JP2018535181A - ビス（フルオロスルホニル）−イミド及びこの塩を調製する方法 - Google Patents

Abstract

本発明は、ビス（フルオロスルホニル）−イミドを調製する方法であって、ビス（クロロスルホニル）−イミド又はこの対応する誘導体から出発し、ビス（クロロスルホニル）−イミド又はこの対応する誘導体が、イソシアン酸クロロスルホニルの存在下でＨＦと反応し、水溶液からビス（フルオロスルホニル）−イミドを抽出するための、特定の抽出ステップを使用する方法に関する。本発明は、ビス（フルオロスルホニル）−イミド及びこの誘導体の特定の塩の調製にも有用である。

Description

本発明は、ビス（フルオロスルホニル）−イミドを調製する方法であって、ビス（クロロスルホニル）−イミド又はこの対応する誘導体から出発し、ビス（クロロスルホニル）−イミド又はこの対応する誘導体が、イソシアン酸クロロスルホニルの存在下でＨＦと反応し、方法が、水溶液からビス（フルオロスルホニル）−イミドを抽出するために、特定の抽出ステップを使用する、方法に関する。本発明は、ビス（フルオロスルホニル）−イミド及びこの誘導体の特定の塩の調製にも有用である。

以下の文章において、別段の記載がない限り、以下の意味が使用される：
ＡＣＮ アセトニトリル；
ＣＩＳＩ ビス（クロロスルホニル）−イミド、すなわち式（２）の化合物；

ＣＳＩ イソシアン酸クロロスルホニル、すなわち式（３）の化合物；

ＣＳＯＳ、ＣＳＡ クロロスルホン酸；
ＤＣＢ ジクロロベンゼン、別段の記載がない限り、１，２−ジクロロベンゼンである；
ＤＣＥ ジクロロエタン、別段の記載がない限り、１，２−ジクロロエタンである；
ＤＣＭ ジクロロメタン；
ＤＦＡＣｌ ジフルオロ酢酸クロリド；
ＤＦＡＦ ジフルオロ酢酸フルオリド；
ハロゲン化物は、フッ化物、塩化物、臭化物又はヨウ化物を意味し、好ましくはフッ化物、塩化物又は臭化物を意味し、より好ましくはフッ化物又は塩化物を意味し、さらにより好ましくは塩化物を意味する；
ハロゲン Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩ、好ましくはＦ、Ｃｌ又はＢｒ、より好ましくはＦ又はＣｌ；
ＨＦＳＩ ビス（フルオロスルホニル）−イミド、すなわち式（１）の化合物；

ＬｉＦＳＩ リチウムビス（フルオロスルホニル）−イミド、すなわち式（５）の化合物；

Ｍｐ 融点；
ＭＴＢＥ メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル；
ＴＥＡ トリエチルアミン；
ＴＨＦ テトラヒドロフラン；
ＭｅＴＨＦ ２−メチルテトラヒドロフラン；
ＶＮ バレロニトリル；
ｗｔ％、重量％ 重量パーセント。

本発明の目的において、蒸留及び蒸発は本質的に同じ意味であり、すなわち、揮発性化合物の気化であり、このことは、好ましくは前記揮発性化合物を混合物から除去するために実施される。蒸留と蒸発の差は、主に、前記気化に使用される装置の種類にある。したがって、蒸留及び蒸発の２つの用語は、別段の記載がない限り、本明細書において交換可能に使用される。

例えばＬｉＦＳＩのようなビス（フルオロスルホニル）−イミドの塩は、電気化学的装置、例えばリチウムイオン電池の電解質の生成に使用される。ＨＦＳＩは、ビス（フルオロスルホニル）−イミドの塩の生成に使用される中間体である。

ＵＳ２０１３／０３３１６０９Ａ１は、フルオロスルホニルイミドの金属塩を２ステップで生成する方法を開示しており、第１のステップでは、ジ（クロロスルホニル）イミドはフッ素化剤のＮＨ_４Ｆと反応して、アンモニウムジ（フルオロスルホニル）イミドをもたらし、第２のステップでは、アンモニウムジ（フルオロスルホニル）イミドはＬｉＯＨによりリチウムジ（フルオロスルホニル）イミドに転化される。第１のステップは溶媒の存在下で実施され、実施例ではアセトニトリルが使用されており、反応は、８０〜８４℃の還流条件下で４時間にわたって実施された。

ＷＯ２００９／１２３３２８Ａ１は、対応する対称及び非対称クロロスルホニルイミドと、１１属から１５属及び第４周期から第６周期（ヒ素及びアンチモンを除く）元素からなる群から選択される少なくとも１つの元素を含有するフッ化物化合物との反応によって、溶媒中に対称及び非対称フルオロスルホニルイミドの金属塩を調製する方法を開示しており、次にこれらの金属塩は、第２のステップにおいて、カチオン交換反応により様々なアミン並びに対称及び非対称フルオロスルホニルイミドの塩に転化される。

ＵＳ２０１５／０２４６８１２Ａ１は、対称及び非対称クロロスルホニルイミドから対称及び非対称フルオロスルホニルイミドを調製する方法を開示しており、反応は有機溶媒中で実施されている。

ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１は、ＨＦを使用してＣＩＳＩからＦＳＩを生成する方法を開示しており、この反応により生成されるＨＣｌは、反応中に選択的に除去され、ＨＦＳＩを少なくとも８０％の収率で生成する。反応は、周囲（例えば、大気）圧で実施される。反応時間は、３時間よりはるかに長い。相当に長い反応時間及び反応中に反応混合物からＨＣｌを分離する必要性という両方の要件によって、反応を連続して実施する場合、反応中にＨＣｌを分離するために必要な装置とともに組み立てられた、特別な連続式撹拌槽型反応器（「ＣＳＴＲ」）が必要となる。単純な連続作動管型反応器により反応を実施することは、問題を引き起こす。

ＣｌではなくＢｒ及びＩのＦへの交換、すなわち、水素ビス（フルオロスルホニル）イミド（ＨＦＳＩ）を生成するためのフッ化水素による水素ビス（ハロスルホニル）イミド（ＨＸＳＩ）の転化も開示されており、ここでそれぞれのＸは、独立してＣｌ、Ｂｒ又はＩのような非フルオロハロゲン化物である。

ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１は、高温の連続反応によるイミドジスルホニル化合物の調製方法を開示している。

ＵＳ７，９１９，６２９Ｂ２は、真空下での蒸留によって得た蒸留ＣＩＳＩと、ＨＦとの反応を実施例１０に開示しており、とりわけ、実施例において１３０℃で２時間により５５％の収率を報告している。比較例（ｉ）におけるこの実施例１０の再現及びＣＳＩ含有量の測定は、真空下での前記蒸留によって得た出発材料ＣＩＳＩにおける０．３ｗｔ％のＣＳＩ残留含有量を明らかにした。本発明の実施例８は、顕著に高い収率の８２％を示している。

Ｒｏｌｆ Ａｐｐｅｌ ｅｔ ａｌ，Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ，１９６２，９５，１７５３−１７５５は、ＣＳＩ及びＣＳＯＳからのＣＩＳＩの調製を１７５５頁に開示している。最終生成物は、粗生成物の真空下での蒸留によって得ている。比較例（ｉ）によると、残留含有量の０．３ｗｔ％は、真空下での蒸留後のＣＩＳＩにおけるものであると推定されうる。

ＥＰ００５５８９９Ａ２は、ＣＳＩ及びＣＳＯＳからのＣＩＳＩの調製を実施例１に開示している。最終生成物は、粗生成物の真空下での蒸留によって得ており、次にこの蒸留生成物は、さらなる反応に使用される。比較例（ｉ）によると、残留含有量の０．３ｗｔ％は、真空下での蒸留後のＣＩＳＩにおけるものであると推定されうる。

ＥＰ２６６２３３２Ａは、ジ（クロロスルホニル）イミドを酢酸エチル中のＮＨ_４Ｆと反応させることによるアンモニウムジ（フルオロスルホニル）イミドの調製方法を、実施例４開示している。

ＥＰ２６６０１９６Ａは、ジ（クロロスルホニル）イミド及びＮＨ_４Ｆ（ＨＦ）ｐの反応による、アンモニウムジ（フルオロスルホニル）イミドの調製方法を開示している。［００３０］によると、反応は有機溶媒中において実施される、すなわち、使用前に好ましくは脱水される又は溶媒の不在下で実施される。実施例１は溶媒としてアセトニトリルを使用している。

ＥＰ２６７４３９５Ａは、ジ（フルオロスルホニル）−イミドのアンモニウム塩を生成する方法を［１０２］に開示しており、アセトニトリル中の無水フッ化水素は、アンモニウムジ（クロロスルホニル）イミドと反応している。酢酸エチル及び水の添加の後、有機相が分離され、水相が酢酸エチルにより３回抽出された。抽出動作において得られた有機相が合わされ、合わされた有機相は水で洗浄され、アンモニウムジ（フルオロスルホニル）−イミドが有機相から単離された。アンモニウムジ（フルオロスルホニル）−イミドは、常に有機相に留まっている。

ＥＰ２５０５５５１Ａ１は、ジ（クロロスルホニル）イミド及びＺｎＦ_２のフッ素化反応を実験例１に開示している。反応は酢酸ブチル中において実施されている。反応溶液は、反応後にアンモニア水に添加されている。２相が形成され、水相が除去され、所望のフルオロスルホニルイミドが、ジ（クロロスルホニル）イミドのアンモニウム塩の形態で有機相に存在する。

ＥＰ２５７８５３３Ａ１は、ジ（クロロスルホニル）イミド及びＺｎＦ_２のフッ素化反応を実験例１−１に開示している。反応は酢酸ブチル中において実施されている。反応溶液は、反応後にアンモニア水に添加されている。２相が形成され、水相が除去され、所望のフルオロスルホニルイミドが、ジ（クロロスルホニル）イミドのアンモニウム塩の形態で有機相に存在する。

フッ素化反応において溶媒が必須にものとして要求されず、フッ素化反応において金属塩が必須なものとして要求されず、わずかなステップしか有しない、ＣＩＳＩから出発してビス（フルオロスルホニル）−イミドの塩を調製する方法であって、ビス（フルオロスルホニル）−イミドの塩を高収率で生成し、フッ素化反応がバッチ式、並びに連続反応器、また連続管型反応器による連続的な方式の両方である方法が必要であった。この方法は、ＨＦによるフッ素化を可能にするはずであり、ＮＨ_４Ｆ又はＺｎＦ_２のようなＨＦではない他の形態のＦ源の使用を必要としないはずである。

この方法は、ＨＦＳＩの調製方法に容易に組み込むことができるＨＦＳＩの精製を可能にするはずであり、例えば、水溶性不純物の除去を可能にする。

さらに、この方法は、アンモニア塩のようなＨＦＳＩの塩の形成が必須なこととして要求されずに、ＨＦＳＩの調製及び精製を可能にするはずである。

さらに、この方法は、続くＬｉＦＳＩのようなＨＦＳＩの塩の調製を可能にするはずである。この方法は、前記塩の高収率での調製を可能にするはずである。バッチ式、並びに連続反応器、また連続管型反応器による連続式の両方の実施を可能にするはずである。

この方法は、ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１に開示されているような、収率の向上のためにフッ素化反応中にＨＣｌの分離を必要としないはずであり、相対的に短い反応時間でフッ素化反応を実施することを可能にするはずである。

有機溶媒ではなく水からＨＦＳＩを精製することが可能であり、アンモニアの使用又はＨＦＳＩのアンモニウム塩の形成が必須なこととして要求されずに、有機溶媒により水からＨＦＳＩを抽出することが可能であることが、見出された。

この精製を、ＨＦＳＩの調製及びＨＦＳＩの塩の調製に使用することができる。

ＨＦＳＩの精製又は調製及びビス（フルオロスルホニル）−イミドの塩の調製のための本発明の方法は、ＣＩＳＩから出発することができ、中間体としてＨＦＳＩを介して進行することができ、フッ素化反応に溶媒を必要とせず、フッ素化反応に金属塩を必要とせず、ＨＦ形態のＦを使用し、わずかなステップしか有さず、ＣＩＳＩにおけるＨＦ及びその逆の場合の不十分な溶解性及び混和性にもかかわらずフッ素化反応において高収率でＨＦＳＩを生成し、フッ素化反応をバッチ式又は連続的な方式、また連続管型反応器の両方によって実施することができ、この方法は、とりわけフッ素化反応における短い反応時間によって特徴づけられる。

この方法は、フッ素化反応中に、フッ素化反応により形成されるＨＣｌの分離を必要とせず、依然として中間体ＨＦＳＩを良好な収率でもたらす。このことは、ＷＯ２０１５／０１２８９７Ａ１の開示の観点から予想外のことであった。さらに、ＨＦとの反応にＣＳＩ含有ＣＩＳＩを使用することが、ＵＳ７，９１９，６２９Ｂ２に開示されている蒸留によって得たＣＩＳＩを使用するより有意に高い収率をもたらすことは、予想外であった。このことは、実施例８に対する比較例（ｉ）によって本明細書に例示されている。

ＨＦＳＩの調製においてＣＩＳＩの使用を開示している従来技術はなく、このＣＩＳＩは意図的にＣＳＩを含有するが、従来技術の様々な調製はそうではなく、常にＣＩＳＩの蒸留で終了しており、このことはさらなる使用のためにＣＩＳＩを精製することを明らかに意味しており、そのような蒸留後のＣＳＩの残留含有量は、わずか０．３ｗｔ％であることが測定された。ＣＳＩの存在下でＨＦＳＩの調製を実施する動機又は示唆も従来技術になく、ＣＳＩの存在がＨＦＳＩの収率を増加させうるという示唆は、従来技術にない。とりわけ電池におけるＬｉＦＳＩの使用において、ＬｉＦＳＩの純度は重要な問題であり、様々な特許出願がこの要件を考慮に入れ、高純度のＬｉＦＳＩを主張している。また、この理由によって当業者は、例えば蒸留により精製されず、したがってより多い量の不純物を含有し、これらの不純物がＨＦＳＩへの反応及びＨＦＳＩの塩への反応中に副産物を引き起こす、ＣＩＳＩによって開始することを、考慮しないであろう。これらの副産物は、電池に必要な高純度プロファイルのＬｉＦＳＩを得るために分離される必要がある。

米国特許出願公開第２０１３／０３３１６０９号明細書 国際公開第２００９／１２３３２８号 米国特許出願公開第２０１５／０２４６８１２号明細書 国際公開第２０１５／０１２８９７号 国際公開第２０１５／００４２２０号 米国特許第７，９１９，６２９号明細書 欧州特許出願公開第００５５８９９号明細書 欧州特許出願公開第２６６２３３２号明細書 欧州特許出願公開第２６６０１９６号明細書 欧州特許出願公開第２６７４３９５号明細書 欧州特許出願公開第２５０５５５１号明細書 欧州特許出願公開第２５７８５３３号明細書

Ｒｏｌｆ Ａｐｐｅｌ ｅｔ ａｌ，Ｃｈｅｍｉｓｃｈｅ Ｂｅｒｉｃｈｔｅ，１９６２，９５，１７５３−１７５５

フッ素化反応は、従来技術の開示と比較して、相対的に短い反応時間で実施することができ、このことは、フッ素化反応をバッチ式のみならず、連続的な方式、また連続管型反応器によっても実施することを可能にする。

（発明の要旨）
本発明の主題は、式（Ｉ）の化合物を調製する方法であって、

ステップＳＴＥＰ１、ステップＳＴＥＰＭＩＸ及びステップＳＴＥＰＥＸＴＲを含み、
ＳＴＥＰ１は、反応ＲＥＡＣ１−１を含み、
反応ＲＥＡＣ１−１において、式（ＩＩ）の化合物は、ＨＦと、

温度ＴＥＭＰ１−１で反応し、ＴＥＭＰ１−１は、少なくとも８０℃であり、
ＲＥＡＣ１−１の開始時に、式（ＩＩＩ）の化合物が反応混合物に存在し、

ＲＥＡＣ１−１の開始時に反応混合物に存在する式（ＩＩＩ）の化合物の量は、少なくとも０．５％であり、％は重量％であり、反応混合物の前記重量からＨＦの重量を除いた、ＲＥＡＣ１−１の開始時の反応混合物の重量に基づいており、
Ｘは、Ｘ１又はＸ２と同一であり、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、
ただし、残基Ｘ１及びＸ２の少なくとも一方が、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、
ＲＥＳＦは、フッ素化Ｃ_１−９アルキルであり、フッ素化Ｃ_１−９アルキルは、非置換であり又は置換基ＯＣＦ_３で置換されており、
ＳＴＥＰＭＩＸにおいて、式（Ｉ）の化合物は、混合ＭＩＸによって水と混合され、ＭＩＸは混合物ＭＩＸＷＡＴをもたらし、ＭＩＸＷＡＴは、式（Ｉ）の化合物と水の混合物であり、
ＳＴＥＰＥＸＴＲにおいて、式（Ｉ）の化合物は、抽出ＥＸＴＲによってＭＩＸＷＡＴから抽出され、ＥＸＴＲは、有機溶媒ＳＯＬＶＯＲＧによるＭＩＸＷＡＴからの式（Ｉ）の化合物の抽出であり、ＳＯＬＶＯＲＧは、水と二相系を形成する有機溶媒であり、
ＥＸＴＲは、溶液ＳＯＬＣＯＭＰ１の形態で式（Ｉ）の化合物をもたらし、ＳＯＬＣＯＭＰ１は、ＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｉ）の化合物の溶液である、方法である。

「フッ素化アルキル」は、少なくとも１つのＨがＦに交換されていることを意味する。

ＲＥＡＣ１−１の反応生成物は、式（Ｉ）の化合物である。

好ましくは、
ＲＥＳＦは、フッ素化Ｃ_１−６アルキルであり、フッ素化Ｃ_１−６アルキルは非置換であり又は置換基ＯＣＦ_３で置換されており、
より好ましくは、
ＲＥＳＦは、フッ素化Ｃ_１−４アルキルであり、フッ素化Ｃ_１−４アルキルは非置換であり又は置換基ＯＣＦ_３で置換されており、
さらにより好ましくは、
ＲＥＳＦは、フッ素化Ｃ_１−２アルキルであり、フッ素化Ｃ_１−２アルキルは非置換である又は置換基ＯＣＦ_３で置換されている。

