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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6312454B2 (ja) * 2014-02-07 2018-04-18 株式会社ブイ・テクノロジー 偏光光照射装置
JP6766370B2 (ja) * 2015-02-18 2020-10-14 大日本印刷株式会社 偏光子、偏光子ホルダー、及び光配向装置
JP6884501B2 (ja) * 2015-08-25 2021-06-09 大日本印刷株式会社 偏光子
JP6270927B2 (ja) * 2016-07-08 2018-01-31 日本エイアンドエル株式会社 めっき用樹脂組成物及びめっき成形品
JP2018017952A (ja) * 2016-07-29 2018-02-01 ウシオ電機株式会社 光照射装置および光照射方法
JP2019109375A (ja) * 2017-12-19 2019-07-04 セイコーエプソン株式会社 偏光素子、偏光素子の製造方法
CN117518621A (zh) * 2023-11-07 2024-02-06 成都瑞波科材料科技有限公司 光配向装置

Family Cites Families (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5534574B2 (enExample) 1972-11-10 1980-09-08
JP2003131356A (ja) * 2001-10-25 2003-05-09 Hitachi Ltd ホトマスクの製造方法および描画装置
KR100732749B1 (ko) * 2001-12-28 2007-06-27 주식회사 하이닉스반도체 미세 패턴 형성용 마스크
JP4280518B2 (ja) * 2003-03-05 2009-06-17 リコー光学株式会社 偏光光学素子とその製造方法
US20040174596A1 (en) * 2003-03-05 2004-09-09 Ricoh Optical Industries Co., Ltd. Polarization optical device and manufacturing method therefor
KR100614651B1 (ko) * 2004-10-11 2006-08-22 삼성전자주식회사 회로 패턴의 노광을 위한 장치 및 방법, 사용되는포토마스크 및 그 설계 방법, 그리고 조명계 및 그 구현방법
JP4506412B2 (ja) * 2004-10-28 2010-07-21 ウシオ電機株式会社 偏光素子ユニット及び偏光光照射装置
JP4815995B2 (ja) * 2005-10-24 2011-11-16 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
JP4951960B2 (ja) * 2005-12-22 2012-06-13 大日本印刷株式会社 メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置
JP2007178763A (ja) 2005-12-28 2007-07-12 Seiko Epson Corp 光学素子の製造方法、液晶装置、及び投射型表示装置
JP2008083215A (ja) * 2006-09-26 2008-04-10 Seiko Epson Corp 配向膜製造用マスク及び液晶装置の製造方法
JP5109520B2 (ja) * 2007-07-27 2012-12-26 セイコーエプソン株式会社 光学素子、液晶装置、液晶装置用マザー基板、及び電子機器、並びにワイヤグリッド偏光素子
JP4968165B2 (ja) 2008-04-24 2012-07-04 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
JP5191851B2 (ja) * 2008-09-25 2013-05-08 株式会社東芝 偏光状態検査装置および偏光状態検査方法
EP2482104A2 (en) * 2009-09-22 2012-08-01 LG Chem, Ltd. High ultraviolet transmitting double-layer wire grid polarizer for fabricating photo-alignment layer and fabrication method thereof
JP2011186394A (ja) * 2010-03-11 2011-09-22 Toppan Printing Co Ltd マスクパターンの白欠陥修正方法およびマスクパターン
JP2011203669A (ja) * 2010-03-26 2011-10-13 Toppan Printing Co Ltd 偏光露光装置
JP2011248284A (ja) * 2010-05-31 2011-12-08 Sony Chemical & Information Device Corp 偏光板及び偏光板の製造方法
JP5682437B2 (ja) * 2010-09-07 2015-03-11 ソニー株式会社 固体撮像素子、固体撮像装置、撮像機器、及び、偏光素子の製造方法
US8873144B2 (en) * 2011-05-17 2014-10-28 Moxtek, Inc. Wire grid polarizer with multiple functionality sections
JP5077465B2 (ja) * 2011-07-14 2012-11-21 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置
JP4977794B2 (ja) * 2011-09-21 2012-07-18 信越化学工業株式会社 パターン転写方法およびフォトマスク
JP2013145863A (ja) 2011-11-29 2013-07-25 Gigaphoton Inc ２光束干渉装置および２光束干渉露光システム
US8922890B2 (en) * 2012-03-21 2014-12-30 Moxtek, Inc. Polarizer edge rib modification
CN104395785B (zh) * 2012-06-21 2017-04-12 日立麦克赛尔株式会社 光学元件、光学元件的制造方法和光学装置
JP6308816B2 (ja) * 2013-03-07 2018-04-11 株式会社ブイ・テクノロジー 光配向用偏光照射装置
JP5344105B1 (ja) * 2013-03-08 2013-11-20 ウシオ電機株式会社 光配向用偏光光照射装置及び光配向用偏光光照射方法
JP6428171B2 (ja) * 2013-11-13 2018-11-28 大日本印刷株式会社 偏光子、偏光子用基板および光配向装置

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