JP2019035975A5 - - Google Patents
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- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 13
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010511 deprotection reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000000686 lactone group Chemical group 0.000 description 1
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US201562273523P | 2015-12-31 | 2015-12-31 | |
| US62/273,523 | 2015-12-31 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016244687A Division JP6553585B2 (ja) | 2015-12-31 | 2016-12-16 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019035975A JP2019035975A (ja) | 2019-03-07 |
| JP2019035975A5 true JP2019035975A5 (enExample) | 2020-04-23 |
| JP6730403B2 JP6730403B2 (ja) | 2020-07-29 |
Family
ID=59235528
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016244687A Active JP6553585B2 (ja) | 2015-12-31 | 2016-12-16 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 |
| JP2018207456A Active JP6730403B2 (ja) | 2015-12-31 | 2018-11-02 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016244687A Active JP6553585B2 (ja) | 2015-12-31 | 2016-12-16 | 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US11550217B2 (enExample) |
| JP (2) | JP6553585B2 (enExample) |
| KR (2) | KR101956070B1 (enExample) |
| CN (2) | CN106933030B (enExample) |
| TW (1) | TWI662364B (enExample) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| TWI656111B (zh) | 2015-12-31 | 2019-04-11 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | 光酸產生劑 |
| TWI662364B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-06-11 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | 光致抗蝕劑組合物、包含光致抗蝕劑組合物的經塗佈基板及形成電子裝置的方法 |
| US10831100B2 (en) * | 2017-11-20 | 2020-11-10 | Rohm And Haas Electronic Materials, Llc | Iodine-containing photoacid generators and compositions comprising the same |
| JP7345544B2 (ja) * | 2018-10-09 | 2023-09-15 | 常州強力先端電子材料有限公司 | トリフェニルスルホニウム塩化合物及びその使用 |
| KR102877762B1 (ko) | 2020-02-06 | 2025-10-30 | 삼성전자주식회사 | 레지스트 조성물 |
| US11714355B2 (en) * | 2020-06-18 | 2023-08-01 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Photoresist composition and method of forming photoresist pattern |
| TW202225839A (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-01 | 美商羅門哈斯電子材料有限公司 | 光阻劑組成物及圖案形成方法 |
| US20230152697A1 (en) * | 2021-09-30 | 2023-05-18 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoresist compositions and pattern formation methods |
| JP7791860B2 (ja) * | 2022-07-19 | 2025-12-24 | デュポン エレクトロニック マテリアルズ インターナショナル,エルエルシー | 光酸発生剤、フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 |
Family Cites Families (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2766243A (en) * | 1955-04-15 | 1956-10-09 | Du Pont | Acyclic, polynitrile-containing, unsaturated compound and its salts, and preparation thereof |
| US5273840A (en) | 1990-08-01 | 1993-12-28 | Covalent Associates Incorporated | Methide salts, formulations, electrolytes and batteries formed therefrom |
| US5874616A (en) | 1995-03-06 | 1999-02-23 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Preparation of bis (fluoroalkylenesulfonyl) imides and (fluoroalkysulfony) (fluorosulfonyl) imides |
| US5554664A (en) | 1995-03-06 | 1996-09-10 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Energy-activatable salts with fluorocarbon anions |
| CA2244979C (fr) | 1996-12-30 | 2008-05-06 | Hydro-Quebec | Conducteurs protoniques sous forme liquide |
| WO1999028292A1 (fr) | 1997-12-01 | 1999-06-10 | Acep Inc. | Sels de sulfones perfluores, et leurs utilisations comme materiaux a conduction ionique |
| JP4516425B2 (ja) | 2002-06-26 | 2010-08-04 | フジフィルム・エレクトロニック・マテリアルズ・ユーエスエイ・インコーポレイテッド | 放射線感受性組成物 |
| US7304175B2 (en) | 2005-02-16 | 2007-12-04 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Salt suitable for an acid generator and a chemically amplified resist composition containing the same |
| US7960087B2 (en) | 2005-03-11 | 2011-06-14 | Fujifilm Corporation | Positive photosensitive composition and pattern-forming method using the same |
| JP2006251466A (ja) | 2005-03-11 | 2006-09-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法 |
| TWI394004B (zh) | 2005-03-30 | 2013-04-21 | Sumitomo Chemical Co | 適合作為酸產生劑之鹽及含有該鹽之化學放大型光阻組成物 |
| US7678528B2 (en) | 2005-11-16 | 2010-03-16 | Az Electronic Materials Usa Corp. | Photoactive compounds |
| KR101057603B1 (ko) | 2006-07-24 | 2011-08-18 | 도오꾜오까고오교 가부시끼가이샤 | 포지티브형 레지스트 조성물 및 레지스트 패턴 형성 방법 |
| JP2008026725A (ja) * | 2006-07-24 | 2008-02-07 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 |
| US9464172B2 (en) * | 2007-12-10 | 2016-10-11 | Kaneka Corporation | Alkali-developable curable composition, insulating thin film using the same, and thin film transistor |
