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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6704540B1 (ja) * 2018-09-27 2020-06-03 日鉄ケミカル＆マテリアル株式会社 メタルマスク材料及びその製造方法とメタルマスク
CN114446190B (zh) 2022-02-08 2023-07-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 支撑板及显示装置

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002060927A (ja) * 2000-08-10 2002-02-28 Toray Ind Inc 薄膜パターン成膜用マスク
JP2003017254A (ja) * 2001-06-29 2003-01-17 Sanyo Electric Co Ltd エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法
JP3596502B2 (ja) * 2001-09-25 2004-12-02 セイコーエプソン株式会社 マスク及びその製造方法、エレクトロルミネッセンス装置及びその製造方法並びに電子機器
JP2005042133A (ja) * 2003-07-22 2005-02-17 Seiko Epson Corp 蒸着マスク及びその製造方法、表示装置及びその製造方法、表示装置を備えた電子機器
JP4608874B2 (ja) * 2003-12-02 2011-01-12 ソニー株式会社 蒸着マスクおよびその製造方法
JP2006152396A (ja) * 2004-11-30 2006-06-15 Sony Corp メタルマスク、電鋳用マスク原版及びマスター原版の製造方法
JP4624824B2 (ja) * 2005-03-04 2011-02-02 京セラ株式会社 メタルマスクの製造方法およびメタルマスク
JP2008293798A (ja) * 2007-05-24 2008-12-04 Toyota Industries Corp 有機ｅｌ素子の製造方法
JP5297046B2 (ja) * 2008-01-16 2013-09-25 キヤノントッキ株式会社 成膜装置
JP2009221535A (ja) * 2008-03-17 2009-10-01 Univ Of Tsukuba 微細構造素子製造装置及び微細構造素子生産方法
JP2010106358A (ja) * 2008-09-30 2010-05-13 Canon Inc 成膜用マスク及びそれを用いた成膜方法
KR101629995B1 (ko) * 2009-04-03 2016-06-13 오스람 오엘이디 게엠베하 재료 증착 장치에서 기판을 홀딩하는 장치
KR101135544B1 (ko) * 2009-09-22 2012-04-17 삼성모바일디스플레이주식회사 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 평판표시장치용 증착 장치
US8786054B2 (en) * 2009-11-16 2014-07-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Structure for integrated circuit alignment
JP5259886B2 (ja) * 2010-12-20 2013-08-07 シャープ株式会社 蒸着方法及び蒸着装置
JP5323041B2 (ja) * 2010-12-22 2013-10-23 日東電工株式会社 有機ｅｌ素子の製造方法及び製造装置
US20160043319A1 (en) * 2013-04-22 2016-02-11 Applied Materials, Inc. Actively-aligned fine metal mask
JP6404615B2 (ja) * 2014-06-26 2018-10-10 シャープ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子製造用マスク、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
CN204125520U (zh) * 2014-08-14 2015-01-28 昆山萬豐電子有限公司 一种用于磁控溅射工艺的立式掩膜夹具
JP6527408B2 (ja) * 2015-07-02 2019-06-05 株式会社ブイ・テクノロジー 成膜マスクの製造方法及びその製造装置
JP6804301B2 (ja) 2015-07-17 2020-12-23 凸版印刷株式会社 メタルマスク用基材の製造方法、および、蒸着用メタルマスクの製造方法

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