とりわけ、本明細書における任意のＲＥＳＦは、ペルフルオロアルキルである。

ＲＥＳＦの特定の実施形態は、例えば、ＣＦ_３、ＣＨＦ_２、ＣＨ_２Ｆ、Ｃ_２Ｆ_５、Ｃ_２ＨＦ_４、Ｃ_２Ｈ_２Ｆ_３、Ｃ_２Ｈ_３Ｆ_２、Ｃ_２Ｈ_４Ｆ、Ｃ_３Ｆ_７、Ｃ_３ＨＦ_６、Ｃ_３Ｈ_２Ｆ_５、Ｃ_３Ｈ_４Ｆ_３、Ｃ_３Ｈ_６Ｆ、Ｃ_４Ｆ_９、Ｃ_４Ｈ_２Ｆ_７、Ｃ_４Ｈ_４Ｆ_５、Ｃ_４Ｈ_８Ｆ、Ｃ_５Ｆ_１１、Ｃ_５Ｈ_１０Ｆ、Ｃ_３Ｆ_５ＯＣＦ_３、Ｃ_２Ｆ_４ＯＣＦ_３、Ｃ_２Ｈ_２Ｆ_２ＯＣＦ_３、ＣＦ_２ＯＣＦ_３、Ｃ_６Ｆ_１３、Ｃ_６Ｈ_１２Ｆ、Ｃ_７Ｆ_１５、Ｃ_８Ｆ_１７及びＣ_９Ｆ_１９であり、
好ましくは、ＣＦ_３、ＣＨＦ_２、ＣＨ_２Ｆ、フルオロエチル、ジフルオロエチル、２，２，２−トリフルオロエチル、ペンタフルオロエチル、３，３，３−トリフルオロプロピル、ペルフルオロ−ｎ−プロピル、フルオロプロピル、ペルフルオロイソプロピル、フルオロブチル、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル、ペルフルオロ−ｎ−ブチル、ペルフルオロイソブチル、ペルフルオロ−ｔ−ブチル、ペルフルオロ−ｓｅｃ−ブチル、フルオロペンチル、ペルフルオロペンチル、ペルフルオロイソペンチル、ペルフルオロ−ｔ−ペンチル、フルオロヘキシル、ペルフルオロ−ｎ−ヘキシル及びペルフルオロイソヘキシルであり、
より好ましくは、トリフルオロメチル、ペンタフルオロエチル及びペルフルオロ−ｎ−プロピルであり、
さらにより好ましくは、トリフルオロメチル及びペンタフルオロエチルである。

好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルであり、
より好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルであり、
さらにより好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−４ペルフルオロアルキルであり、
とりわけ、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−２ペルフルオロアルキルであり、
さらにとりわけ、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣｌ又はＣＦ_３である。

好ましくは、
Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から選択される。

より好ましくは、
Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルである。

さらにより好ましくは、
Ｘは、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルである。

とりわけ、
Ｘは、Ｆ、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−４ペルフルオロアルキルである。

さらにとりわけ、
Ｘは、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−２ペルフルオロアルキルである。

なおさらにとりわけ、
Ｘは、Ｃｌ又はＣＦ_３である。

式（Ｉ）の化合物の特定の実施形態は、式（１）の化合物及び式（１−ＣＦ３）の化合物である。

式（ＩＩ）の化合物の特定の実施形態は、式（２）の化合物及び式（２−ＣＦ３）の化合物である。

式（ＩＩＩ）の化合物の特定の実施形態は、式（３）の化合物である。

式（ＩＩＩ）の化合物もＲＥＡＣ１−１の間中に反応することができ、これが発生する場合、式（ＩＩＩ）の化合物は、ＲＥＡＣ１−１において開始時から終了時まで必ずしも存在しているとは限らない。このため、用語「ＲＥＡＣ１−１の開始時に、式（ＩＩＩ）の化合物が反応混合物に存在する」は、ＲＥＡＣ１−１が式（ＩＩＩ）の化合物の存在下で開始される場合又は式（ＩＩＩ）の化合物がＲＥＡＣ１−１の開始時に反応混合物に存在する場合も含み、式（ＩＩＩ）の化合物がＲＥＡＣ１−１において又はＲＥＡＣ１−１の間中に存在する場合も含み、式（ＩＩＩ）の化合物の量がＲＥＡＣ１−１の間中に減少する場合も含む。

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１の開始時に反応混合物に存在する式（ＩＩＩ）の化合物の量は、少なくとも０．５％であり、より好ましくは少なくとも０．７５％であり、さらにより好ましくは少なくとも１％であり、とりわけ少なくとも２％であり、さらにとりわけ少なくとも３％であり、なおさらにとりわけ少なくとも４％であり、％は重量％であり、反応混合物の前記重量からＨＦの重量を除いた、ＲＥＡＣ１−１の開始時の反応混合物の重量に基づいている。

好ましくは５０％以下、より好ましくは２５％以下、さらにより好ましくは１５％以下、とりわけ１２．５％以下、さらにとりわけ１０％以下の式（ＩＩＩ）の化合物が、ＲＥＡＣ１−１の開始時に反応混合物に存在し、％は重量％であり、反応混合物の前記重量からＨＦの重量を除いた、ＲＥＡＣ１−１の開始時の反応混合物の重量に基づいている。

下限のうちのいずれかを、ＲＥＡＣ１−１の開始時に存在する式（ＩＩＩ）の化合物の量の上限のうちのいずれかと組み合わせることができる。

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１は連続的な方法で実施される。

ＳＴＥＰ１は、精製ＰＵＲ１を含むことができ、ＰＵＲ１において、式（Ｉ）の化合物は、抽出、蒸留、蒸発、膜補助分離又はこれらの組み合わせによって精製され、
好ましくは、蒸留又は蒸発によって精製される。

ＰＵＲ１は、ＲＥＡＣ１−１の後に実施される。

膜補助分離は、好ましくは膜補助透析蒸発若しくは蒸気透過、又は膜補助濾過である。

好ましくは蒸留又は蒸発は、フィルム蒸発器（ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）、ワイプフィルム蒸発器（ｗｉｐｅｄ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｏｒ）、落下フィルム蒸発（ｆａｌｌｉｎｇ ｆｉｌｍ ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）、精留、フラッシュ蒸留、単経路蒸留又はこれらの組み合わせを使用して実施され、
より好ましくは蒸留又は蒸発は、落下フィルム蒸発、精留、ワイプフィルム蒸発器又はこれらの組み合わせを使用して実施され、
さらにより好ましくは蒸留又は蒸発は、精留又はワイプフィルム蒸発器と組み合わせた落下フィルム蒸発を使用して実施される。

好ましくは、ＰＵＲ１は連続的に実施される。

本発明のさらなる主題は、式（Ｉ）の化合物を精製する方法であって、ステップＳＴＥＰＭＩＸ及びステップＳＴＥＰＥＸＴＲを含む、方法である。

好ましくは、ＭＩＸＷＡＴは、０．５〜５０％、より好ましくは０．５〜３５％、さらにより好ましくは０．５〜２０％、とりわけ１〜１０％、さらにとりわけ２〜８％の式（Ｉ）の化合物の含有量を有し、％は重量％であり、水及び式（Ｉ）の化合物の組み合わせた量に基づき、好ましくはＭＩＸＷＡＴの重量に基づいている。

したがって、式（Ｉ）の化合物及び水は、水中に式（Ｉ）の化合物の前記含有量を得るような比で混合される。

ＭＩＸは、水を式（Ｉ）の化合物に投入すること又は式（Ｉ）の化合物を水に投入することによって、実施することができる
ＭＩＸは、バッチ式又は連続的な方法で実施することができ、好ましくは、ＭＸは連続的に実施される。

好ましくは、ＭＩＸはミキサーを使用することにより、好ましくは静止ミキサーを使用することにより、好ましく実施される。そのようなミキサーは、当業者に知られている。

好ましくは、ＭＩＸは有機溶媒の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは水以外の溶媒の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは窒素を含有する有機塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは窒素を含有する有機塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは有機塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは有機塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは、−５〜５０℃の温度、より好ましくは０〜４０℃の温度で実施される。

好ましくは、ＭＩＸは周囲圧で実施される。ＭＩＸを、高圧下において、好ましくは周囲圧から１０ｂａｒ、より好ましくは周囲圧から５ｂａｒ、さらにより好ましくは周囲圧から２．５ｂａｒの圧力下で実施することが可能である。

好ましくは、ＭＩＸの混合時間ＴＩＭＥＭＩＸは、１分間〜２時間、より好ましくは２分間〜１．５時間、さらにより好ましくは５分間〜１時間、とりわけ５分間〜３０分間である。

別の好ましい実施形態において、ＴＩＭＥＭＩＸは５分間〜１０時間である。

好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧは、炭酸塩をベースとする溶媒、脂肪族エーテルをベースとする溶媒、エステルをベースとする溶媒、アミドをベースとする溶媒、ニトロをベースとする溶媒、硫黄をベースとする溶媒、ニトリルをベースとする溶媒、ケトンをベースとする溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される。

好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧは、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−Ｉ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＩＩ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＩＩＩ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＩＶ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−Ｖ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＶＩ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＶＩＩ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＶＩＩＩ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−Ｘ）の化合物、式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＸＩ）の化合物及び式（ＳＯＬＶＯＲＧ−ＸＩＩ）の化合物からなる群から選択され、

Ｒ１及びＲ２は、同一であり若しくは異なり、Ｃ_１−４アルキルである、又は
Ｒ１及びＲ２は、一緒になってＣＨ_２ＣＨ_２鎖を形成し、ＣＨ_２ＣＨ_２鎖は２個の酸素原子を接続し、それによって５員環を形成し、ＣＨ_２ＣＨ_２鎖は、非置換であり又は１つ若しくは２つのＣ_１−４アルキル残基で置換されており、
好ましくは、
Ｒ１及びＲ２は、同一であり若しくは異なり、Ｃ_１−２アルキルである、又は
Ｒ１及びＲ２は、一緒になってＣＨ_２ＣＨ_２鎖を形成し、ＣＨ_２ＣＨ_２鎖は２個の酸素原子を接続し、それによって５員環を形成し、ＣＨ_２ＣＨ_２鎖は、非置換である又はＣ_１−２アルキルで置換されており、

Ｒ３及びＲ４は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−４アルキルであり、
ｍは、１、２、３又は４であり、
好ましくは、
Ｒ３及びＲ４は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−２アルキルであり、
ｍは、１又は２であり、

Ｒ５及びＲ６は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−４アルキルであり、
ｍは、２、３又は４であり、
好ましくは、
Ｒ５及びＲ６は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−２アルキルであり、
ｍは、２又は３であり、

Ｒ７及びＲ８は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−６アルキル又はＣ_５−６シクロアルキルであり、
好ましくは、
Ｒ７及びＲ８は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_２−５アルキル又はＣ_５シクロアルキルであり、

Ｒ９及びＲ１０は、同一であり又は異なり、互いに独立してＨ又はＣ_１−４アルキルであり、
Ｒ３４は、Ｏ又はＳＯ_２であり、
Ｒ４０は、ＣＨ_２又はＯであり、
好ましくは、
Ｒ９及びＲ１０は、同一であり又は異なり、互いに独立してＨ又はメチルであり、
Ｒ３４がＳＯ_２である場合、Ｒ４０はＣＨ_２であり、

Ｒ３０は、Ｈ又はＣ_１−４アルキルであり、
Ｒ３１はＣ_１−４アルキルであり、
好ましくは、
Ｒ３０は、Ｈ又はＣ_１−２アルキルであり、
Ｒ３１はＣ_１−４アルキルであり、

Ｒ３２は、Ｈ又はＣ_１−２アルキルであり、
Ｒ３５は、ＣＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２又はＮ−Ｃ_１−４アルキルであり、
好ましくは、
Ｒ３２は、Ｈであり、
Ｒ３５は、ＣＨ_２、ＣＨ_２ＣＨ_２又はＮ−ＣＨ_３であり、

Ｒ３６は、Ｃ_１−２アルキル又はフェニルであり、
好ましくは、
Ｒ３６は、メチル又はフェニルであり、

Ｒ３７は、Ｃ_２−７アルキル又はフェニルであり、
好ましくは、
Ｒ３７は、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ブチル、ペンチル、ヘプチル又はフェニルであり、

Ｒ３８及びＲ３９は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−４アルキルであり、
好ましくは、Ｒ３８及びＲ３９は一緒になって４又は７個のＣ原子を有し、
より好ましくは、Ｒ３８及びＲ３９は一緒になって４又は６個のＣ原子を有し、
さらにより好ましくは、Ｒ３８及びＲ３９は一緒になって５又は６個のＣ原子を有する。

好ましくは、炭酸塩をベースとする溶媒は、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル及び炭酸ジエチルである。

好ましくは、脂肪族エーテルをベースとする溶媒は、例えば、ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル及びトリエチレングリコールジメチルエーテルである。

好ましくは、エステルをベースとする溶媒は、例えば、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ガンマ−ブチロラクトン及びガンマ−バレロラクトンである。

好ましくは、アミドをベースとする溶媒は、例えばＮ−メチルオキサゾリジノンである。

好ましくは、ニトロをベースとする溶媒は、例えばニトロメタン及びニトロベンゼンである。

好ましくは、硫黄をベースとする溶媒は、例えばスルホラン及び３−メチルスルロランである。

好ましくは、ニトリルをベースとする溶媒は、例えば、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、カプロニトリル、カプリルニトリル及びベンゾニトリルである。

好ましくは、ケトンをベースとする溶媒は、例えば、３，３−ジメチル−２−ブタノン及び２，４−ジメチル−３−ペンタノンである。

より好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧは、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル、炭酸ジエチル、
ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ガンマ−ブチロラクトン、ガンマ−バレロラクトン、
Ｎ−メチルオキサゾリジノン、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、カプロニトリル、カプリルニトリル、ベンゾニトリル、
３，３−ジメチル−２−ブタノン、２，４−ジメチル−３−ペンタノン及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

さらにより好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧは、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル、炭酸ジエチル、
ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、
酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、
３，３−ジメチル−２−ブタノン、２，４−ジメチル−３−ペンタノン及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

とりわけ、ＳＯＬＶＯＲＧは、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ｔｅｒｔ−アミルメチルエーテル、
酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、
３，３−ジメチル−２−ブタノン、２，４−ジメチル−３−ペンタノン及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

さらにとりわけ、ＳＯＬＶＯＲＧは、ＴＨＦ、ＭｅＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ブチル、バレロニトリル、３，３−ジメチル−２−ブタノン及び２，４−ジメチル−３−ペンタノンからなる群から選択される。

なおさらにとりわけ、ＳＯＬＶＯＲＧは、ＴＨＦ、ＭｅＴＨＦ、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、バレロニトリル、３，３−ジメチル−２−ブタノン及び２，４−ジメチル−３−ペンタノンからなる群から選択される。

特に、ＳＯＬＶＯＲＧは、ＴＨＦ、ＭｅＴＨＦ、メチル−ｔ−ブチルエーテル、酢酸エチル、酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、バレロニトリル、３，３−ジメチル−２−ブタノン及び２，４−ジメチル−３−ペンタノンからなる群から選択される。

なお特に、ＳＯＬＶＯＲＧは、メチル−ｔ−ブチルエーテル又は酢酸ブチル又はバレロニトリルである。

さらになお特に、ＳＯＬＶＯＲＧは、メチル−ｔ−ブチルエーテル又は酢酸ｔｅｒｔ−ブチルである。

好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧは低い沸点を有する。

好ましくはＭＩＸＷＡＴ：ＳＯＬＶＯＲＧの重量比は、０．５：１〜１５：１であり、より好ましくは１：１〜１０：１であり、さらにより好ましくは３：１〜８：１である。

ＥＸＴＲは、１回を超えて実施することができ、好ましくは１、２、３、４又は５回実施することができ、より好ましくは１、２又は３回実施することができ、さらにより好ましくは１又は２回実施することができる。

ＥＸＴＲは、バッチ式又は連続的な方法で実施することができ、好ましくは、ＥＸＴＲは連続的に実施され、すなわち連続抽出方法によって実施される。連続抽出方法は、当業者に良く知られており、例えば、向流方法又は直交流方法である。

ＥＸＴＲＡが１回を超えて実施される場合、それぞれの抽出により得られた有機相は、ＥＸＴＲの後に合わされる。

ＭＩＸＷＡＴ又はＳＯＬＣＯＭＰ１のような、方法において生じる物質の任意の溶液を濾過して、不溶性不純物を濾過することができる。そのような濾過は当業者に知られており、典型的なメッシュサイズは、０．１マイクロメートルから１０マイクロメートルである。

ＳＯＬＣＯＭＰ１のような、方法において生じる物質の任意の有機溶液を、水を用いた抽出によって精製することができ、これを１回又は１回を超えて実施することができる。これは、水溶性不純物を除去するために実施することができる。

式（Ｉ）の化合物は、当業者に周知の方法によって単離及び精製されうる。これらの方法には、抽出、蒸留、蒸発、膜補助透析蒸発又は膜補助濾過のような膜補助分離が含まれ、好ましくは単離及び精製は、フィルム蒸発器、ワイプフィルム蒸発器、落下フィルム蒸発、蒸留、精留、フラッシュ蒸留又は単経路蒸留を使用して、より好ましくはワイプフィルム蒸発器を使用して実施される。

好ましくは、あらゆる水が蒸発又は留去され、また水は膜分離によっても分離されうる。

好ましくは、あらゆるＳＯＬＶＯＲＧが、蒸発又は蒸留によって、除去される又は少なくとも部分的に除去される。

本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、

ｎ１は、１、２又は３であり、
Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びＡｌからなる群から選択され、
方法は、ＳＴＥＰ１及びステップＳＴＥＰ２を含み、
ＳＴＥＰ１は、本明細書において定義されているとおりであり、この全ての実施形態のものであり、
ＳＴＥＰ２において、式（Ｉ）の化合物のＨは、Ｍに交換される、方法である。

ＳＴＥＰ２は、ＳＴＥＰ１の後に実施される。

この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸ又はＳＴＥＰＥＸＴＲを必ずしも含むとは限らず、１つの実施形態において、この方法はＳＴＥＰＭＩＸを含まず、別の実施形態において、この方法はＳＴＥＰＥＸＴＲを含まず、なお別の実施形態において、この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸを含まず、ＳＴＥＰＥＸＴＲを含まない。

好ましくは、
ｎ１は、Ｍがアルカリ金属の場合、１であり、
ｎ１は、Ｍがアルカリ土類金属の場合、２であり、
ｎ１は、ＭがＡｌの場合、３である。

好ましくは、ＭはＮａ、Ｋ、Ｌｉ、Ｍｇ及びＡｌからなる群から選択され、
より好ましくは、ＭはＮａ、Ｋ及びＬｉからなる群から選択され、
さらにより好ましくは、ＭはＮａ又はＬｉであり、
とりわけ、ＭはＬｉである。

式（Ｖ）の化合物の特定の実施形態は、式（５）の化合物及び式（５−ＣＦ３）の化合物である。

本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ及びＳＴＥＰ２を含み、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ及びＳＴＥＰ２は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

