는 공정에 있어서, 상기 세정액 노즐로부터 공급되어 상기 원주홈을 흐르는 세정액이 상기 원주홈에 유입되어, 상기 원주홈을 통해 원주 방향으로 확산되는 것인, 기판 처리 장치의 세정 방법.
  11. 제7항에 있어서,
    상기 제2 상태를 확립하는 공정에 있어서, 상기 제1 돌출부의 반경 방향 내측 단부와 상기 제2 돌출부의 반경 방향 내측 단부가 접촉되는 것인, 기판 처리 장치의 세정 방법.
  12. 기판 처리 장치의 동작을 제어하기 위한 컴퓨터에 의해 실행될 때에, 상기 컴퓨터가 상기 기판 처리 장치를 제어하여 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 기판 처리 장치의 세정 방법을 실행시키는 프로그램이 기록된 기억 매체.
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