JP2018538382A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2018538382A5
JP2018538382A5 JP2018519469A JP2018519469A JP2018538382A5 JP 2018538382 A5 JP2018538382 A5 JP 2018538382A5 JP 2018519469 A JP2018519469 A JP 2018519469A JP 2018519469 A JP2018519469 A JP 2018519469A JP 2018538382 A5 JP2018538382 A5 JP 2018538382A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
alkyl
coating
copolymer
grafted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2018519469A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6788668B2 (ja
JP2018538382A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from US14/885,328 external-priority patent/US9574104B1/en
Application filed filed Critical
Publication of JP2018538382A publication Critical patent/JP2018538382A/ja
Publication of JP2018538382A5 publication Critical patent/JP2018538382A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6788668B2 publication Critical patent/JP6788668B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2018519469A 2015-10-16 2016-10-13 ブロックコポリマーの自己組織化のための組成物及び方法 Active JP6788668B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US14/885,328 US9574104B1 (en) 2015-10-16 2015-10-16 Compositions and processes for self-assembly of block copolymers
US14/885,328 2015-10-16
PCT/EP2016/074614 WO2017064199A1 (en) 2015-10-16 2016-10-13 Compositions and processes for self-assembly of block copolymers

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018538382A JP2018538382A (ja) 2018-12-27
JP2018538382A5 true JP2018538382A5 (enExample) 2019-09-26
JP6788668B2 JP6788668B2 (ja) 2020-11-25

Family

ID=57133209

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018519469A Active JP6788668B2 (ja) 2015-10-16 2016-10-13 ブロックコポリマーの自己組織化のための組成物及び方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US9574104B1 (enExample)
EP (1) EP3362404B1 (enExample)
JP (1) JP6788668B2 (enExample)
KR (1) KR102398438B1 (enExample)
CN (1) CN108137313B (enExample)
TW (1) TWI599582B (enExample)
WO (1) WO2017064199A1 (enExample)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016223046A (ja) * 2015-06-04 2016-12-28 東京応化工業株式会社 表面にパターンを有する繊維の製造方法
KR102402958B1 (ko) * 2015-11-11 2022-05-27 삼성전자주식회사 반도체 장치의 패턴 형성 방법 및 반도체 장치의 제조 방법
KR102443384B1 (ko) * 2016-07-06 2022-09-16 제이에스알 가부시끼가이샤 막 형성용 조성물, 막 형성 방법 및 자기 조직화 리소그래피 프로세스
JP6997764B2 (ja) * 2016-08-18 2022-01-18 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 自己組織化用途用のポリマー組成物
US10691019B2 (en) * 2016-10-07 2020-06-23 Jsr Corporation Pattern-forming method and composition
JP6835969B2 (ja) 2016-12-21 2021-02-24 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングMerck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung ブロックコポリマーの自己組織化のための新規組成物及び方法
US10734239B2 (en) * 2017-03-01 2020-08-04 Brewer Science, Inc. High-chi block copolymers with tunable glass transition temperatures for directed self-assembly
WO2019152078A1 (en) * 2018-02-01 2019-08-08 Brewer Science, Inc. Gradient block copolymers for directed self-assembly
JP7081377B2 (ja) * 2018-08-01 2022-06-07 Jsr株式会社 組成物及び基板表面の修飾方法
JP7269346B2 (ja) * 2018-12-07 2023-05-08 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ポリスチレン-b-ポリ(メチルメタクリレート)ジブロックコポリマーのコンタクトホール自己集合のための高速架橋可能な中性下層及びそれらの調合物
EP3772370A1 (en) * 2019-08-05 2021-02-10 Helmholtz-Zentrum Geesthacht Zentrum für Material- und Küstenforschung GmbH Method of producing a polymeric membrane
JP7646684B2 (ja) * 2020-08-17 2025-03-17 Jsr株式会社 下層膜形成用組成物、下層膜、及び、リソグラフィープロセス
CN117321096A (zh) * 2021-05-18 2023-12-29 默克专利股份有限公司 用于ps-b-pmma型嵌段共聚物的图案化定向自组装的具有改进的干蚀刻能力的疏水性可交联钉扎底层
KR102935027B1 (ko) * 2021-12-02 2026-03-05 메르크 파텐트 게엠베하 개선된 기판 상용성으로 dsa에 사용하기 위한 신규 중성층 및 소수성 피닝 매트 물질의 개발
JP2024063959A (ja) * 2022-10-27 2024-05-14 東京応化工業株式会社 組成物及び重合体
CN115826359A (zh) * 2022-11-22 2023-03-21 西南科技大学 用于光刻图案化的全碳氢低介电损耗光敏树脂的制备及应用
JP2026511349A (ja) 2023-02-14 2026-04-14 メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 誘導自己集合用途における自己集合化形状の改善のためのブロックコポリマー調合物