本発明の別の主題は、式（Ｉ−ＡＭ）の化合物を調製する方法であって、

化合物ＡＭＩは、Ｎ（Ｒ１００）（Ｒ２００）Ｒ３００及びＮ（Ｒ４００）Ｒ５００からなる群から選択され、
Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００は、同一であり若しくは異なっており、Ｈ、Ｃ_１−６アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−６アルキルからなる群から選択され、又は
Ｒ１００及びＲ２００は、Ｎと一緒になって、飽和５員、６員、７員若しくは８員複素環式の環ＲＩＮＧＡを形成しており、
Ｒ４００及びＲ５００は、Ｎと一緒になって、不飽和５員、６員、７員又は８員複素環式の環ＲＩＮＧＢを形成しており、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される１又は２個の追加の環内ヘテロ原子を有することができ、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、非置換であり又はＣ_１−６アルキル、ハロゲン化Ｃ_１−６アルキル、Ｃ_１−６アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１、２若しくは３つの同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
方法は、ＳＴＥＰ１及びステップＳＴＥＰ２−１を含み、
ＳＴＥＰ２−１において、式（Ｉ）の化合物のＨは、Ｈ−ＡＭＩに交換され、
ＳＴＥＰ１は、本明細書において定義されているとおりであり、この全ての実施形態のものである、方法である。

ＳＴＥＰ２−１は、ＳＴＥＰ１の後に実施される。

ＳＴＥＰ２−１における式（Ｉ）の化合物のＨのＨ−ＡＭＩへの交換は、式（Ｉ−ＡＭ）の化合物をもたらす。

Ｈ−ＡＭＩは、ＡＭＩのプロトン化形態である。

好ましくは、
Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００は、同一であり若しくは異なっており、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−４アルキルからなる群から選択され、又は
Ｒ１００及びＲ２００は、Ｎと一緒になって、飽和５員若しくは６員複素環式の環ＲＩＮＧＡを形成しており、
Ｒ４００及びＲ５００は、Ｎと一緒になって、不飽和５員又は６員複素環式の環ＲＩＮＧＢを形成しており、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される１個の追加の環内ヘテロ原子を有することができ、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、非置換であり又はＣ_１−４アルキル、ハロゲン化Ｃ_１−４アルキル、Ｃ_１−４アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒからなる群から選択される１、２若しくは３つの同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
より好ましくは、
Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００は、同一であり若しくは異なっており、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−４アルキルからなる群から選択され、又は
Ｒ１００及びＲ２００は、Ｎと一緒になって、飽和５員若しくは６員複素環式の環ＲＩＮＧＡを形成しており、
Ｒ４００及びＲ５００は、Ｎと一緒になって、不飽和５員又は６員複素環式の環ＲＩＮＧＢを形成しており、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、１個の追加の環内Ｎ原子を有することができ、
ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢは、非置換であり又はＣ_１−２アルキル、ハロゲン化Ｃ_１−２アルキル、Ｃ_１−２アルコキシ、Ｆ及びＣｌからなる群から選択される１、２若しくは３つの同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
さらにより好ましくは、
Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−４アルキルからなる群から選択され、
とりわけ、
Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−４アルキルからなる群から選択され、
ただし、１つの置換基のみがＨでありうる。

ＡＭＩの特定の実施形態は、ＮＨ_３、ＮＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_３）_２、Ｎ（ＣＨ_３）_３、Ｎ（Ｈ_２）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＴＥＡ、ピロリジン、ピペリジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール及びピリジンからなる群から選択され、
ピロリジン、ピペリジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール及びピリジンは、非置換であり又はＣ_１−２アルキル、Ｆ及びＣｌからなる群から選択される１若しくは２つの置換基により置換されており、
ＡＭＩのさらに特定の実施形態は、ＮＨ_３、ＮＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_３）_２、Ｎ（ＣＨ_３）_３、Ｎ（Ｈ_２）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＴＥＡ、ピロリジン、ピペリジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール及びピリジンからなる群から選択され、
ピロリジン、ピペリジン、ピロール、ピラゾール、イミダゾール及びピリジンは、非置換であり又は１若しくは２つのＣ_１−２アルキル置換基により置換されており、
ＡＭＩのなおさらに特定の実施形態は、ＮＨ_３、ＮＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_３）_２、Ｎ（ＣＨ_３）_３、Ｎ（Ｈ_２）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２、ＴＥＡ、ピロリジン及びピペリジンからなる群から選択され、
ピロリジン及びピペリジンは、非置換であり又は１若しくは２つのＣ_１−２アルキル置換基により置換されており、
ＡＭＩの大いになおさらに特定の実施形態は、ＮＨ_３、ＮＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_３）_２、Ｎ（ＣＨ_３）_３、Ｎ（Ｈ_２）ＣＨ_２ＣＨ_３、ＮＨ（ＣＨ_２ＣＨ_３）_２及びＴＥＡからなる群から選択される。

置換ピリジンの例は、２−メチル−５−エチル−ピリジン、２−ピコリン、３−ピコリン及び４−ピコリンである。

ＡＭＩの特定の実施形態は、ＴＥＡである。

式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物の特定の実施形態は、式（Ｉ−ＴＥＡ）の化合物、式（１−ＡＭＩ）の化合物、式（１−ＴＥＡ）の化合物、式（１−ＡＭＩ−ＣＦ３）の化合物及び式（１−ＴＥＡ−ＣＦ３）の化合物である。

本発明の別の主題は、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物を調製する方法であって、ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ及びＳＴＥＰ２−１を含み、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ及びＳＴＥＰ２−１は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

好ましくは、ＳＴＥＰ２−１は反応ＲＥＡＣ２−１を含み、
ＲＥＡＣ２−１は、式（Ｉ）の化合物とＡＭＩとの反応である。

ＲＥＡＣ２−１の反応生成物は、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物である。

ＲＥＡＣ２−１は、バッチ式又は連続的な方法で実施することができ、好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は連続的に実施される。

好ましくは、ＡＭＩのモル量は、式（Ｉ）の化合物のモル量の０．５〜２０倍、より好ましくは０．８〜１０倍、さらにより好ましくは０．９〜５倍、さらにより好ましくは０．９〜３倍である。

別の好ましい実施形態において、ＡＭＩのモル量は式（Ｉ）の化合物のモル量の１〜１０倍である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は水性媒体中において実施され、より好ましくは水中において実施される。

好ましくは、水の重量は、式（Ｉ）の化合物の重量の０．５〜５０倍、より好ましくは１〜２５倍、さらにより好ましくは１〜１０倍、とりわけ１〜５倍である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は水中において、１〜１２のｐＨ、より好ましくは２〜１２のｐＨ、さらにより好ましくは４〜１２のｐＨ、とりわけ５〜１１のｐＨ、さらにとりわけ６〜１１のｐＨ、なおさらにとりわけ６〜１０のｐＨで実施される。

別の好ましい実施形態において、ＲＥＡＣ２−１は、水中において、２〜１１のｐＨ、さらにより好ましくは３〜１１のｐＨ、とりわけ３〜１０のｐＨ、さらにとりわけ４〜１０ｐＨで実施される。

好ましくは、ｐＨはＡＭＩの量によって調整され、ｐＨは、さらなるＡＭＩ又はアルカリ金属水酸化物若しくはアルカリ土類金属水酸化物のような塩基の添加によってさらに調整されうる。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は温度ＴＥＭＰ２−１で実施され、ＴＥＭＰ２−１は、０〜１００℃、より好ましくは５〜８０℃、さらにより好ましくは１０〜６０℃、とりわけ１０〜５０℃、さらにとりわけ２０〜５０℃であり、別のより特別な実施形態において、１０〜４０℃である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は周囲圧で実施され、周囲圧から１０ｂａｒ、より好ましくは周囲圧から５ｂａｒ、さらにより好ましくは周囲圧から２．５ｂａｒの圧力下でも実施されうる。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１の反応時間ＴＩＭＥ２−１は、１分間から２時間、より好ましくは２分間から１．５時間、さらにより好ましくは５分間から１時間、とりわけ５分間から３０分間である。

別の好ましい実施形態において、ＴＩＭＥ２−１は５分間から１０時間である。

好ましくは、式（Ｉ）の化合物はＡＭＩに投入される。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は水性媒体中において実施され、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物は、ＲＥＡＣ２−１の後、溶媒ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１を用いた又はＳＯＬＶＯＲＧを用いた抽出ＥＸＴＲ２−１により水性媒体から抽出され、ＥＸＴＲ２−１は、溶液ＳＯＬ−Ｉ−ＡＭＩの形態で式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物をもたらし、ＳＯＬ−Ｉ−ＡＭＩは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物の溶液であり、
ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、水と二相系を形成し、
ＳＯＬＶＯＲＧは、本明細書において定義されているとおりであり、この全ての実施形態のものである。

したがってＳＴＥＰ２−１は、好ましくはＥＸＴＲ２−１を含む。

好ましくは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は有機溶媒である。

好ましくは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は低い沸点を有する。

好ましくは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、炭素塩をベースとする溶媒、脂肪族エーテルをベースとする溶媒、エステルをベースとする溶媒、アミドをベースとする溶媒、ニトロをベースとする溶媒、硫黄をベースとする溶媒、ニトリルをベースとする溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される。

好ましくは、炭酸塩をベースとする溶媒は、例えば、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル及び炭酸ジエチルである。

好ましくは、脂肪族エーテルをベースとする溶媒は、例えば、ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル及びトリエチレングリコールジメチルエーテルである。

好ましくは、エステルをベースとする溶媒は、例えば、ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ガンマ−ブチロラクトン及びガンマ−バレロラクトンである。

好ましくは、アミドをベースとする溶媒は、例えばＮ−メチルオキサゾリジノンである。

好ましくは、ニトロをベースとする溶媒は、例えばニトロメタン及びニトロベンゼンである。

好ましくは、硫黄をベースとする溶媒は、例えばスルホラン及び３−メチルスルロランである。

好ましくは、ニトリルをベースとする溶媒は、例えば、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、カプロニトリル、カプリルニトリル及びベンゾニトリルである。

より好ましくは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル、炭酸ジエチル、
ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、４−メチル−１，３−ジオキソラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、
ギ酸メチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、ガンマ−ブチロラクトン、ガンマ−バレロラクトン、
Ｎ−メチルオキサゾリジノン、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル、カプロニトリル、カプリルニトリル、ベンゾニトリル及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

さらにより好ましくは、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、炭酸ブチレン、炭酸ジメチル、炭酸エチルメチル、炭酸ジエチル、
ジメトキシメタン、１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、１，３−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

とりわけ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、テトラヒドロフラン、２−メチルテトラヒドロフラン、ジイソプロピルエーテル、ジエチルエーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

さらにとりわけ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１は、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、
プロピオニトリル、イソブチロニトリル、ブチロニトリル、バレロニトリル及びこれらの混合物
からなる群から選択される。

なおさらにとりわけ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１はバレロニトリルである。

１つの好ましい実施形態において、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はＳＯＬＶＯＲＧの重量は、式（Ｉ）の化合物の重量の０．５〜５０倍、より好ましくは１〜２５倍、さらにより好ましくは１〜１０倍である。

別の好ましい実施態様において、
［式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物がＲＥＡＣ２−１の後に抽出される、水性媒体］：ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の重量比、又は
［式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物がＲＥＡＣ２−１の後に抽出される、水性媒体］：ＳＯＬＶＯＲＧの重量比は、それぞれ、
０．５：１〜１５：１であり、より好ましくは１：１〜１０：１であり、さらにより好ましくは３：１〜８：１である。

１つの実施形態において、ＳＯＬ−Ｉ−ＡＭＩを水を用いる抽出で精製して、水溶性不純物を除去することができる。

ＥＸＴＲ２−１は、１回を超えて実施することができ、好ましくは１、２、３、４又は５回実施することができ、より好ましくは１、２又は３回実施することができる。

ＥＸＴＲ２−１は、バッチ式又は連続的な方法で実施することができ、好ましくは、ＥＸＴＲは連続的に実施され、すなわち連続抽出方法によって実施される。連続抽出方法は、当業者に良く知られており、例えば、向流方法又は直交流方法である。

ＥＸＴＲ２−１が１回を超えて実施される場合、有機相はＥＸＴＲ２−１の後に組み合わされる。

式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物は、当業者に周知の方法によって単離及び精製されうる。これらの方法には、抽出、蒸留、蒸発及び膜補助透析蒸発又は膜補助濾過のような膜補助分離が含まれる。

好ましくは、ＳＴＥＰ２は反応ＲＥＡＣ２を含み、
ＲＥＡＣ２は、式（Ｉ）の化合物と化合物ＭＥＴ２との反応であり、
ＭＥＴ２は、Ｍ［ＯＨ］_ｎ１、アルカリ金属炭酸塩、炭酸水素塩及びハロゲン化物からなる群から、並びにアルカリ土類金属炭酸塩、炭酸水素塩及びハロゲン化物からなる群から選択され、
ＲＥＡＣ２の反応生成物は、式（Ｖ）の化合物である。

好ましくは、ＭＥＴ２は、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ、Ｍｇ又はＡｌの水酸化物、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＭｇの炭酸塩、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＭｇの炭酸水素塩及びＮａ、Ｋ、Ｌｉ又はＭｇのハロゲン化物からなる群から選択され、
より好ましくは、ＭＥＴ２は、Ｎａ、Ｋ又はＬｉの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩及びハロゲン化物からなる群から選択され、
さらにより好ましくは、ＭＥＴ２は、Ｌｉの水酸化物、炭酸塩、炭酸水素塩及びハロゲン化物からなる群から選択される。

水酸化物及びハロゲン化物は、ＭＥＴ２の好ましい実施形態であり、より好ましくは水酸化物である。

ＭＥＴ２は、結晶水を含有することができる。

ＭＥＴ２をそのままで、又は混合物ＭＩＸ−Ｍとして使用することができ、ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２と、水、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はこれらの組み合わせとの混合物であり、
好ましくはＭＥＴ２を混合物ＭＩＸ−Ｍとして使用することができ、ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２と、水、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はこれらの組み合わせとの混合物である。

ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴは、ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２又はこれらの混合物からなる群から選択され、
好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴはＳＯＬＶＯＲＧであり、
ＳＯＬＶＯＲＧ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１及びＡＮＴＳＯＬＶ２は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである。

ＡＮＴＳＯＬＶ２は、式（Ｖ）の化合物の不十分な溶解性を有する溶媒である。

ＡＮＴＳＯＬＶ２は、式（Ｖ）の化合物の不十分な溶解性を有する任意の溶媒でありうる。

好ましくは、ＡＮＴＳＯＬＶ２は有機溶媒である。

好ましくは、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、芳香族炭化水素をベースとする溶媒、脂肪族炭化水素をベースとする溶媒及びこれらの混合物からなる群から選択される。

好ましくは、芳香族炭化水素をベースとする溶媒は、非置換であり又はアルキル、アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１つ以上の同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
より好ましくは、芳香族炭化水素をベースとする溶媒は、非置換であり又は置換基のＣ_１−４アルキル、Ｃ_１−４アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒからなる群から選択される１、２、３若しくは４つの同一である若しくは異なっている置換基により置換されている。

典型的な芳香族炭化水素をベースとする溶媒は、非置換の又は置換されたベンゼン又はナフタレンであり、好ましくは、アニソール、トルエン、キシレン、クロロベンゼン又は１，２−ジクロロベンゼンのような非置換又は置換ベンゼンである。

好ましくは、脂肪族炭化水素をベースとする溶媒は、非置換であり、ペルハロゲン化されており又はアルキル、アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１つ以上の同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
より好ましくは、脂肪族炭化水素をベースとする溶媒は、非置換であり、ペルハロゲン化されており又は置換基のＣ_１−４アルキル、Ｃ_１−４アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ及びＢｒからなる群から選択される１つ以上の同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
ペルハロゲン化脂肪族炭化水素をベースとする溶媒は、好ましくは、ペルフッ素化又はペル塩素化又はペルフルオロ脂肪族炭化水素をベースとする溶媒である。

脂肪族炭化水素をベースとする溶媒の例には、パラフィン、イソパラフィン、アルキルシクロヘキサン及びシクロパラフィンが含まれる。

パラフィンの例には、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、デカン、ドデカン、ウンデカン、トリデカン及びパラフィン含有混合溶媒が含まれる。

パラフィン含有混合溶媒は、例えば、Ｎｉｐｐｏｎ Ｏｉｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製のＮＯ．０ ＳＯＬＶＥＴＮＴ Ｌである。

イソパラフィンの例には、イソヘキサン、イソオクタン、イソドデカン、イソヘキサデカン、低分子量ポリブテンＬＶ−７（テトラヘキサマー（ｔｅｔｒａｈｅｘａｍｅｒ）、数平均分子量約３００）、ＬＶ−５０（ヘキサエンネアマー（ｈｅｘａ−ｅｎｎｅａｍｅｒ）、数平均分子量約４５０）、ＬＶ−１００（オクタドデカマー（ｏｃｔａ−ｄｏｄｅｃａｍｅｒ）、数平均分子量約５００）［全て例えばＮｉｐｐｏｎ Ｏｉｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製］、水素化型ポリブテンＯＨ（オクタヘプタマー（ｏｃｔａ−ｈｅｐｔａｍｅｒ）、数平均分子量約３５０）、５Ｈ（ヘキサオクタマー（ｈｅｘａ−ｏｃｔａｍｅｒ）、数平均分子量約４００）、１０Ｈ−Ｔ（ヘプタデカマー（ｈｅｐｔａ−ｄｅｃａｍｅｒ）、数平均分子量約４７０）［全て例えばＩｄｅｍｉｔｓｕ Ｋｏｓａｎ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製］及び一般に市販されているイソパラフィン含有混合溶媒（例えば、Ｉｄｅｍｉｔｓｕ Ｋｏｓａｎ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．のＩＰ ＳＯＬＶＥＮＴ、Ｓｈｅｌｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．のＳＨＥＬＬＳＯＬ Ｔシリーズ、Ｅｘｘｏｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ Ｋ．Ｋ．のＩＳＯＰＥＲシリーズ）などが含まれる。

イソパラフィンは、例えば、Ｅｘｘｏｎ Ｍｏｂｉｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製の「Ｉｓｏｐａｒ（商標）Ｅ」若しくは「Ｉｓｏｐａｒ（商標）Ｇ」又はＭａｒｕｚｅｎ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製の「Ｍａｒｕｋａｓｏｌ Ｒ」である。

シクロパラフィンの例には、アルキルシクロヘキサンが含まれ、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ＳＷＡＣＬＥＡＮ １５０（別名：Ｃ９及びＣ１０シクロヘキサン混合物）［全て例えばＭａｒｕｚｅｎ Ｐｅｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製］、Ｎａｐｈｔｅｓｏｌシリーズ及びＣａｃｔｕｓ Ｓｏｌｖｅｎｔシリーズ［全て例えばＮｉｐｐｏｎ Ｏｉｌ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ製］などの市販のナフテン溶媒が含まれる。