| US8039194B2 (en) | 2008-01-08 | 2011-10-18 | Internatinal Business Machines Corporation | Photoacid generators for extreme ultraviolet lithography |
| US7655379B2 (en) * | 2008-01-08 | 2010-02-02 | International Business Machines Corporation | Ionic, organic photoacid generators for DUV, MUV and optical lithography based on peraceptor-substituted aromatic anions |
| US20090181319A1 (en) | 2008-01-16 | 2009-07-16 | International Business Machines Corporation | Aromatic fluorine-free photoacid generators and photoresist compositions containing the same |
| US8034533B2 (en) | 2008-01-16 | 2011-10-11 | International Business Machines Corporation | Fluorine-free heteroaromatic photoacid generators and photoresist compositions containing the same |
| KR100973033B1 (ko) * | 2008-05-21 | 2010-07-30 | 금호석유화학 주식회사 | 화학증폭형 레지스트 조성물용 산발생제 |
| JP5481944B2 (ja) | 2008-06-12 | 2014-04-23 | セントラル硝子株式会社 | 含フッ素重合体およびそれを用いた帯電防止剤 |
| JP5721630B2 (ja) | 2008-10-20 | 2015-05-20 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピアBasf Se | スルホニウム誘導体および潜在酸としてのその使用 |
| US8338076B2 (en) | 2008-11-28 | 2012-12-25 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Resist composition, method of forming resist pattern, novel compound, and acid generator |
| EP2267532B1 (en) | 2009-06-22 | 2015-08-19 | Rohm and Haas Electronic Materials, L.L.C. | Photoacid generators and photoresists comprising same |
| JP5645459B2 (ja) | 2009-07-10 | 2014-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびこれを用いたパターン形成方法 |
| JP2011046696A (ja) | 2009-07-30 | 2011-03-10 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 塩、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 |
| WO2011016425A1 (ja) | 2009-08-03 | 2011-02-10 | サンアプロ株式会社 | 光酸発生剤,光硬化性組成物,及びその硬化体 |
| JP5244740B2 (ja) * | 2009-08-26 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP5448651B2 (ja) | 2009-08-31 | 2014-03-19 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法 |
| JP5830240B2 (ja) * | 2009-12-14 | 2015-12-09 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | スルホニル光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト |
| EP2348360B1 (en) | 2010-01-25 | 2017-09-27 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Photoresist comprising nitrogen-containing compound |
| JP5782283B2 (ja) | 2010-03-31 | 2015-09-24 | ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC | 新規のポリマーおよびフォトレジスト組成物 |
| EP2383611A3 (en) | 2010-04-27 | 2012-01-25 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Photoacid generators and photoresists comprising same |
| JP5470189B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法 |
| JP2012136507A (ja) * | 2010-11-15 | 2012-07-19 | Rohm & Haas Electronic Materials Llc | 塩基反応性光酸発生剤およびこれを含むフォトレジスト |
| EP2458440A1 (en) * | 2010-11-30 | 2012-05-30 | Rohm and Haas Electronic Materials LLC | Photoacid generators |
| KR101332316B1 (ko) | 2011-02-07 | 2013-11-22 | 금호석유화학 주식회사 | 광산발생제, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 레지스트 조성물 |
| JP5651636B2 (ja) | 2011-07-28 | 2015-01-14 | 富士フイルム株式会社 | パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、レジスト膜、電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイス |
| JP2013129649A (ja) | 2011-11-22 | 2013-07-04 | Central Glass Co Ltd | 珪素化合物、縮合物およびそれを用いたレジスト組成物、ならびにそれを用いるパターン形成方法 |
| JP6007100B2 (ja) | 2012-12-27 | 2016-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、感活性光線性または感放射線性膜及びパターン形成方法 |
| JP2014156585A (ja) | 2013-01-16 | 2014-08-28 | Cemedine Co Ltd | 光硬化性組成物 |
| US9067909B2 (en) * | 2013-08-28 | 2015-06-30 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Photoacid generator, photoresist, coated substrate, and method of forming an electronic device |
| JP6183199B2 (ja) | 2013-12-13 | 2017-08-23 | Jsr株式会社 | 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物 |
| TWI662364B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-06-11 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | 光致抗蝕劑組合物、包含光致抗蝕劑組合物的經塗佈基板及形成電子裝置的方法 |
| TWI656111B (zh) * | 2015-12-31 | 2019-04-11 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | 光酸產生劑 |
| JP6916161B2 (ja) * | 2018-02-20 | 2021-08-11 | インディアン オイル コーポレーション リミテッド | ポリオレフィンポリマー用添加剤および熱可塑性組成物 |
-
2016
- 2016-12-09 TW TW105140924A patent/TWI662364B/zh active
- 2016-12-14 KR KR1020160170727A patent/KR101956070B1/ko active Active
- 2016-12-16 JP JP2016244687A patent/JP6553585B2/ja active Active
- 2016-12-21 CN CN201611196014.0A patent/CN106933030B/zh active Active
- 2016-12-21 CN CN202411032633.0A patent/CN118963059A/zh active Pending
- 2016-12-22 US US15/387,788 patent/US11550217B2/en active Active
-
2018
- 2018-11-02 JP JP2018207456A patent/JP6730403B2/ja active Active
-
2019
- 2019-03-04 KR KR1020190024580A patent/KR102062561B1/ko active Active
-
2022
- 2022-12-06 US US18/075,594 patent/US11960206B2/en active Active
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