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7282551B2 (en) * 2001-02-23 2007-10-16 Ems-Chemie Ag Thermoplastic block copolymers consisting of polyalkyl(meth)acrylate and polyamide segments and the use thereof
US20090286927A1 (en) * 2005-06-27 2009-11-19 Niels Dan Anders Sodergard Hyperbranched Polymers
KR100926697B1 (ko) * 2007-06-12 2009-11-17 연세대학교 산학협력단 온도와 조성에 의한 부피 수축 원리를 이용한 다공성 나노구조체의 기공 크기 조절
US7521094B1 (en) 2008-01-14 2009-04-21 International Business Machines Corporation Method of forming polymer features by directed self-assembly of block copolymers
US8425982B2 (en) * 2008-03-21 2013-04-23 Micron Technology, Inc. Methods of improving long range order in self-assembly of block copolymer films with ionic liquids
US8114301B2 (en) * 2008-05-02 2012-02-14 Micron Technology, Inc. Graphoepitaxial self-assembly of arrays of downward facing half-cylinders
US7560141B1 (en) 2008-11-11 2009-07-14 International Business Machines Corporation Method of positioning patterns from block copolymer self-assembly
US8569427B2 (en) * 2009-10-08 2013-10-29 University Of South Carolina Polymers derived from rosin and their methods of preparation
US8691925B2 (en) * 2011-09-23 2014-04-08 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Compositions of neutral layer for directed self assembly block copolymers and processes thereof
US8835581B2 (en) 2012-06-08 2014-09-16 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Neutral layer polymer composition for directed self assembly and processes thereof
JP6454324B2 (ja) * 2013-04-03 2019-01-16 ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. 誘導自己組織化用ブロックコポリマーに用いる高エッチング耐性ポリマーブロック
US9291909B2 (en) 2013-05-17 2016-03-22 Az Electronic Materials (Luxembourg) S.A.R.L. Composition comprising a polymeric thermal acid generator and processes thereof
JP6558894B2 (ja) * 2013-12-31 2019-08-14 ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシーRohm and Haas Electronic Materials LLC コポリマーの設計、その製造方法およびそれを含む物品
CN104749905B (zh) * 2013-12-31 2018-02-13 罗门哈斯电子材料有限公司 定向自组装图案形成方法和组合物
CN106104754B (zh) * 2014-01-16 2020-07-28 布鲁尔科技公司 用于直接自组装的高chi嵌段共聚物

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5058733B2 (ja) ケイ素含有微細パターン形成用組成物を用いた微細パターン形成方法
TWI459146B (zh) 用於塗覆光阻圖樣之組合物
JP6342993B2 (ja) ポリマー型熱酸発生剤を含む組成物及びそれの方法
CN108137313B (zh) 用于嵌段共聚物自组装的组合物和方法
KR101900660B1 (ko) 미세 레지스트 패턴 형성용 조성물 및 이를 사용한 패턴 형성 방법
CN105103053B (zh) 微细抗蚀图案形成用组合物以及使用了其的图案形成方法
JP6810782B2 (ja) 誘導自己集合体施与のためのケイ素含有ブロックコポリマー
JP2015516686A (ja) 誘導自己組織化用のケイ素系ハードマスク層
NL2007940A (en) Methods for providing patterned orientation templates for self-assemblable polymers for use in device lithography.
CN103797066A (zh) 用于定向自组装嵌段共聚物的中性层组合物及其方法
TWI754661B (zh) 用於自組裝應用之聚合物組合物
JP6470079B2 (ja) パターン形成方法
CN104483812A (zh) 利用热显影增强电子束光刻胶对比度的制备高密度平整图形的方法
JP6039028B1 (ja) 自己組織化材料及びパターン形成方法
JP2024545433A5 (enExample)
JP2020535467A (ja) 窒化シリコン上のフォトレジスト・パターニング
JP7008403B2 (ja) 相分離構造形成用樹脂組成物、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法
JP4425720B2 (ja) パターン形成方法