アルキルシクロヘキサンは、例えば、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、Ｃ_９シクロヘキサン、Ｃ_１０シクロヘキサン、Ｃ_１１シクロヘキサンである。

直鎖パラフィン、イソパラフィン及びシクロパラフィンを含有する市販の混合溶媒を使用することも、可能である。

好ましくは、ペルハロゲン化されている又は１個以上の同一である若しくは異なっているハロゲン原子により置換されている脂肪族炭化水素をベースとする溶媒及び１個以上の同一である又は異なっているハロゲン原子により置換されている芳香族炭化水素をベースとする溶媒には、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、ジクロロメタン及びジクロロエタンが含まれ、
より好ましくは、クロロベンゼン、１，２−ジクロロベンゼン、ジクロロメタン及びジクロロエタンが含まれる。

とりわけ、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、１，２，４−トリメチルベンゼン、テトラリン、デカリン、パラフィン、イソパラフィン、シクロパラフィン、アルキルシクロヘキサン、アニソール、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン及びこれらの混合物からなる群から選択され、
さらにとりわけ、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、１，２，４−トリメチルベンゼン、アルキルシクロヘキサン、アニソール、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン及びこれらの混合物からなる群から選択され、
なおさらにとりわけ、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、１，２，４−トリメチルベンゼン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、Ｃ_９シクロヘキサン、Ｃ_１０シクロヘキサン、アニソール、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタ及びこれらの混合物からなる群から選択され、
特に、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、アニソール、ジクロロベンゼン、トルエン、キシレン、ジクロロメタン、ジクロロエタン及びこれらの混合物からなる群から選択され、
なお特に、ＡＮＴＳＯＬＶ２は、１，２−ジクロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン及びこれらの混合物からなる群から選択される。

洗浄に使用される典型的な溶媒は、ジクロロメタン、ペンタン又はヘキサンであり、好ましくはジクロロメタンである。

１つの好ましい実施形態において、ＭＩＸ−Ｍは水性溶液であり、すなわち、ＭＥＴ２が水性溶液として使用される。

好ましくは、ＭＥＴ２は、１ｗｔ％から飽和溶液まで、さらにより好ましくは、３ｗｔ％から飽和溶液までの水溶液として使用され、ここでｗｔ％は水溶液の重量に基づいている。

好ましくは、ＭＥＴ２がＬｉＯＨである場合、ＭＥＴ２は１〜１３ｗｔ％の水溶液として使用される。

ＭＩＸ−ＭがＭＥＴ２と水の混合物である場合、ＭＩＸ−Ｍの調製に使用される水の重量は、ＭＥＴ２の重量の好ましくは０．５〜５０倍、より好ましくは１〜２５倍、さらにより好ましくは１〜１２．５倍である。

別の好ましい実施形態において、ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの混合物である。

好ましくは、ＭＩＸ−Ｍの調製に使用されるＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの重量は、ＭＥＴ２の重量の０．５〜５０倍、より好ましくは１〜２５倍、さらにより好ましくは１〜１２．５倍である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２は温度ＴＥＭＰ２で実施され、ＴＥＭＰ２は、−２０〜５０℃であり、より好ましくは−１０〜４０℃であり、さらにより好ましくは−５〜４０℃であり、とりわけ−４〜３０℃であり、さらにとりわけ−３〜２５℃である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２は周囲圧で実施され、周囲圧から１０ｂａｒ、より好ましくは周囲圧から５ｂａｒ、さらにより好ましくは周囲圧から２．５ｂａｒの圧力下でも実施されうる。

好ましくは、ＲＥＡＣ２の反応時間ＴＩＭＥ２は、０．０１秒から５時間、より好ましくは０．１秒から４時間、さらにより好ましくは０．１秒から３時間である。

別の好ましい実施形態において、ＴＩＭＥ２は５分間から１０時間である。

ＲＥＡＣ２は、バッチ式又は連続的な方法で実施することができる。好ましくは、ＲＥＡＣ２は連続的に実施される。例えば、ＲＥＡＣ２の連続装置は、抽出遠心分離機又は抽出カラムである。

１つの実施形態において、式（Ｉ）の化合物はＳＯＬＣＯＭＰ１の形態でＲＥＡＣ２に使用される。

したがって、本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、
ＳＴＥＰ１及びＳＴＥＰ２を含み、
ＳＴＥＰ１及びＳＴＥＰ２は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものであり、
ＲＥＡＣ２において、ＭＥＴ２はそのままで、又は混合物ＭＩＸ−Ｍとして使用され、
ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１若しくはＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ及びＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の組み合わせとの混合物である、又は
ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１若しくはＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ及びＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の組み合わせと、水との混合物である、又は
ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２と水の混合物であり、
１つの好ましい実施形態において、ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ及びＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の組み合わせとの混合物であり、より好ましくは、ＭＩＸ−ＭはＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの混合物であり、さらにより好ましくは、ＭＩＸ−ＭはＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧの混合物であり、
別の好ましい実施形態において、ＭＩＸ−Ｍは、ＭＥＴ２と水の混合物であり、
別の好ましい実施形態において、ＭＥＴ２はそのまま使用される、方法である。

本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰ２−１及びステップＳＴＥＰ２−２を含み、
ＳＴＥＰ２−２において、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のＨ−ＡＭＩは、Ｍに交換され、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰ２−１、ＡＭＩ、Ｈ−ＡＭＩ、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物及びＭは、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ、ＳＴＥＰ２−１及びＳＴＥＰ２−２を含み、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＭＩＸ、ＳＴＥＰＥＸＴＲ、ＳＴＥＰ２−１及びＳＴＥＰ２−２は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

好ましくは、式（Ｉ）の化合物は、ＳＴＥＰ１又はＳＴＥＰＥＸＴＲから得たものがＲＥＡＣ２又はＲＥＡＣ２−１に使用され、ここでＳＴＥＰ１はＰＵＲ１を含むことができる。

好ましくは、ＭＥＴ２がＲＥＡＣ２にそのまま使用される場合、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１のような溶媒は、ＲＥＡＣ２の間中に又はＲＥＡＣ２の後に添加される。

好ましくは、ＳＴＥＰ２−２は反応ＲＥＡＣ２−２を含み、
ＲＥＡＣ２−２は、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物とＭＥＴ２との反応であり、
ＭＥＴ２は、本明細書において定義されているとおりであり、この全ての実施形態のものであり、この全ての使用形態のものである。

ＲＥＡＣ２−２の反応生成物は、式（Ｖ）の化合物である。

ｎ１が１である場合、ＭＥＴ２のモル量は、ＲＥＡＣ２では式（Ｉ）の化合物のモル量又はＲＥＡＣ２−２では式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のモル量の、好ましくは１〜１００倍、より好ましくは１〜５０倍、さらにより好ましくは１〜１０倍、とりわけ１〜５倍、さらにとりわけ１〜３倍、なおさらにとりわけ１〜２倍、特に１〜１．５倍、特に１〜１．２倍である。ＭＥＴが過剰量で使用されるか又は式（Ｉ）の化合物若しくは式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれが過剰量で使用されるかは、結局は主に収率及び費用の問題であるので、ｎ１が１である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の１倍未満である可能性もある。例えば、ｎ１が１である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の、例えば０．８５又は０．９又は０．９５倍である可能性もあり、これらの下限を記述された上限のいずれかと組み合わせることができる。

ｎ１が２である場合、ＭＥＴ２のモル量は、ＲＥＡＣ２では式（Ｉ）の化合物のモル量又はＲＥＡＣ２−２では式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のモル量の、好ましくは０．５〜５０倍、より好ましくは０．５〜２５倍、さらにより好ましくは０．５〜５倍、とりわけ０．５〜２．５倍、さらにとりわけ０．５〜１．５倍、なおさらにとりわけ０．５〜１倍である。ＭＥＴ２が過剰量で使用されるか又は式（Ｉ）の化合物若しくは式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれが過剰量で使用されるかは、結局は主に収率及び費用の問題であるので、ｎ１が２である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の０．５倍未満である可能性もある。例えば、ｎ１が２である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の、例えば０．３５又は０．４又は０．４５倍である可能性もあり、これらの下限を記述された上限のいずれかと組み合わせることができる。

ｎ１が３である場合、ＭＥＴ２のモル量は、ＲＥＡＣ２では式（Ｉ）の化合物のモル量又はＲＥＡＣ２−２では式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のモル量の、好ましくは０．３３〜３３倍、より好ましくは０．３３〜１７．３３倍、さらにより好ましくは０．３３〜３．３３倍、とりわけ０．３３〜１．７３３倍、さらにとりわけ０．３３〜１倍、なおさらにとりわけ０．３３〜０．７３３倍である。ＭＥＴが過剰量で使用されるか又は式（Ｉ）の化合物若しくは式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれが過剰量で使用されるかは、結局は主に収率及び費用の問題であるので、ｎ１が３である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の０．３３倍未満である可能性もある。例えば、ｎ１が３である場合、ＭＥＴ２の下限モル量は、式（Ｉ）の化合物又は式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のそれぞれのモル量の、例えば０．２５又は０．３倍である可能性もあり、これらの下限を記述された上限のいずれかと組み合わせることができる。

好ましくは、ＲＥＡＣ２は温度ＴＥＭＰ２−２で実施され、ＴＥＭＰ２−２は、−２０〜１００℃であり、より好ましくは−１０〜８０℃であり、さらにより好ましくは０〜６０℃であり、とりわけ１０〜６０℃であり、さらにとりわけ２０〜５０℃である。

別の好ましい実施形態において、ＲＥＡＣ２−２は、温度ＴＥＭＰ２−２で実施され、ＴＥＭＰ２−２は、−２０〜５０℃であり、より好ましくは−１０〜４０℃であり、さらにより好ましくは−５〜４０℃であり、とりわけ−４〜３０℃であり、さらにとりわけ−３〜２５℃である。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−２は周囲圧で実施され、周囲圧から１０ｂａｒ、より好ましくは周囲圧から５ｂａｒ、さらにより好ましくは周囲圧から２．５ｂａｒの圧力下でも実施されうる。

好ましくは、ＲＥＡＣ２−２の反応時間ＴＩＭＥ２−２は、０．０１秒から５時間、より好ましくは０．１秒から４時間、さらにより好ましくは０．１秒から３時間である。

別の好ましい実施形態において、ＴＩＭＥ２−２は５分間から１０時間である。

ＲＥＡＣ２−２は、バッチ式又は連続的な方法で実施することができる。好ましくは、ＲＥＡＣ２−２は連続的に実施される。例えば、ＲＥＡＣ２−２の連続装置は、抽出遠心分離機又は抽出カラムである。

好ましくは、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物は、ＲＥＡＣ２−１又はＥＸＴＲ２−１から得たもの、より好ましくはＥＸＴＲ２−１から得たものがＲＥＡＣ２−２に使用される。

ＥＸＴＲ２−１の後、好ましくはＲＥＡＣ２−２の前に、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１中の式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物の溶液をＮＨ_３と混合することができ、
式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のモル量の、好ましくは０．０００１〜１００倍、より好ましくは０．００１〜５０倍、さらにより好ましくは０．０１〜５０倍のＮＨ_３が使用され、
別の好ましい実施形態において、ＮＨ_３は、ＮＨ_３の添加後のｐＨが１〜１２、より好ましくは２〜１２、さらにより好ましくは４〜１２、とりわけ５〜１１、さらにとりわけ６〜１１であるような量で使用される。

式（Ｖ）の化合物は、当業者に周知の方法によって単離及び精製されうる。これらの方法には、抽出、蒸留、蒸発、膜補助透析蒸発若しくは膜補助濾過のような膜補助分離、さらなる結晶化又は沈殿が含まれ、任意の結晶化又は沈殿を、式（Ｖ）の化合物が不十分な溶解性しかない場合には溶媒の補助により実施することができる。

好ましくは、任意の水又は任意のＡＭＩを蒸発又は蒸留によって、除去すること又は少なくとも部分的に除去することができ、水を膜分離によって、除去及び分離すること又は少なくとも部分的に除去及び分離することもできる。

好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１のような任意の溶媒又は任意のＡＮＴＳＯＬＶ２を、蒸発又は蒸留によって、除去すること又は少なくとも部分的に除去することができる。

好ましくは、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物はＳＯＬ−Ｉ−ＡＭＩの形態でＲＥＡＣ２−２に使用される。

式（Ｖ）の化合物は、好ましくは混合物ＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２の形態でＲＥＡＣ２−２から得られ、ＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２は、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はこれらの組み合わせ中の式（Ｖ）の化合物の混合物である。

式（Ｖ）の化合物は、好ましくは溶液又は混合物ＳＯＬＣＯＭＰ５の形態でＲＥＡＣ２から得られ、ＳＯＬＣＯＭＰ５は、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、すなわちＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２又はこれらの組み合わせ中の式（Ｖ）の化合物の溶液又は混合物であり、好ましくは、ＳＯＬＣＯＭＰ５は溶液の形態を有する。

ＭＥＴ２が水溶液として、若しくは水との混合物の形態で、若しくは水酸化物の形態で使用される場合、又はＭＥＴ２が結晶水を含有する場合、２層がＲＥＡＣ２又はＲＥＡＣ２−２において形成される可能性があり、このことは、ＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２の形態の有機層及び水層の二相系が形成されうることを意味する。

好ましくは、水層は、式（Ｖ）の化合物が単離される前に、ＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２の形態の前記有機層から分離される。

水も、例えばＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１における水の溶解性に応じて、ＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２に存在する可能性がある。

ＳＯＬＶＯＲＧの性質及びＡＮＴＳＯＬＶ２の性質、すなわち、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの性質及びＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の性質は、とりわけ水との溶解性の観点において、例えば、ＭＥＴ２が水溶性として又は水との混合物として使用される場合、好ましくはＲＥＡＣ２の後又はＲＥＡＣ２−２の後に二相系が望ましい場合、ＲＥＡＣ２の後又はＲＥＡＣ２−２の後のそれぞれに好ましくは二相系を得るための、ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２及びＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の量を決定している。追加のＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２若しくはＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又は追加の水を、そのような二相系を得るため、ＲＥＡＣ２の後又はＲＥＡＣ２−２の後のそれぞれに添加することができる。

例えば、［ＭＥＴ２の水溶液又はＭＥＴ２と水の混合物］：［ＳＯＬＶＯＲＧ又はＡＮＴＳＯＬＶ２又はＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１］の重量比は、０．０５：１〜１：１であり、より好ましくは０．１：１〜０．８：１であり、さらにより好ましくは０．１：１〜０．６：１である。

例えば、水：［ＳＯＬＶＯＲＧ若しくはＡＮＴＳＯＬＶ２若しくはＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ若しくはＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１又はこれらの組み合わせ］の重量比は、０．０５：１〜１：１であり、より好ましくは０．１：１〜０．８：１であり、さらにより好ましくは０．１：１〜０．６：１である。

ＲＥＡＣ２及びＲＥＡＣ２−２のそれぞれの後に、ＳＯＬＣＯＭＰ５及びＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２のそれぞれを、水を用いた抽出によって精製することができ、これを１回又は１回を超えて実施することができる。これは、水溶性不純物を除去するために実施することができる。

原則として、ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１のような有機溶媒中の式（Ｉ）の化合物、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物又は式（Ｖ）の化合物の溶液のような、いずれかの方法において発生する物質の任意の溶液を、
水を用いた抽出によって精製することができ、これを１回若しくは１回を超えて実施することができる、又は連続的な方法により実施することができる。これは、例えば水溶性不純物を除去するために実施することができる。

ＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２からの式（Ｖ）の化合物の単離では、後者の場合、例えばＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１中の溶液からの式（Ｖ）の化合物の単離では、好ましくは任意の水及び任意のＡＭＩが、好ましくは減圧下での蒸発によって除去される。蒸発は、好ましくは蒸留の形態で実施される。好ましくは、同様に任意のＳＯＬＶＯＲＧ又は任意ＡＮＴＳＯＬＶ２又は任意のＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１が、好ましくは減圧下での蒸発によって少なくとも部分的に除去される。好ましくは、濃縮形態のＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２がこれによって得られ、後者の場合、例えばＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１中の式（Ｖ）の化合物の濃縮溶液が得られる。好ましくは前記濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５又は前記濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２中の式（Ｖ）の化合物の濃度、例えば、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１中の式（Ｖ）の化合物の前記濃縮溶液の濃度は、式（Ｖ）の化合物の３０〜５５重量％であり、より好ましくは３５〜５０重量％であり、重量％は、前記濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５又は前記濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１中の式（Ｖ）の化合物の前記濃縮溶液の総重量に基づいている。

ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１、水若しくはこれらの組み合わせ中の式（Ｉ）の化合物の溶液、
ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１、水若しくはこれらの組み合わせ中の式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物の溶液、又は
ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ、ＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１、水又はこれらの組み合わせ中の式（Ｖ）の化合物の溶液
のような任意の溶液を濾過して、不溶性不純物を除去することができる。そのような濾過は当業者に知られており、典型的なメッシュサイズは、０．１マイクロメートルから１０マイクロメートルである。

好ましくは、式（Ｖ）の化合物は、
ＳＯＬＶＯＲＧ中若しくはＡＮＴＳＯＬＶ２中、すなわちＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ中の式（Ｖ）の化合物の溶液若しくは混合物であるＳＯＬＣＯＭＰ５から、又は
ＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２から、
沈殿ＰＲＥＣＩＰ２によって沈殿される。

好ましくは、ＰＲＥＣＩＰ２の前又はＰＲＥＣＩＰ２の一部として、ＳＯＬＣＯＭＰ５又はＳＯＬＣＯＭＰ５−２−２は、ＳＯＬＶＯＲＧ、ＡＮＴＳＯＬＶ２、すなわちＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴ又はＥＸＴＲＳＯＬＶ２−１の一部を蒸留によって除去することによって好ましく濃縮される。

好ましくは、ＰＲＥＣＩＰ２は蒸留ＤＩＳＴ２若しくは結晶化ＣＲＹＳＴ２又はこの両方の組み合わせによって実施される。

好ましくは、ＰＲＥＣＩＰ２においてＡＮＴＳＯＬＶ２が添加される。

ＡＮＴＳＯＬＶ２を、例えば、ＳＯＬＣＯＭＰ５がＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｖ）の化合物の溶液又は混合物である場合、ＰＲＥＣＩＰ２に添加することができ、当然のことながら、ＡＮＴＳＯＬＶ２を、ＡＮＴＳＯＬＶ２がＳＯＬＣＯＰＭ５に既に存在している場合ＰＲＥＣＩＰ２にも添加することができ、このことは、結晶化を促進するためにＳＯＬＣＯＭＰ５に存在しうるＡＮＴＳＯＬＶ２の量によって左右されうる。

