KR100926697B1 - 온도와 조성에 의한 부피 수축 원리를 이용한 다공성 나노구조체의 기공 크기 조절 - Google Patents
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Abstract
Description
구분 | BCB의 몰분율 (몰%) | 중량평균분자량 (g/mol) | 다분산지수 | 폴리스티렌의 부피분율(부피%) |
비교예 | 0 | 88k | 1.03 | 72.4 |
실시예 1 | 3.3 | 81.3k | 1.08 | 74.1 |
실시예 2 | 6.6 | 86.6k | 1.07 | 75 |
실시예 3 | 9.7 | 82.8k | 1.10 | 74.9 |
구분 | 기공 크기 (nm) | 기공크기의 표준편차 | 기공 밀도 (/㎛2) | |
비교예 | 250 ℃열처리 전 | 22.1 | 1.3 | 640 |
250 ℃열처리 후 | 22.2 | 1.3 | 640 | |
실시예 1 | 250 ℃열처리 전 | 25.5 | 1.4 | 630 |
250 ℃열처리 후 | 30 | 2.0 | 630 | |
실시예 2 | 250 ℃열처리 전 | 29 | 1.5 | 630 |
250 ℃열처리 후 | 32.1 | 1.8 | 630 | |
실시예 3 | 250 ℃열처리 전 | 29.2 | 1.4 | 620 |
250 ℃열처리 후 | 33.3 | 2.0 | 620 |
Claims (9)
- (a) 폴리(스티렌-벤조사이클로부텐) 공중합체와 메틸메타크릴레이트 단량체 함유 조성물을 열처리하여 폴리스티렌 68 ~ 78 부피%를 포함하는 열경화성 블록 공중합체를 제조하는 단계;(b) 상기 열경화성 블록 공중합체를 180 ~ 250 ℃에서 열처리하는 단계; 및(c) 상기 (b) 단계처리 후, 자외선으로 식각하여 나노 크기의 기공을 형성하는 단계를 포함하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,상기 기공의 평균 크기는 10 ~ 40 nm인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,상기 기공 크기의 표준편차 값이 3 이하인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,상기 기공의 밀도는 50~5000 개/㎛2 인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 1에 있어서,상기 구조체는 박막 형태인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 5에 있어서,상기 박막의 두께는 10 ~ 100 nm인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- 청구항 5에 있어서,상기 (a) 단계는 폴리(스티렌-벤조사이클로부텐) 공중합체와 메틸메타크릴레이트 단량체 함유 조성물을 지지체 위에 도포 및 열처리하는 것임을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
- (a) 폴리(스티렌-벤조사이클로부텐) 공중합체와 메틸메타크릴레이트 단량체 함유 조성물을 열처리하여 폴리스티렌 68 ~ 78 부피%를 포함하는 열경화성 블록 공중합체를 제조하는 단계; (b) 상기 열경화성 블록 공중합체를 180 ~ 250 ℃에서 열처리하는 단계; 및 (c) 상기 (b) 단계처리 후, 자외선으로 식각하여 나노 크기의 기공을 형성하는 단계를 포함하는 방법에 의하여 제조되고,상기 (c) 단계에서, 식각에 의하여 폴리메틸메타크릴레이트 부분이 제거되며,기공의 평균 크기는 10 ~ 40 nm이고, 기공 크기의 표준편차 값이 3 이하이며, 기공의 밀도가 50~5000 개/㎛2 인 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체.
- 청구항 1 내지 청구항 7 중에서 어느 한 항의 다공성 나노 구조체의 제조방법에 있어서,폴리(스티렌-벤조사이클로부텐) 공중합체와 메틸메타크릴레이트의 블록 공중합체에서 벤조사이클로부텐의 몰분율을 0.01몰%에서 15몰% 사이에서 변화시켜 나노 크기의 기공 크기를 변경하는 것을 특징으로 하는 다공성 나노 구조체의 제조방법.
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Cited By (2)
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Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020070882A (ko) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 다공성 필름 및 그의 제조방법과 용도 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20020070882A (ko) * | 2001-02-28 | 2002-09-11 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 다공성 필름 및 그의 제조방법과 용도 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101045669B1 (ko) | 2009-12-04 | 2011-07-01 | 광주과학기술원 | 다공성 유기물 박막의 제조방법 및 이에 의해 제조된 다공성 유기물 박막 |
JP2016518025A (ja) * | 2013-04-03 | 2016-06-20 | ブルーワー サイエンス アイ エヌ シー. | 誘導自己組織化用ブロックコポリマーに用いる高エッチング耐性ポリマーブロック |
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