好ましくは、任意のＡＮＴＳＯＬＶ２が、ＤＩＳＴ２又はＣＲＹＳＴ２の前、間中又は後に、好ましくはＤＩＳＴ２の前若しくは間中又はＣＲＹＳＴ２の前若しくは間中に添加される。

冷却をＣＲＹＳＴ２に使用することができる。

ＰＲＥＣＩＰ２において沈殿した式（Ｖ）の化合物を濾過、洗浄及び乾燥により単離することができる。

任意の蒸留が、好ましくは７０℃以下、より好ましくは６０℃以下の温度で実施される。

任意の結晶化が、冷却することによって、好ましくは３０℃以下の温度に冷却することによって好ましく増進される。

ＰＲＥＣＩＰ２後の式（Ｖ）の化合物の濾過によって得られた任意の母液が、ＰＲＥＣＩＰ２に好ましく再利用される。

本明細書に開示されている任意の方法は、ステップＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１を含むこともでき、ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１において、好ましくはＳＴＥＰ１から得られた式（Ｉ）の化合物は、ＳＯＬＶＯＲＧに溶解して、溶液ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１をもたらし、ＳＯＬＣＯＭＰ−Ｓ１はＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｉ）の化合物の溶液であり、
ＳＴＥＰ１及びＳＯＬＶＯＲＧは、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである。

好ましくは、式（Ｉ）の化合物をＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１に溶解するのに使用されるＳＯＬＶＯＲＧの重量は、式（Ｉ）の化合物の重量の０．５〜５０倍、より好ましくは１〜２５倍、さらにより好ましくは１〜１０倍である。

本発明の別の主題は、式（Ｉ）の化合物を調製する方法であって、
ＳＴＥＰ１及びＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１を含み、
ＳＴＥＰ１及びＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１は、ＳＴＥＰ１の後に実施される。

この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸ又はＳＴＥＰＥＸＴＲを必ずしも含むとは限らず、１つの実施形態において、この方法はＳＴＥＰＭＩＸを含まず、別の実施形態において、この方法はＳＴＥＰＥＸＴＲを含まず、なお別の実施形態において、この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸを含まず、ＳＴＥＰＥＸＴＲを含まない。

本発明の別の主題は、式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１及びＳＴＥＰ２を含み、
ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１及びＳＴＥＰ２は、本明細書において定義されているとおりであり、これらの全ての実施形態のものである、方法である。

ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１は、ＳＴＥＰ１の後に実施される。

ＳＴＥＰ２は、ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１の後に実施される。

この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸ又はＳＴＥＰＥＸＴＲを必ずしも含むとは限らず、１つの実施形態において、この方法はＳＴＥＰＭＩＸを含まず、別の実施形態において、この方法はＳＴＥＰＥＸＴＲを含まず、なお別の実施形態において、この方法は、ＳＴＥＰＭＩＸを含まず、ＳＴＥＰＥＸＴＲを含まない。

ＳＴＥＰ２は、ＳＴＥＰ１の後、ＳＴＥＰＭＩＸの後、ＳＴＥＰＥＸＴＲの後又はＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１の後に実施される。

ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１を、ＳＯＬＣＯＭＰ１について本明細書に記載された方法と類似した方法で処理することができ、式（Ｉ）の化合物を、ＲＥＡＣ２におけるＳＯＬＣＯＭＰ１の使用について本明細書において記載された方法と類似した方法によって、全ての実施形態で、ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１の形態でＲＥＡＣ２に使用することができる。

したがって、ＳＯＬＣＯＭＰ１が使用される場合のいずれにおいても、ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１をＳＯＬＣＯＭＰ１の代わりに使用することができる。

式（Ｖ）の化合物の調製方法の好ましい実施形態は、好ましくは所定の順番により、好ましくはＳＴＥＰ１により得られた式（Ｉ）の化合物から出発して、以下の動作を含み、ＳＴＥＰ１は任意選択でＰＵＲ１を含む。
・ＭＩＸＷＡＴをもたらすＳＴＥＰＭＩＸ；
・ＳＯＬＣＯＭＰ１をもたらすＳＴＥＰＥＸＴＲ；
・水溶性不純物の除去のために水を用いるＳＯＬＣＯＭＰ１の、任意選択の抽出；
・ＳＯＬＣＯＭＰ５をもたらす、ＳＯＬＣＯＭＰ１のＲＥＡＣ２によるＳＴＥＰ２；
・任意の段階での、好ましくはＲＥＡＣ２の後での、好ましくは膜分離よる、水量の低減のためのＳＯＬＣＯＭＰ５からの水の任意選択の分離；
・好ましくは薄膜蒸発器を用いた蒸留又は蒸発による、ＳＯＬＶＯＲＧの一部及び存在しうる任意の水の少なくとも一部の除去による、ＳＯＬＣＯＭＰ５の任意選択の濃縮；
・不溶性不純物の除去のための、任意の段階でのＳＯＬＣＯＭＰ５、好ましくは濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５の、任意選択の濾過；
・任意選択でＡＮＴＳＯＬＶ２の添加を伴い、ＡＮＴＳＯＬＶ２の添加が好ましくは蒸留中又は蒸留の後に実施される、蒸留又は蒸発による、好ましくは冷却による、ＳＯＬＶＯＲＧの除去による任意選択の結晶化；
・濾過による任意選択の単離；

式（Ｖ）の化合物の調製方法の別の好ましい実施形態は、好ましくは所定の順番により、式（Ｉ）の化合物から出発して、好ましくはＳＴＥＰ１により得られた式（Ｉ）の化合物から出発して、以下の動作を含み、ＳＴＥＰ１は任意選択でＰＵＲ１を含む。
・ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１をもたらすＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１；
・水溶性不純物の除去のために水を用いるＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１の、任意選択の抽出；
・ＳＯＬＣＯＭＰ５をもたらす、ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１のＲＥＡＣ２によるＳＴＥＰ２；
・任意の段階での、好ましくはＲＥＡＣ２の後での、好ましくは膜分離よる、水量の低減のためのＳＯＬＣＯＭＰ５からの水の任意選択の分離；
・好ましくは薄膜蒸発器を用いた蒸留又は蒸発による、ＳＯＬＶＯＲＧの一部及び存在しうる任意の水の少なくとも一部の除去による、ＳＯＬＣＯＭＰ５の任意選択の濃縮；
・不溶性不純物の除去のための、任意の段階でのＳＯＬＣＯＭＰ５、好ましくは濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５の、任意選択の濾過；
・任意選択でＡＮＴＳＯＬＶ２の添加を伴い、ＡＮＴＳＯＬＶ２の添加が好ましくは蒸留の間中又は蒸留の後に実施される、蒸留又は蒸発による、好ましくは冷却による、ＳＯＬＶＯＲＧの除去による任意選択の結晶化；
・濾過による任意選択の単離；

式（Ｖ）の化合物の調製方法の別の好ましい実施形態は、好ましくは所定の順番により、式（Ｉ）の化合物から出発して、好ましくはＳＴＥＰ１により調製された式（Ｉ）の化合物から出発して、以下の動作を含み、ＳＴＥＰ１は任意選択でＰＵＲ１を含む。
・ＭＥＴ２がＭＩＸ−Ｍの形態又はそのままで使用され、ＭＩＸ−ＭがＭＥＴ２とＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの混合物であり、好ましくはＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴがＳＯＬＶＯＲＧであり、ＭＥＴ２がＲＥＡＣ２にそのまま使用される場合、好ましくは、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴのような溶媒がＲＥＡＣ２の間中又は後に添加される、ＳＯＬＣＯＭＰ５をもたらすＳＴＥＰ２；
・水溶性不純物の除去のために水を用いる、ＳＯＬＣＯＭＰ５の任意選択の抽出。
・好ましくは膜分離よる、水量の低減のためのＳＯＬＣＯＭＰ５からの水の任意選択の分離；
・好ましくは薄膜蒸発器を用いた蒸留又は蒸発による、好ましくはＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの少なくとも一部及び存在しうる任意の水の少なくとも一部の除去による、ＳＯＬＣＯＭＰ５の任意選択の濃縮；
・不溶性不純物の除去のための、任意の段階でのＳＯＬＣＯＭＰ５、好ましくは濃縮ＳＯＬＣＯＭＰ５の、任意選択の濾過；
・任意選択でＡＮＴＳＯＬＶ２の添加を伴い、ＡＮＴＳＯＬＶ２の添加が好ましくは蒸留若しくは蒸発中又は蒸留若しくは蒸発の後に実施される、蒸留又は蒸発による、好ましくは冷却による、ＳＯＬＶＯＲＧＡＮＴの除去による任意選択の結晶化；
・濾過による任意選択の単離；

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１は圧力ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１で実施される。

好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は少なくとも周囲圧力であり、より好ましくは少なくとも２ｂａｒであり、さらにより好ましくは少なくとも５ｂａｒであり、大いにさらにより好ましくは少なくとも１０ｂａｒであり、はなはださらにより好ましくは少なくとも２０ｂａｒであり、とりわけ少なくとも３０ｂａｒである、さらにとりわけ少なくとも４０ｂａｒであり、なおさらにとりわけ少なくとも４５ｂａｒであり、大いになおさらにとりわけ少なくとも５０ｂａｒであり、はなはだなおさらにとりわけ少なくとも５５ｂａｒであり、特に少なくとも６０ｂａｒであり、さらに特に少なくとも６５ｂａｒであり、なおさらに特に少なくとも７０ｂａｒであり、大いになおさらに特に少なくとも７５ｂａｒである、はなはだなおさらに特に少なくとも８０ｂａｒである。

圧力の上限は、装置により、並びに圧力を提供する及び／又は圧力に耐えるこれらの能力によって主に決定される。純粋にそのような考慮から、本発明を制限することなく、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、好ましくは１０００ｂａｒまで、より好ましくは７５０ｂａｒまで、さらにより好ましくは６００ｂａｒまで、とりわけ５００ｂａｒまでである。

ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の任意の下限を、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の任意の上限と組み合わせることができ、
好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は周囲圧から１０００ｂａｒ、より好ましくは２〜１０００ｂａｒ、さらにより好ましくは５〜１０００ｂａｒ、大いにさらにより好ましくは１０〜１０００ｂａｒ、はなはださらにより好ましくは２０〜１０００ｂａｒ、とりわけ３０〜１０００ｂａｒ、さらにとりわけ４０〜１０００ｂａｒ、なおさらにとりわけ４５〜１０００ｂａｒ、大いになおさらにとりわけ５０〜１０００ｂａｒ、特に５５〜１０００ｂａｒ、さらに特に６０〜１０００ｂａｒ、なおさらに特に６５〜１０００ｂａｒ、大いになおさらに特に７０〜７５０ｂａｒ、はなはださらに特に７５〜６００ｂａｒ、はるかになおさらに特に８０〜５００ｂａｒである。

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１は温度ＴＥＭＰ１−１で実施される。

好ましくは、ＴＥＭＰ１−１は、少なくとも８０℃であり、より好ましくは少なくとも９０℃であり、さらにより好ましくは少なくとも１００℃であり、とりわけ少なくとも１１０℃であり、さらにとりわけ少なくとも１２０℃であり、なおさらにとりわけ少なくとも１２５℃であり、特に１３０℃であり、さらに特に少なくとも１３５℃であり、なおさらに特に少なくとも１４０℃であり、大いになおさらに特に少なくとも１４５℃であり、はなはだなおさらに特に少なくとも１５０℃であり、はるかになおさらに特に少なくとも１５５℃であり、大いにはるかになおさらに特に少なくとも１６０℃である。

温度の上限は、高温での構成成分の滞留時間によって主に決定され、滞留時間が短いほど、温度が高くなり、また、選択された装置材料の高温での腐食に対する抵抗性も高くなりうる。純粋にそのような考慮から、本発明を制限することなく、ＴＥＭＰ１−１は、好ましくは３００℃まで、より好ましくは２９０℃まで、さらにより好ましくは２８０℃まで、とりわけ２７０℃まで、さらにとりわけ２６０℃まで、なおさらにとりわけ２５０℃まで、特に２４０℃まで、さらに特に２３０℃まででありうる。

好ましくは、ＴＥＭＰ１−１は８０〜３００℃、より好ましくは９０〜３００℃、１００〜３００℃、さらにより好ましくは１１０〜２９０℃、とりわけ１２０〜２８０℃、さらにとりわけ１３０〜２８０℃、なおさらにとりわけ１３０〜２８０℃、特に１４０〜２８０℃、さらに特に１４５〜２８０℃、なおさらに特に１５０〜２５０℃、大いになおさらに特に１５０〜２３０℃、はなはだなおさらに特に１５５〜２３０℃である。

ＴＥＭＰ１−１の所定の最小点、最大点及び／又は範囲のいずれかを、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の所定の最小点、最大点及び／又は範囲のいずれかと組み合わせることできる。

好ましくは、式（ＩＩ）の化合物及びＨＦの混合物は、装置ＤＥＶＩＣＥ１−１においてＴＥＭＰ１−１に加熱され、ＲＥＡＣ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１において実施される。

好ましくは、ＴＩＭＥ１−１は混合物が、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１において加熱に、好ましくはＴＥＭＰ１−１に曝露される時間である。ＴＩＭＥ１−１の間中に、ＲＥＡＣ１−１が実施される。したがってＴＩＭＥ１−１は、好ましくは滞留時間であり、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１における混合物の滞留時間である。

好ましくは、ＴＩＭＥ１−１は、１分間から２時間、より好ましくは２分間から１．５時間、さらにより好ましくは５分間から１時間、とりわけ５分間から３０分間である。

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間中に選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物が少なくとも８０％の収率で生成され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間中に選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物がより高い収率で生成され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、ＲＥＡＣ１−１の間中に選択的に除去されない。

別の好ましい実施形態では、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物が少なくとも８０％の収率で生成され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは、選択的に除去されず、式（Ｉ）の化合物がより高い収率で生成され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１において生成されるＨＣｌは選択的に除去されない。

好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、２〜４０倍、より好ましくは２〜２０倍、さらにより好ましくは２〜１２．５倍、とりわけ２〜１０倍、さらにとりわけ２〜５倍、なおさらにとりわけ２〜４倍、特に２〜３倍、さらに特に２〜２．５倍である。

原則として、ＨＦを準化学量論量で使用すること、すなわち、式（ＩＩ）の化合物のモル量に対して２当量未満で使用することも可能である。当然のことながら、そのような場合では、収率は式（ＩＩ）の化合物に対して低くなる。しかし、この実施形態も本明細書に含まれる。したがって、また好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、０．１〜４０倍、より好ましくは０．２〜４０倍、さらにより好ましくは０．５〜４０倍、とりわけ１〜４０倍、さらにとりわけ１．５〜４０倍、なおさらにとりわけ１．７５〜４０倍である。

好ましくは、残基Ｘ１及びＸ２のうちの少なくとも一方は、Ｃｌ又はＢｒであり、より好ましくはＣｌである。

好ましくは、ＨＦの量の下限ＬＯＷＬＩＭＩＴは、残基Ｘ１及びＸ２のうちの一方のみがＣｌ、Ｂｒ又はＩである場合、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて１当量であり、
ＬＯＷＬＩＭＩＴは、両方の残基Ｘ１及びＸ２が同一であり又は異なり、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群から選択される場合、２当量である。

好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、ＬＯＷＬＩＭＩＴから４０倍、より好ましくはＬＯＷＬＩＭＩＴから２０倍、さらにより好ましくはＬＯＷＬＩＭＩＴから１２．５倍、とりわけＬＯＷＬＩＭＩＴから１０倍、さらにとりわけＬＯＷＬＩＭＩＴから５倍、なおさらにとりわけＬＯＷＬＩＭＩＴから４倍、特にＬＯＷＬＩＭＩＴから３倍、さらに特にＬＯＷＬＩＭＩＴから２．５倍である。

原則として、ＨＦを準化学量論量で使用すること、すなわち、式（ＩＩ）の化合物のモル量に対してＬＯＷＬＩＭＩＴ未満で使用することも可能である。当然のことながら、そのような場合では、収率は式（ＩＩ）の化合物に対して低くなる。しかし、この実施形態も本明細書に含まれる。したがって、また好ましくは、ＨＦのモル量は、式（ＩＩ）の化合物のモル量に基づいて、ＬＯＷＬＩＭＩＴの０．１〜４０倍、より好ましくは０．２〜４０倍、さらにより好ましくは０．５〜４０倍、とりわけ１〜４０倍、さらにとりわけ１．５〜４０倍、なおさらにとりわけ１．７５〜４０倍である。

これらの下限範囲のいずれかを、本明細書に提示されている上限範囲のいずれかと組み合わせることができ、その逆も同じである。

好ましい実施形態において、ＳＴＥＰ１は、２つの連続したステップ、ステップＳＴＥＰ１−１及びステップＳＴＥＰ１−３を含み、
ＳＴＥＰ１−１において、ＭＩＸＴＵＲＥ１−１は式（ＩＩ）の化合物とＨＦの混合物であり、混合物ＭＩＸＴＵＲＥ１−１は装置ＤＥＶＩＣＥ１−１においてＴＥＭＰ１−１に加熱され、ＲＥＡＣ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１において実施されて、反応混合物が得られ、
ＳＴＥＰ１−３において、ＤＥＶＩＣＥ１−１の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ１−３を通過し、ＤＥＶＩＣＥ１−３は背圧制御するための装置である。

好ましくは、ＳＴＥＰ１は第３のステップであるステップＳＴＥＰ１−２を含み、ＳＴＥＰ２−１はＳＴＥＰ１−３の前又は後に実施され、好ましくはＳＴＥＰ１−１とＳＴＥＰ１−３の間に実施され、ＳＴＥＰ１−２において、ＤＥＶＩＣＥ１−１の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ１−２を通過し、ＤＥＶＩＣＥ１−２は反応混合物を冷却するための装置である。

好ましくは、反応混合物は反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ１−２若しくはＤＥＶＩＣＥ１−３又はＤＥＶＩＣＥ１−２とＤＥＶＩＣＥ１−３の組み合わせの効果によって冷却される。

ＤＥＶＩＣＥ１−１、ＤＥＶＩＣＥ１−２及びＤＥＶＩＣＥ１−３は、連続作動装置である。

時間ＴＩＭＥ１−２は、反応混合物が好ましくは温度ＴＥＭＰ１−２に冷却される時間である。好ましくは、冷却はＤＥＶＩＣＥ１−２の作用、ＤＥＶＩＣＥ１−３の作用又はＤＥＶＩＣＥ１−２とＤＥＶＩＣＥ１−３の作用によって実施されうる。したがってＴＩＭＥ１−２は、好ましくは滞留時間であり、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２及び／又はＤＥＶＩＣＥ１−３における反応混合物の滞留時間である。

好ましくは、ＴＩＭＥ１−２は０．１秒から２時間、より好ましくは０．５秒から１時間、さらにより好ましくは１秒から３０分間、とりわけ１０秒間から３０分間、さらにとりわけ２５秒間から２５分間、なおさらにとりわけ１分間から２５分間である。

ＳＴＥＰ１−２における冷却は、ＴＥＭＰ１−２で好ましく実施され、好ましくは、ＴＥＭＰ１−２は０〜１５０℃であり、より好ましくは１０〜１００℃であり、さらにより好ましくは１０〜５０℃であり、とりわけ１５〜４０℃であり、さらにとりわけ１５〜３０℃である。

好ましくは、方法はステップＳＴＥＰ１−４をさらに含み、ＳＴＥＰ１−４は、ＳＴＥＰ１−３の後に実施され、ＳＴＥＰ１−４において、ＤＥＶＩＣＥ１−３の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ１−４を通過し、ＤＥＶＩＣＥ１−４は、反応混合物中の液体構成成分から気体構成成分を分離するための装置である。

ＲＥＡＣ１−１の副産物は、ＨＣｌである。

好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ１−１がＤＥＶＩＣＥ１−１に供給され、ＤＥＶＩＣＥ１−１を通過する間中に、最初に供給されたＭＩＸＴＵＲＥ１−１は、ＲＥＡＣ１−１によって反応混合物に徐々に転化される。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１はチューブ、マイクロリアクター、シェル及びチューブ熱交換器、プレート熱交換器、並びにその目的が液体から熱を交換することである任意の一般的な装置からなる群から選択され、
より好ましくは、チューブであり、
さらにより好ましくは、コイルチューブである。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−２はチューブ、マイクロリアクター、シェル及びチューブ熱交換器、プレート熱交換器、並びにその目的が反応混合物から熱を交換することである任意の一般的な装置からなる群から選択され、
より好ましくは、チューブであり、
さらにより好ましくは、コイルチューブである。

とりわけ、ＤＥＶＩＣＥ１−１及びＤＥＶＩＣＥ１−２はコイルチューブである。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−３は従来の背圧制御装置である。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−４は液体から気体構成成分を分離することができる装置であり、この目的に適した任意の既知の装置をこの目的に使用することができ、より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−４は容器、カラム又はサイクロンである。

好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１における加熱は、任意の既知の方法により実施することができ、好ましくは、電気加熱又は流体熱担体を用いる加熱によって実施される。

好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却は、任意の既知の方法により実施することができ、好ましくは、流体冷却媒体によって実施される。

方法が実施される反応の規模、したがって装置の規模に応じて、反応混合物の冷却は、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ１−２の効果のみならず、すなわち、反応混合物がＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間中のみならず、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ１−３の追加的な効果によっても実施され、すなわち、ＤＥＶＩＣＥ１−３を通過することも冷却に寄与している。このことは、反応の規模が割合小さい場合、例えば、方法が実験室規模で実施される場合にとりわけ当てはまるが、一方、方法が生産規模で実施される場合では、冷却は、通常ＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間中に主に実施される。

別の実施形態において、とりわけ生産規模では、冷却をＤＥＶＩＣＥ１−３において作用を受ける膨張及び圧力解放によって達成することもできる。

ＤＥＶＩＣＥ１−２を通過する間中の冷却と、ＤＥＶＩＣＥ１−３において効果を受けた膨張による冷却との組み合わせも、可能である。

したがって、記載がＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却を参照する場合、この参照は、ＤＥＶＩＣＥ１−３における冷却、並びに両方の装置ＤＥＶＩＣＥ１−２及びＤＥＶＩＣＥ１−３における冷却も含む。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１における加熱及びＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却は、チューブ中チューブ（ｔｕｂｅ−ｉｎ−ｔｕｂｅ）設定の形態、容器中チューブ（ｔｕｂｅ−ｉｎ−ｃｏｎｔａｉｎｅｒ）設定の形態、シェル及びチューブ熱交換器の形態、プレート熱交換器の形態又は目的が混合物若しくは反応混合物から熱を交換することである任意の一般的な装置によって実現され、
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１における加熱及びＤＥＶＩＣＥ１−２における冷却は、チューブ中チューブ設定の形態又は容器中チューブ設定の形態によって実現される。

ＲＥＡＣ１−１は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１中の混合物をＴＥＭＰ１−１に加熱することによって、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−１において誘発される。

ＤＥＶＩＣＥ１−１における、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−２におけるＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、ＤＥＶＩＣＥ１−３によって制御及び維持される。

ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物を、プレミックス混合物としてＤＥＶＩＣＥ１−１に供給することができ、又はＤＥＶＩＣＥ１−１に別々に供給することができ、ＤＥＶＩＣＥ１−１において混合される。

事前に又はＤＥＶＩＣＥ１−１においてＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物を混合する目的で、任意の適切な混合設備を使用することができ、混合設備は、一般的な分岐継手のもの、例えばＴ若しくはＹ字管、又は静止混合装置のような最新技術のものであることが知られている。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１におけるＴＥＭＰ１−１への加熱は、ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物の両方がＤＥＶＩＣＥ１−１に存在するときだけ実施される。

ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物の供給は、別々であっても、混合物の形態であっても、ＤＥＶＩＣＥ１−０によって実施される。

ＤＥＶＩＣＥ１−０は、ポンプのような、圧力によって流体を運搬することに従来使用される加圧装置である。ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物がＤＥＶＩＣＥ１−１に別々に供給される場合、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−０はそれぞれの構成成分試薬に対応する装置を有し、装置ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦは、ＨＦを運搬し、装置ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩは式（ＩＩ）の化合物を運搬する。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−１及びＤＥＶＩＣＥ１−２は、動作中、互いに永久流体接続しており、両方ともＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１下にある。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ１−０はＲＥＡＣ１−１をＴＥＭＰ１−１で実施するために必要なＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１を、ＤＥＶＩＣＥ１−１において、及びＤＥＶＩＣＥ１−３に対してＤＥＶＩＣＥ１−２において増大させる装置である。

より好ましくは、ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物はプレミックスされ、次にＤＥＶＩＣＥ１−１に供給される。

ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、選択されたＴＥＭＰ１−１での蒸気圧のために必要な圧力である可能性があり、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、蒸気圧より高い可能性もある。蒸気圧より高いＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１を選択するために考慮することは、例えば、ＤＥＶＩＣＥ１−０の要件でありうる。とりわけ、ＲＥＡＣ１−１が連続的に実施される場合、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、蒸気圧より高くなるように通常選択及び設定される。

ＤＥＶＩＣＥ１−１及び任意のＤＥＶＩＣＥ１−２がチューブの場合、とりわけコイルチューブの場合、構造的制限に起因して又は密度変動などに起因して、熱点又は冷点がこれらを回避する努力にもかかわらず発生しうる。したがって、本明細書に記述されているいずれの温度も、可能性のある熱点又は冷点の観点から平均温度であることが意図される。

従来の背圧制御装置は、ＤＥＶＩＣＥ１−３に使用することができ、非連続的に作動し、すなわち、交互に開放及び閉鎖することによって、圧力を保持しながら生成物流を放出する。このことは、当然のことながら圧力の変動を引き起こす。これらの可能性のあるＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１の変動の観点から、本明細書に記述されているいずれの圧力も、平均圧力であることが意図される。

ＨＦ及び式（ＩＩ）の化合物の混合物と接触する、並びにＲＥＡＣ１−１から得られる反応混合物と接触する全ての部分は、対応する条件下で化学薬品の攻撃に耐性のある対応する材料から作製されており、すなわち、ステンレス鋼、ハステロイＢ又はハステロイＣのようなハステロイ、チタン、タンタル、炭化ケイ素、窒化ケイ素などであり、これらはまた、ＰＴＦＥのような化学薬品に対して不活性な材料で不動化又は裏打ちされうる。

式（Ｉ）の化合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−３から使用することができる。

好ましくは、あらゆる気体構成成分が式（Ｉ）の化合物から分離される。この分離は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−４において実施される。したがって、式（Ｉ）の化合物は、続く任意の反応のために、好ましくはさらに精製することなくＤＥＶＩＣＥ１−３又はＤＥＶＩＣＥ１−４から使用することができる。ＤＥＶＩＣＥ１−３又はＤＥＶＩＣＥ１−４の生成物をさらに精製に付すことができ、好ましくはＤＥＶＩＣＥ１−３又はＤＥＶＩＣＥ１−４から得た液相は、残留した任意の低沸騰残留物を除去することによりさらに精製され、好ましくは、このことはフィルム蒸発器、ワイプフィルム蒸発器、落下フィルム蒸発、蒸留、精留、フラッシュ蒸留又は単経路蒸留を使用して、より好ましくはワイプフィルム蒸発器を使用して実施される。

式（ＩＩ）の化合物は既知の化合物であり、既知の方法によって調製されうる。

式（ＩＩ）の化合物を、例えば、蒸留又は蒸発及び任意の他の既知の方法により精製された精製形態で使用することができる。

ＲＥＡＣ１−１においてＨＦと反応する式（ＩＩ）の化合物を、混合物ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの形態又は混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの形態でＲＥＡＣ１−１に使用することもでき、これによって式（ＩＩＩ）の化合物がＲＥＡＣ１−１の開始時に存在することになる。

ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩは、式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物との混合物である。

好ましくは、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩにおける式（ＩＩＩ）の化合物の量は、少なくとも０．５％、より好ましくは少なくとも０．７５％、さらにより好ましくは少なくとも１％、とりわけ少なくとも２％、さらにとりわけ少なくとも３％、なおさらにとりわけ少なくとも４％であり、％は重量％であり、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの総重量に基づいている。

好ましくは、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩは、５０％以下、より好ましくは２５％以下、さらにより好ましくは１５％以下、とりわけ１２．５％以下、さらにとりわけ１０％以下の式（ＩＩＩ）の化合物を含有し、％は重量％であり、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの総重量に基づいている。

下限のうちのいずれかを、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩにおける式（ＩＩＩ）の化合物の量の上限のうちのいずれかと組み合わせることができる。

好ましくは、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩにおける２つの構成成分の総含有量は、５０〜１００％、より好ましくは７５〜１００％、さらにより好ましくは９０〜１００％、とりわけ９５〜１００％、さらにとりわけ９７．５〜１００％、なおさらにとりわけ９８〜１００％であり、％は、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの総重量に基づいた重量％である。

ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の３つの構成成分を、
式（ＩＩ）の化合物が２〜１００％、
式（ＩＩＩ）の化合物が４９〜０％及び
式（ＩＶ）の化合物が４９〜０％の相対比で含み、

Ｘ２は、本明細書において定義されているとおりであり、この全ての実施形態のものであり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｃｕ^２＋、Ａｌ^３＋、Ｔｉ^３＋、Ｆｅ^２＋、Ｆｅ^３＋、Ｂ^３＋、

［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋及び［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−８アルキル、Ｃ_５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１、２又は３であり、
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥにおけるこの３つの構成成分を組み合わせた重量に基づいており、この３つの構成成分の相対比は、合計で１００％になる。

表現「ＸはＸ１又はＸ２と同一である」は、Ｘが式（ＩＩＩ）の化合物由来であること、すなわちＸがＸ１であること、又はＸが式（ＩＶ）の化合物由来であること、すなわちＸがＸ２であることを意味する。

好ましくはＸがＦではない場合、ＸはＸ２と同一であり、すなわち、Ｘは式（ＩＶ）の化合物由来である。

好ましくは、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｃｕ^２＋、Ａｌ^３＋、Ｔｉ^３＋、Ｆｅ^２＋、Ｆｅ^３＋、Ｂ^３＋、

［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋及び［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−８アルキル、Ｃ_５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１、２又は３である。

より好ましくは、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｌ^３＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１、２又は３である。

さらにより好ましくは、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ及びＣ_１−４アルキルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１である。

とりわけ、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−４アルキルであり、
ｎは、１である。

さらにとりわけ、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋及びＮａ^＋からなる群から選択され、
ｎは、１である。

なおさらにとりわけ、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋あり、
ｎは、１である。

好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｃｕ^２＋、Ａｌ^３＋、Ｔｉ^３＋、Ｆｅ^２＋、Ｆｅ^３＋、Ｂ^３＋、

［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋及び［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−８アルキル、Ｃ_５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１、２又は３である。

より好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−６ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ａｌ^３＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−４アルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１、２又は３である。

さらにより好ましくは、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−４ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、Ｈ及びＣ_１−４アルキルからなる群から互いに独立して選択され、
ｎは、１である。

とりわけ、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、Ｃｌ及びＲＥＳＦからなる群から互いに独立して選択され、ＲＥＳＦは好ましくはＣ_１−２ペルフルオロアルキルであり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、

及び［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣ_１−４アルキルであり、
ｎは、１である。

さらにとりわけ、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣｌ又はＣＦ_３であり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋及びＮａ^＋からなる群から選択され、
ｎは、１である。

なおさらにとりわけ、
Ｘ１及びＸ２は、同一であり又は異なり、互いに独立してＣｌ又はＣＦ_３であり、
Ｒ^ｎ＋は、Ｈ^＋あり、
ｎは、１である。

式（ＩＶ）の化合物の特定の実施形態は、クロロスルホン酸及びトリフルオロメチルスルホン酸である。

１つの特定の実施形態において、
式（Ｉ）の化合物は、式（１）の化合物であり、
式（ＩＩ）の化合物は、式（２）の化合物であり、
式（ＩＩＩ）の化合物は、式（３）の化合物であり、
式（ＩＶ）の化合物は、クロロスルホン酸であり、
すなわち、Ｘ、Ｘ１及びＸ２はＣｌであり、Ｒ^ｎ＋はＨ^＋であり、ｎは１である。

別の特定の実施形態において、
式（Ｉ）の化合物は、式（１−ＣＦ３）の化合物であり、
式（ＩＩ）の化合物は、式（２−ＣＦ３）の化合物であり、
式（ＩＩＩ）の化合物は、式（３）の化合物であり、
式（ＩＶ）の化合物は、トリフルオロメチルスルホン酸であり、
すなわち、Ｘ１はＣｌであり、Ｒ^ｎ＋はＨ^＋であり、Ｘ及びＸ２はＣＦ_３であり、ｎは１である。

好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の３つの構成成分を含む。

別の好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の化合物を含むが、式（ＩＩＩ）の化合物又は式（ＩＶ）の化合物を含まず、少なくとも必須の量では含まない。これは、例えば、式（ＩＩＩ）の化合物が、例えば蒸留又は蒸発などにより精製された精製形態で使用される場合に当てはまる。

別の好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の化合物から本質的になる。

別の好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の化合物、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の３つの構成成分から本質的になる。

別の好ましい実施形態において、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの３つの構成成分の相対比は、
式（ＩＩ）の化合物が２〜１００％、
式（ＩＩＩ）の化合物が４９〜０％及び
式（ＩＶ）の化合物が４９〜０％の相対比で含み、
より好ましくは、
式（ＩＩ）の化合物が２〜９９％、
式（ＩＩＩ）の化合物が４９〜０．５％及び
式（ＩＶ）の化合物が４９〜０．５％の相対比で含み、
さらにより好ましくは、
式（ＩＩ）の化合物が２〜９８％、
式（ＩＩＩ）の化合物が４９〜１％及び
式（ＩＶ）の化合物が４９〜１％の相対比で含み、
とりわけ、
式（ＩＩ）の化合物が２〜９６％、
式（ＩＩＩ）の化合物が４９〜２％及び
式（ＩＶ）の化合物が４９〜２％の相対比で含み、
さらにとりわけ、
式（ＩＩ）の化合物が５０〜９６％、
式（ＩＩＩ）の化合物が２５〜２％及び
式（ＩＶ）の化合物が２５〜２％の相対比で含み、
なおさらにとりわけ、
式（ＩＩ）の化合物が７０〜９６％、
式（ＩＩＩ）の化合物が１５〜２％及び
式（ＩＶ）の化合物が１５〜２％の相対比で含み、
特に、
式（ＩＩ）の化合物が７５〜９６％、
式（ＩＩＩ）の化合物が１２．５〜２％及び
式（ＩＶ）の化合物が１２．５〜２％の相対比で含み、
さらに特に、
式（ＩＩ）の化合物が７５〜９４％、
式（ＩＩＩ）の化合物が１２．５〜３％及び
式（ＩＶ）の化合物が１２．５〜３％の相対比で含み、
なおさらに特に、
式（ＩＩ）の化合物が７５〜９２％、
式（ＩＩＩ）の化合物が１２．５〜４％及び
式（ＩＶ）の化合物が１２．５〜４％の相対比で含み、
％は重量％であり、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥにおける３つの構成成分を組み合わせた重量に基づいており、３つの構成成分の相対比は、合計で１００％になる。

好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥにおける３つの構成成分の総含有量は、５０〜１００％、より好ましくは７５〜１００％、さらにより好ましくは９０〜１００％、とりわけ９５〜１００％、さらにとりわけ９７．５〜１００％、なおさらにとりわけ９８〜１００％であり、％は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づいた重量％である。

好ましくは、ＲＥＡＣ１−１においてＨＦと反応する式（ＩＩ）の化合物は、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの形態又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの形態でＲＥＡＣ１−１に使用される。

好ましくは、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、ステップＳＴＥＰ０において調製され、
ＳＴＥＰ０は、反応ＲＥＡＣ０−１を含み、
ＲＥＡＣ０−１は、式（ＩＩＩ）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応である。ＳＴＥＰ０は、ＳＴＥＰ１の前に実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１における式（ＩＶ）の化合物のモル量は、式（ＩＩＩ）の化合物のモル量の０．５〜１．５倍、より好ましくは０．７５〜１．２５倍、さらにより好ましくは０．８５〜１．１５倍である。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は温度ＴＥＭＰ０−１で実施され、ＴＥＭＰ０−１は、１８０〜３００℃であり、より好ましくは１９０〜２８０℃であり、さらにより好ましくは２００〜２６０℃であり、とりわけ２１０〜２５５℃であり、さらにとりわけ２２０〜２５５℃である。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は時間ＴＩＭＥ０−１で実施され、ＴＩＭＥ０−１は０．５秒から４時間、より好ましくは１秒から２時間、さらにより好ましくは１分間から１時間、とりわけ２分間から３０分間、さらにとりわけ２分間から２０分間、なおさらにとりわけ３分間から１７分間である。

ＲＥＡＣ０−１は圧力ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１で実施され、好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は１０〜１０００ｂａｒ、より好ましくは２０〜６００ｂａｒ、さらにより好ましくは５０〜５００ｂａｒ、とりわけ６０〜４００ｂａｒ、さらにとりわけ６５〜３００ｂａｒ、なおさらに６５〜２００ｂａｒ、特に６５〜１５０ｂａｒである。好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は連続的な方法で実施される。

好ましい実施態様において、ＳＴＥＰ０は、１つのステップ、ステップＳＴＥＰ０−１を含み、
ＳＴＥＰ０−１は、反応ＲＥＡＣ０−１を含み、
ＳＴＥＰ０−１において、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の混合物ＭＩＸＴＵＲＥ０−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−１においてＴＥＭＰ０−１に加熱され、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１において実施されて、反応混合物が得られる。

別のより好ましい実施形態において、ＳＴＥＰ０は別のステップＳＴＥＰ０−３を含み、
ＳＴＥＰ０−３は、ＳＴＥＰ０−１の後に実施され、
ＳＴＥＰ０−３において、ＤＥＶＩＣＥ０−１の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ０−３を通過し、ＤＥＶＩＣＥ０−３は背圧制御するための装置である。

別のより好ましい実施形態において、ＳＴＥＰ０は別のステップＳＴＥＰ０−２を含み、
ＳＴＥＰ０−２は、ＳＴＥＰ０−１の後又はＳＴＥＰ０−３の後に実施され、
ＳＴＥＰ０−２において、ＤＥＶＩＣＥ０−１又はＤＥＶＩＣＥ０−３の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ０−２を通過し、ＤＥＶＩＣＥ０−２は反応混合物を冷却するための装置である。

別の好ましい実施形態において、ＳＴＥＰ０は、ＳＴＥＰ０−１、ＳＴＥＰ０−２及びＳＴＥＰ０−３の３つのステップを全て含み、
好ましくは、ＳＴＥＰ０−２は、ＳＴＥＰ０−１の後及びＳＴＥＰ０−３の前に実施される。

好ましくは、反応混合物は、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ０−２若しくはＤＥＶＩＣＥ０−３又はＤＥＶＩＣＥ０−２とＤＥＶＩＣＥ０−３の組み合わせの効果によって冷却される。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２及びＤＥＶＩＣＥ０−３は、連続作動装置である。

好ましくは、方法は別のステップＳＴＥＰ０−４を含み、ＳＴＥＰ０−４は、ＳＴＥＰ０−３の後に実施され、ＳＴＥＰ０−４において、ＤＥＶＩＣＥ０−３の反応混合物は装置ＤＥＶＩＣＥ０−４を通過し、ＤＥＶＩＣＥ０−４は、反応混合物からＣＯ_２を分離するための装置である。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は管型反応器において実施される
好ましくは、ＭＩＸＴＵＲＥ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１に供給され、ＤＥＶＩＣＥ０−１を通過する間中に、最初に供給されたＭＩＸＴＵＲＥ０−１は、ＲＥＡＣ０−１によって反応混合物に徐々に転化される。

ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２、ＤＥＶＩＣＥ０−３又はＤＥＶＩＣＥ０−４の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥでありうる。

ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ及びＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、既知の方法により、例えば３つの構成成分を混合することによって調製されうる。

対応する２又は３つの構成成分の他に、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥにおける他の構成成分は、例えば溶媒であり、ＲＥＡＣ０−１は、そのような溶媒の存在下で実施することができる。そのような溶媒は、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ及びＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥのそれぞれの２又は３つの構成成分に対して、好ましくはＨＦに対しても不活性な任意の溶媒でありうる。そのような溶媒の例は、ＵＳ２０１５／０２４６８１２Ａ１に開示されている。

有機溶媒として、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、プロピオニトリル、イソブチロニトリル、グルタロニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチルテトラヒドロフラン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、ジエチルイソプロピルアミン、ピリジン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン及びジエチルイソプロピルホスフィン、好ましくは、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセトニトリル、ジオキサン、テトラヒドロフラン及びメチルテトラヒドロフランのような、エステル、ニトリル若しくはジニトリル、エーテル若しくはジエーテル、アミン又はホスフィンが特に挙げられる。

ＲＥＡＣ１−１も、そのような溶媒の存在下で実施することができる。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、有機溶媒の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、窒素を含有する有機塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、窒素を含有する有機塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、有機塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、有機塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、塩基の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、塩基の塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１若しくはＲＥＡＣ１−１又はその両方は、金属塩の不在下で実施される。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２、ＤＥＶＩＣＥ０−３又はＤＥＶＩＣＥ０−４の反応混合物は、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥである。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１は、チューブ、マイクロリアクター、シェル及びチューブ熱交換器、プレート熱交換器、並びにその目的が混合物から熱を交換することである任意の一般的な装置からなる群から選択され、
より好ましくは、チューブであり、
さらにより好ましくは、コイルチューブである。

好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−２は、チューブ、マイクロリアクター、シェル及びチューブ熱交換器、プレート熱交換器、並びにその目的が反応混合物から熱を交換することである任意の一般的な装置からなる群から選択され、
より好ましくは、チューブであり、
さらにより好ましくは、コイルチューブである。

とりわけ、ＤＥＶＩＣＥ０−１及びＤＥＶＩＣＥ０−２はコイルチューブである。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−３は従来の背圧制御装置である。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４は液体から気体ＣＯ_２を分離することができる装置であり、この目的に適した任意の既知の装置をこの目的に使用することができ、より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４は、カラム、サイクロン又は容器である。

好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−１における加熱は、任意の既知の方法により実施することができ、好ましくは、電気加熱又は流体熱担体を用いる加熱によって実施される。

ＤＥＶＩＣＥ０−２における冷却は、任意の既知の方法により実施することができ、好ましくは、流体冷却媒体によって実施される。

方法が実施される反応の規模、したがって装置の規模に応じて、反応混合物の冷却は、反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ０−２の効果により、すなわち、反応混合物がＤＥＶＩＣＥ０−２を通過する間中に実施されうる、又は反応混合物に対するＤＥＶＩＣＥ０−３の効果によって実施されうる、すなわち、ＤＥＶＩＣＥ０−３を通過することも冷却に寄与している。このことは、反応の規模が割合小さい場合、例えば、方法が実験室規模で実施される場合にとりわけ当てはまるが、一方、方法が生産規模で実施される場合では、冷却は、通常ＤＥＶＩＣＥ０−２を通過する間中に主に実施される。

別の実施形態において、とりわけ生産規模では、冷却をＤＥＶＩＣＥ０−３において作用を受ける膨張及び圧力解放によって達成することもできる。

ＤＥＶＩＣＥ０−２を通過する間中の冷却と、ＤＥＶＩＣＥ０−３において作用を受けた膨張による冷却との組み合わせも、可能である。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１における加熱及びＤＥＶＩＣＥ０−２における冷却は、チューブ中チューブ設定の形態、容器中チューブ設定の形態、シェル及びチューブ熱交換器の形態、プレート熱交換器の形態又は目的が混合物若しくは反応混合物から熱を交換することである任意の一般的な装置によって実現され、
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１における加熱及びＤＥＶＩＣＥ０−２における冷却は、チューブ中チューブ設定の形態又は容器中チューブ設定の形態によって実現される。

ＲＥＡＣ０−１は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−１においてＭＩＸＴＵＲＥ０−１をＴＥＭＰ０−１に加熱することによって誘発される。

ＳＴＥＰ０−２における冷却は、温度ＴＥＭＰ０−２で好ましく実施され、好ましくは、ＴＥＭＰ０−２は０〜１８０℃であり、より好ましくは０〜１５０℃であり、さらにより好ましくは１０〜１２０℃であり、とりわけ１５〜１００℃であり、さらにとりわけ１５〜９０℃であり、なおさらにとりわけ１５〜８５℃であり、特に２０〜８５℃である。

好ましくは、ＲＥＡＣ０−１は、反応混合物をＤＥＶＩＣＥ０−２若しくはＤＥＶＩＣＥ０−３又はその両方において冷却することによって、好ましくはＴＥＭＰ０−２に冷却することによって停止される。

式（２）の化合物が、式（３）の化合物とクロロスルホン酸との反応によりＲＥＡＣ０−１において調製される場合、式（２）の純粋な化合物の融点は約３５℃であり、したがって、ＴＥＭＰ０−２の最低限度の値は、反応混合物中の式（３）の残留化合物及び残留クロロスルホン酸が反応後に当然のことながら反応混合物の融点を下げ、低い値のＴＥＭＰ０−２の値を可能にするので、反応における転化によって決定される。

ＤＥＶＩＣＥ０−１における、任意選択でＤＥＶＩＣＥ０−２におけるＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は、ＤＥＶＩＣＥ０−３によって制御及び保持される。

ＴＩＭＥ０−１は、ＭＩＸＴＵＲＥ０−１が加熱及びＴＥＭＰ０−１に曝露される時間である。ＴＩＭＥ０−１の間中に、ＲＥＡＣ０−１が実施される。したがって、好ましくは、ＴＩＭＥ０−１は滞留時間であり、ＲＥＡＣ０−１がＤＥＶＩＣＥ０−１において実施される場合、ＴＩＭＥ０−１は、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−１における混合物の滞留時間である。

時間ＴＩＭＥ０−２は、反応混合物がＴＥＭＰ０−２に冷却される時間である。冷却はＤＥＶＩＣＥ０−２の作用、ＤＥＶＩＣＥ０−３の作用又はＤＥＶＩＣＥ０−２とＤＥＶＩＣＥ０−３の作用によって実施されうる。冷却は反応を停止させる。したがって、好ましくは、ＴＩＭＥ０−２は滞留時間であり、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−２、ＤＥＶＩＣＥ０−３又はその両方における反応混合物の滞留時間である。

好ましくは、ＴＩＭＥ０−２は０．１秒から２時間、より好ましくは０．５秒から１時間、さらにより好ましくは１秒から３０分間、とりわけ１０秒間から３０分間、さらにとりわけ２５秒間から２５分間、なおさらにとりわけ１分間から２５分間である。

好ましくは、ＴＩＭＥ０−２は、ＴＩＭＥ０−１の０．０００１〜０．５倍の時間、より好ましくは０．００１〜０．３倍である。

式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物を、プレミックス混合物としてＤＥＶＩＣＥ０−１に供給することができ又はＤＥＶＩＣＥ０−１に別々に供給することができ、ＤＥＶＩＣＥ０−１において混合される。

事前に又はＤＥＶＩＣＥ０−１において混合する目的で、任意の適切な混合設備を使用することができ、混合設備は、一般的な分岐継手のもの、例えばＴ若しくはＹ字管、又は静止混合装置のような最新技術のものであることが知られている。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１におけるＴＥＭＰ０−１への加熱は、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の両方がＤＥＶＩＣＥ０−１に混合物として存在するときだけ実施される。

式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物の供給は、別々であっても、混合物の形態であっても、装置ＤＥＶＩＣＥ０−０において実施される。

ＤＥＶＩＣＥ０−０は、ポンプのような、圧力によって流体を運搬することに従来使用される加圧装置である。式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物がＤＥＶＩＣＥ０−１に別々に供給される場合、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−０は、それぞれの構成成分に対応する装置を有し、装置ＤＥＶＩＣＥ０−０−ＣＯＭＰ３は、式（ＩＩＩ）の化合物を運搬し、装置ＤＥＶＩＣＥ０−０−ＣＳＡは式（ＩＶ）の化合物を運搬する。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１及び任意のＤＥＶＩＣＥ０−２及び任意のＤＥＶＩＣＥ０−３は、動作中、互いに永久流体接続しており、両方ともＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１下にある。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−０は、ＲＥＡＣ０−１をＴＥＭＰ０−１で実施するために必要なＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１を、ＤＥＶＩＣＥ０−１において及びＤＥＶＩＣＥ０−３対してＤＥＶＩＣＥ０−２において増大させる装置である。

より好ましくは、式（ＩＩＩ）の化合物及び式（ＩＶ）の化合物は、周囲圧及び周囲温度下で混合され、次にＤＥＶＩＣＥ０−１に供給される。

ＤＥＶＩＣＥ０−１及び／又はＤＥＶＩＣＥ０−２がチューブの場合、とりわけコイルチューブの場合、構造的制限に起因して又は密度変動などに起因して、熱点又は冷点がこれらを回避する努力にもかかわらず発生しうる。したがって、記述されているいずれの温度も、可能性のある熱点又は冷点の観点から平均温度であることが意図される。

従来の背圧制御装置は、ＤＥＶＩＣＥ０−３に使用することができ、通常は非連続的に作動し、すなわち、開放及び閉鎖することによって、圧力を保持しながら生成物流を放出する。このことは、当然のことながら圧力に変動をもたらす。したがって、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１は、平均圧であることが意図される。

ＭＩＸＴＵＲＥ０−１及び反応混合物と接触する全ての部分は、対応する条件下で化学薬品の攻撃に耐性のある対応する材料から作製されており、すなわち、ステンレス鋼、ハステロイＢ又はハステロイＣのようなハステロイ、チタン、タンタル、炭化ケイ素、窒化ケイ素などであり、これらはまた、ＰＴＦＥのような化学薬品に対して不活性な材料で不動化又は裏打ちされうる。

式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥを、ＤＥＶＩＣＥ０−１から、ＤＥＶＩＣＥ０−２から、ＤＥＶＩＣＥ０−３から又はＤＥＶＩＣＥ０−４から、好ましくはＤＥＶＩＣＥ０−３から又はＤＥＶＩＣＥ０−４からさらに精製することなくＲＥＡＣ１−１のために使用することができ、さらなる精製の場合では、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４から得た液相のような式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、任意の低沸騰残留物を除去することによってさらに精製され、好ましくは、このことはフィルム蒸発器、ワイプフィルム蒸発器、落下フィルム蒸発、蒸留、精留、フラッシュ蒸留又は単経路蒸留を使用して、より好ましくはワイプフィルム蒸発器を使用して実施される。

とりわけ好ましい実施形態において、ＲＥＡＣ０−１及びＲＥＡＣ１−１は、好ましくは構成成分流を中断させることなく、連続的及び継続的に実施され、好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１及びＤＥＶＩＣＥ１−１は、例えばＤＥＶＩＣＥ０−２を介して好ましくは流体接続により接続されている。

この場合、ＤＥＶＩＣＥ０−３、ＤＥＶＩＣＥ０−４及びＤＥＶＩＣＥ１−０が強制的に必要というわけではなく、むしろＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１及びＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、同一でありうる及びＤＥＶＩＣＥ１−３の作用に対してＤＥＶＩＣＥ０−０によって増大されうる。

機器構成全体の寸法及び構造に応じて、ＤＥＶＩＣＥ０−２も強制的に必要というわけではない又はＤＥＶＩＣＥ０−２は、ＤＥＶＩＣＥ０−１及びＤＥＶＩＣＥ１−１を接続するチューブのような装置により簡単に実現されうる。

好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１又は任意のＤＥＶＩＣＥ０−２の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１のために使用可能であり、
より好ましくは、任意のＤＥＶＩＣＥ０−２の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１のために使用可能であり、
さらにより好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−１の反応混合物は、ＤＥＶＩＣＥ０−２において、１２０〜２１０℃、好ましくは１２０〜２００℃、より好ましくは１２０〜１８０℃の温度ＴＥＭＰ０−２に冷却され、次にＤＥＶＩＣＥ０−２の混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＤＥＶＩＣＥ１−１のＲＥＡＣ１−１のために使用される。

別の好ましい実施形態において、任意のＤＥＶＩＣＥ０−３又は任意のＤＥＶＩＣＥ０−４の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１のために使用可能である。

別の好ましい実施形態において、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１及びＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、同一ではなく、より好ましくは、ＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１は、ＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１よりも低く、
より好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−３の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１に使用され、
さらにより好ましくは、ＤＥＶＩＣＥ０−４の反応混合物は、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１に使用される。

ＤＥＶＩＣＥ０−１又はＤＥＶＩＣＥ０−２の反応混合物が式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１のために直接使用される場合、ＳＴＥＰ０−１後の任意の冷却、好ましくは、ＳＴＥＰ０−２における冷却は、ＤＥＶＩＣＥ０−１、ＤＥＶＩＣＥ０−２又はＤＥＶＩＣＥ０−３の反応混合物であるＲＥＡＣ０−１の反応混合物が、式（ＩＩ）の化合物、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ又はＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥとしてＲＥＡＣ１−１のために直接及び直ちに使用されず、いくらかの時間間隔が置かれている場合と同じ強度である必要はない。この場合、ＳＴＥＰ０−２における冷却のような、ＳＴＥＰ０−１後の任意の冷却は、そのような冷却後の標的温度が、ＲＥＡＣ０−１によって得た反応混合物の分解温度を下回ることを好ましくは確実にするべきである。

好ましくは、ＭＩＸは、ＤＥＶＩＣＥ１−３又はＤＥＶＩＣＥ１−４から得た式（Ｉ）の化合物を使用して実施され、ＭＩＸＷＡＴをもたらす。

ＭＩＸは、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＭＩＸ２は連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

ＥＸＴＲは、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＥＸＴＲは連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

ＲＥＡＣ２は、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ２は連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

特に、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＭＩＸは、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

別の特定の実施形態において、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ及びＥＸＴＲは、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

別の特定の実施形態において、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＭＩＸ、ＥＸＴＲ及びＲＥＡＣ２は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

別の特定の実施形態において、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２は、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２は、連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２は、構成成分流を中断することなく連続的に実施される。

ＲＥＡＣ２−１は、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ２−１は連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

ＥＸＴＲ２−１は、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＥＸＴＲ２−１は連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

ＲＥＡＣ２−２は、バッチ式又は連続的な方法で実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ２−２は連続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、連続的に実施され、
さらにより好ましくは、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、連続的及び継続的に実施され、
とりわけ、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

特に、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１及びＲＥＡＣ２−１は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

別の特定の実施形態において、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１及びＥＸＴＲ２−１は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

別の特定の実施形態において、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、連続的に実施され、
好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、連続的及び継続的に実施され、
より好ましくは、ＲＥＡＣ０−１、ＲＥＡＣ１−１、ＲＥＡＣ２−１、ＥＸＴＲ２−１及びＲＥＡＣ２−２は、構成成分流を中断することなく連続的及び継続的に実施される。

記載されたステップのそれぞれは、好ましくは連続的に実施され、記載された組み合わせのいずれかに記載されたステップのいずれも、好ましくは、連続的に構成成分流を中断することなく実施される。

方法：
ＨＦＳＩの収率は、別段の記載がない限り、溶媒としてＤ_３−アセトニトリル中においてベンゼンスルホニルフルオリドを内部基準として使用する^１９Ｆ−ＮＭＲによって決定した。

一般に、別段の記載がない限り、ＬｉＦＳＩ、ＨＦＳＩ、ＮａＦＳＩなどのようなＦＳＩの誘導体を含有する生成物を、少なくとも^１９Ｆ−ＮＭＲによって分析及び特徴決定し、時々は、例えば対応する金属を決定するために元素分析、例えば溶媒を分析するためにＧＣ（ガスクロマトグラフィー）、例えばイオン性不純物を検出するためにイオンクロマトグラフィーも使用した。

材料
式（ＩＩ）の化合物は、ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１の実施例１５に従って調製される。ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１の実施例１５に記述された９５％の転化率は、５％の残留ＣＳＩが式（ＩＩ）の本化合物に存在することを意味する。したがって式（ＩＩ）の本化合物を、５％の残留ＣＳＩを含有するＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−５と見なすことができる。したがって、当量のクロロスルホン酸も式（ＩＩ）の本化合物に存在すると推定される。したがって、式（ＩＩ）の本化合物を混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５と見なすこともでき、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５は、約９０％の式（２）の化合物、５％の式（３）の化合物及び５％のクロロスルホン酸を含有し、％は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５の総重量に基づいた重量％である。以下において、「ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５」は、この式（ＩＩ）の化合物及びこのＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−５を意味する。

式（ＩＩ）の化合物は、ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１の実施例５に従って調製される。ＷＯ２０１５／００４２２０Ａ１の実施例５に記述された９２．４％の転化率は、７．６％の残留ＣＳＩが式（ＩＩ）の本化合物に存在することを意味する。したがって式（ＩＩ）の本化合物を、ほぼ７．５％の残留ＣＳＩを含有するＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−７．５と見なすことができる。したがって、当量のクロロスルホン酸も式（ＩＩ）の本化合物に存在すると推定される。したがって、式（ＩＩ）の本化合物を混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５と見なすこともでき、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５は、ほぼ８５％の式（２）の化合物、ほぼ７．５％の式（３）の化合物及びほぼ７．５％のクロロスルホン酸を含有し、％は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５の総重量に基づいた重量％である。以下において、「ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５」は、この式（ＩＩ）の化合物及びこのＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−７．５を意味する。

［実施例１］
この実施例は以下を用いて行った。
・ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩ：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−１は１／８インチのコイルチューブであり、内部容積ＶＯＬＵＭＥ１は３．８ｍｌであり、ハステロイＣから作製されている。加熱には、容器中コイルチューブ（ｃｏｉｌｅｄ−ｔｕｂｅ−ｉｎ−ｃｏｎｔａｉｎｅｒ）設定を使用した。加熱媒体は従来型の油であった。
・ＤＥＶＩＣＥ１−２は１／８インチのチューブであり、内部容積は約１．５ｍＬであり、ハステロイＣから作製されている。冷却は、チューブを室温の空気に単に接触させることによって実施した。
・ＤＥＶＩＣＥ１−３：Ｃｖ値が０．０１であるＳＡＭＳＯＮ Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅ３５１０−７型の空圧制御式バルブ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−４：本質的にＨＣｌ及び過剰量のＨＦである任意の気体構成成分を、ステンレス鋼製の通気型容器において反応混合物から分離した。

ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５をＨＦと同時に８０ｂａｒのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１でＤＥＶＩＣＥ１−１に供給し、そして、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩにより０．１１８ｍｌ／分の流速で供給し、ＨＦを、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．１３７ｍｌ／分の流速で供給した。ＴＩＭＥ１−１はおよそ１５分間であり、ＴＥＭＰ１−１は１６０℃であった。この流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比は、およそ８：１であった。次にＤＥＶＩＣＥ１−１の反応混合物をＤＥＶＩＣＥ１−２においてＴＥＭＰ１−２に冷却し、ＴＥＭＰ１−２は室温であり、ＴＩＭＥ１−２はおよそ５．９分間であり、次にＤＥＶＩＣＥ１−３によりＤＥＶＩＣＥ１−４の中に膨張させた。収集された液体は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより確認するとＨＦＳＩであった。収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて８９％であった。

［実施例２］
実施例１を繰り返し、唯一の違いは、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５をＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩにより０．１９８ｍｌ／分の流速で供給したこと及びＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．０５７ｍｌ／分の流速で供給したこと、この流速からおよそ２：１のＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比が得られたことであった。

他のパラメーターは、実施例１と同じであった。収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて７２％であった。

［実施例３］
この実施例は以下を用いて行った。
・ＤＥＶＩＣＥ０−０：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ；
・ＤＥＶＩＣＥ０−１：１／８インチのコイルチューブ、内部容積ＶＯＬＵＭＥ０は５ｍｌ、ハステロイＣから作製。加熱には、容器中コイルチューブ設定を使用した。加熱媒体は従来型の油であった。
・ＤＥＶＩＣＥ１−１は１／８インチのコイルチューブであり、内部容積ＶＯＬＵＭＥ１は３．８ｍｌであり、ハステロイＢから作製されている。加熱には、容器中コイルチューブ設定を使用した。加熱媒体は従来型の油であった。
・ＤＥＶＩＣＥ１−２は１／８インチのチューブであり、内部容積は約１．５ｍＬであり、ハステロイＣから作製されている。冷却は、チューブを室温の空気に単に接触させることによって実施した。
・ＤＥＶＩＣＥ１−３：Ｃｖ値が０．０１であるＳＡＭＳＯＮ Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅ３５１０−７型の空圧制御式バルブ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−４：停止の目的のため、並びに任意のＨＣｌ及びＨＦを中和するために１５ｗｔ％のＮａＯＨ水溶液を充填したガラス容器；

ＣＳＯＳ及び式（３）の化合物の等モル混合物を、ＤＥＶＩＣＥ０−０により８０ｂａｒのＰＲＥＳＳＵＲＥ０−１及び０．７７ｍｌ／分の流速でＤＥＶＩＣＥ０−１に供給した。ＤＥＶＩＣＥ０−１のＴＥＭＰ０−１は２３０℃であり、ＴＩＭＥ０−１はおよそ５分間であった。この実施例において得られたＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの流れは、ＤＥＶＩＣＥ０−１から出た。 試料をこのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥから採取し、分析は、およそ１０．７ｗｔ％の式（３）の化合物の含有量を明らかにした。

したがって、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥは、式（ＩＩ）の本化合物に存在する残留ＣＳＩを１０．７％含有する式（ＩＩ）の化合物である。したがって式（ＩＩ）の本化合物を、１０．７％の残留ＣＳＩを含有するＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ、ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−１０と見なすことができる。したがって、当量のクロロスルホン酸も式（ＩＩ）の本化合物に存在すると推定され、すなわち、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの３つの構成成分の相対比は、
式（２）の化合物が８０％、
式（３）の化合物が１０％及び
クロロスルホン酸が１０％であり、
％は、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥの総重量に基づいた重量％である。

したがって、式（ＩＩ）の本化合物を混合物ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８０−１０−１０と見なすこともでき、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８０−１０−１０は、ほぼ８０％の式（２）の化合物、ほぼ１０％の式（３）の化合物及びほぼ１０％のクロロスルホン酸を含有し、％は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８０−１０−１０の総重量に基づいた重量％である。以下において、「ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８０−１０−１０」は、この式（ＩＩ）の化合物及びこのＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩ−１０を意味する。

ＨＦを、室温で、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦによって８０ｂａｒのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１により０．２４ｍｌ／分の流速でこのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ流に供給して、このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ及びＨＦの混合物が得られ、これをＤＥＶＩＣＥ１−１に入れた。ＤＥＶＩＣＥ１−１のＴＥＭＰ１−１は１６０℃であり、ＴＩＭＥ１−１はおよそ３分間であった。この流速から得られたＨＦ：このＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥのモル比は、およそ３：１であった。ＤＥＶＩＣＥ１−１から出た反応混合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−２に入り、ＴＥＭＰ１−２は室温であった。ＤＥＶＩＣＥ１−２を出た反応混合物は、ＤＥＶＩＣＥ１−３によって膨張され、停止する目的でＤＥＶＩＣＥ１−４に供給された。反応混合物の試料をＤＥＶＩＣＥ１−３とＤＥＶＩＣＥ１−４の間に採取し、試料を水と混合し（試料１重量部に対して水９重量部）、^１９Ｆ−ＮＭＲにより分析して、ＨＦＳＩであることを確認した。収率は、式（３）の化合物に基づいて７０％であった。

［実施例４］
実施例１を繰り返し、違いは以下であった。
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩにより１．０７ｍｌ／分の流速で供給したこと。
ＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．４６ｍｌ／分の流速で供給したこと。
ＴＩＭＥ１−１がおよそ２．５分間であったこと。
この流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５のモル比が、およそ３：１であったこと。
ＴＩＭＥ１−２がおよそ１．５分間であったこと。
収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−９０−５−５中の式（２）の化合物に基づいて９０％であった。

［実施例５］
実施例１を繰り返し、違いは以下であった。
ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩにより１．２２ｇｌ／分の流速で供給したこと。
ＨＦをＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより０．１８ｇ／分の流速で供給したこと。
ＴＩＭＥ１−１がおよそ５分間であったこと。
この流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５のモル比が、およそ１．９：１であったこと。
これらの条件下でＨＦＳＩが生成された。収率：６１．６％。

［実施例６］
実施例５に従って調製された２３４．９ｇのＨＦＳＩを、水（３７３ｇ）及びＴＥＡ（２８５．２ｇ）の溶液に、温度を１０〜２０℃に維持しながら加えた。次にｐＨ値をＴＥＡ（１２５．６ｇ）の添加により９に調整した。次に混合物をＶＮ（それぞれ１４０ｇで２回）により抽出した。有機層を合わせ（４７５．６８ｇ、２１．６９ｗｔ％のＨＦＳＩ、ＡＣＮ中の定量的^１９Ｆ−ＮＭＲにより決定）、水（それぞれ１５３．６ｇで２回）により２５℃で抽出した。ＮＨ_３（３．９１ｇ）を有機層に加え、それによって水層が再び形成され、これを分離及び廃棄した。次にＬｉＯＨ水溶液（９５．８１ｇ、約１２．５ｗｔ％、ＬｉＯＨ×Ｈ_２Ｏ「電池グレード」及び水から調製）を有機層に加え、形成された水層を分離及び廃棄し、次にＬｉＯＨ水溶液（９５．６１ｇ、約１２．５ｗｔ％、ＬｉＯＨ×Ｈ_２Ｏ「電池グレード」及び水から調製）を加えた。水層を再び分離及び廃棄した。ＶＮ／ＴＥＡ中のＬＩＦＳＩの溶液（４１４．８３ｇ）を得た。

溶液を真空下（３０ｍｂａｒ）において６０℃で濃縮し、濾過して、ＬｉＦＳＩの溶液（１４０．２２ｇ、３６．７１ｗｔ％）を得た。次にこのＬｉＦＳＩの溶液を真空下（約７ｍｂａｒ）において６０℃で蒸留した。蒸留中、ＤＣＢ（５４３ｇ）を連続的に加え、同時に留出物（４６７ｇ）を収集し、その間、蒸留容器に常にほぼ同じ量を維持した。ＤＣＢの添加が完了した後、結晶が形成され、それを濾過により収集し、ＤＣＭ（それぞれ５０ｇで２回）により洗浄した。結晶を真空下において６０℃で乾燥した。ＬｉＦＳＩ（４０．２３ｇ）を白色の固体として得た。

［実施例７］
１０５９．４ｇのＨＦＳＩ水溶液（水溶液の総重量に基づいて５重量％のＨＦＳＩ、実施例３に従い、ＤＥＶＩＣＥ１−３とＤＥＶＩＣＥ１−４の間で反応混合物を採取し、反応混合物を対応する量の水と混合することによって調製）を、ＰＴＦＥ反応器に投入し、次に１６９．８ｇのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）を加え、２５℃で混合し、次に、形成された層を分離した。抽出を１回繰り返した。２回の抽出を合わせた有機層（３６８．４ｇ）を、反応器に戻し、約−２℃に冷却し、次に１２０．５ｇのＬｉＯＨ一水和物の水溶液（１７重量％のＬｉＯＨ一水和物）を約−２℃〜約２０℃の温度で加えた。６４．７ｇのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルを加えた。２層が形成され、層を分離した。ＭＴＢＥ中においてほぼ４０重量％のＬｉＦＳＩの濃度を達成するまで、ＭＴＢＥを真空下において６０℃で除去した。減圧下（２００ｍｂａｒ〜５ｍｂａｒ）及び１２℃〜５５℃の温度でＭＴＢＥをさらに蒸発させることによって、ＬｉＦＳＩを結晶化させ、このＭＴＢＥの蒸発中に、ＬｉＦＳＩは結晶化し、懸濁液を形成し、このＭＴＢＥの蒸発と同時に、貧溶媒（ａｎｔｉｓｏｌｖｅｎｔ）として７１５ｇの１，２−ジクロロベンゼンを、懸濁液の量を一定に保持する速度で投与した。懸濁液を濾過し、フィルターケーキを洗浄し（毎回約７０ｇのジクロロメタンにより３回）、ＬｉＦＳＩを白色の結晶として単離した。結晶を６０℃で３時間乾燥した後、２０．６ｇのＬｉＦＳＩを白色の粉末として単離した。

［比較例（ｉ）］
ＵＳ７，９１９，６２９Ｂ２の実施例１０にある、１３０℃で２時間の実験を繰り返した。収率は５５％であり、これはこの実験においてＭｉｃｈｏｔが報告したものと同じ収率である。Ｍｉｃｈｏｔは、蒸留ＣｌＳＩを実施例１０に使用しているが、この蒸留ＣｌＳＩ出発材料中の式（３）の化合物、すなわちＣＳＩのあらゆる残留含有量について何ら言及していない。比較例（ｉ）を、真空下での蒸留によって調製したＣｌＳＩ出発材料を用いることによっても実施した。このＣｌＳＩ出発材料中のＣＳＩの含有量は、０．３ｗｔ％であることが決定された。

Ｄ１において報告されたものと同じ収率の５５％が本比較例（ｉ）において得られたので、ＣｌＳＩの残留含有量はＭｉｃｈｏｔの実験と同じであると推定される。

［実施例８］
比較例（ｉ）を繰り返し、違いは、１ｇのＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を報告された１ｇのＣｌＳＩの代わりに使用したことであった。収率は８２％であり、これは比較例（ｉ）のＣｌＳＩによって得られた５５％の収率より顕著に高い。

［実施例９〜１５］
実施例５を繰り返し、違いは表１に記載されている。これらの条件下でＨＦＳＩが生成された。

［実施例１６〜２０］
実施例１３に従って調製されたＨＦＳＩを水で希釈して、水中でＨＦＳＩの濃度が１４重量％のＨＦＳＩの溶液を得、重量％は、水及びＨＦＳＩの総重量に基づいている。

４０ｇのこの水中ＨＦＳＩ溶液を２０ｇの溶媒Ａと１０分間混合した。２層が形成され、それを分離し、有機層中のＨＦＳＩの含有量を^１９Ｆ−ＮＭＲによって決定し、収率をだし、詳細を表２に提示する。

［実施例２１〜２４］
実施例３に従って調製されたＨＦＳＩを水で希釈して、水中でＨＦＳＩの濃度が５重量％のＨＦＳＩの溶液を得、重量％は、水及びＨＦＳＩの総重量に基づいている。

６０ｇのこの水中ＨＦＳＩ溶液を２０ｇの溶媒Ｂと１０分間混合した。２層が形成され、それを分離し、有機層中のＨＦＳＩの含有量を^１９Ｆ−ＮＭＲによって決定し、収率をだし、詳細を表３に提示する。

［実施例２５］
この実施例は以下を用いて行った。
・ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦ：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ；
・ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩ：ＩＳＣＯ Ｔｅｌｅｄｙｎｅのピストンポンプ２６０Ｄ
・ＤＥＶＩＣＥ１−１は１／４インチのコイルチューブであり、内部容積ＶＯＬＵＭＥ１は３２ｍｌであり、ハステロイＣから作製されている。加熱には、容器中コイルチューブ設定を使用した。加熱媒体は従来型の油であった。
・ＤＥＶＩＣＥ１−２は１／８インチのチューブであり、内部容積は約１．５ｍＬであり、ハステロイＣから作製されている。冷却は、チューブを室温の空気に単に接触させることによって実施した。
・ＤＥＶＩＣＥ１−３：Ｃｖ値が０．０１であるＳＡＭＳＯＮ Ｍｉｃｒｏｖａｌｖｅ３５１０−７型の空圧制御式バルブ。
・ＤＥＶＩＣＥ１−４：本質的にＨＣｌ及び過剰量のＨＦである任意の気体構成成分を、テフロン（登録商標）製の通気型容器において反応混合物から分離した。

ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５をＨＦと同時に５０ｂａｒのＰＲＥＳＳＵＲＥ１−１でＤＥＶＩＣＥ１−１に供給し、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５を、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＣＯＭＰ−ＩＩにより４．６ｍｌ／分の流速で供給し、そして、ＨＦを、ＤＥＶＩＣＥ１−０−ＨＦにより１．７７ｍｌ／分の流速で供給した。ＴＩＭＥ１−１はおよそ５分間であり、ＴＥＭＰ１−１は１６０℃であった。この流速から得られたＨＦ：ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５のモル比は、およそ２．４：１であった。次にＤＥＶＩＣＥ１−１の反応混合物をＤＥＶＩＣＥ１−２においてＴＥＭＰ１−２に冷却し、ＴＥＭＰ１−２は室温であり、ＴＩＭＥ１−２はおよそ１５秒間であり、次にＤＥＶＩＣＥ１−３によりＤＥＶＩＣＥ１−４の中に膨張させた。収集された液体は、^１９Ｆ−ＮＭＲにより確認するとＨＦＳＩであった。収率は、ＭＩＸＴＵＲＥ−ＴＲＩＰＬＥ−８５−７．５−７．５中の式（２）の化合物に基づいて８９％であった。

［実施例２６］Ｍｇ（ＦＳＩ）_２
ＨＦＳＩを実施例１１に従って調製し、水で希釈して、水中でＨＦＳＩの濃度が約１０．５重量％のＨＦＳＩの溶液を得、重量％は、水及びＨＦＳＩの総重量に基づいている。

４２６ｇのこの水中ＨＦＳＩ溶液をＰＴＦＥ反応器の投入し、１３０ｇのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）を加え、２５℃で混合し、層を分離した。抽出を繰り返した。有機層を合わせ、これらは３０９．３ｇのＨＦＳＩを含有した（ＭＴＢＥ中ほぼ１３％、収率は^１９Ｆ−ＮＭＲによって決定）。

１０３ｇの合わせた有機層を反応器に戻し、１３．５ｇのＭｇ（ＯＨ）_２懸濁液（水中２０ｗｔ％）を１０〜２０℃の温度で加えた。室温に加熱した後、大部分の固体Ｍｇ（ＯＨ）_２は溶解し、有機層を単離した。ＭＴＢＥ及び水の混合物中のＭｇ（ＦＳＩ）_２の濃度のおよそ４０ｗｔ％を得るまで、ＭＴＢＥを真空下において６０℃で除去した。Ｍｇ（ＦＳＩ）_２を減圧下（２００〜５ｍｂａｒ）及び１２〜５５℃の温度で結晶化させた。

１３３ｇの１，２−ジクロロベンゼンを投与し、同時に、反応器中のレベルを一定に保持しながら、この投与中にＭＴＢＥ及び水を蒸留によって除去した。反応器の含有物を室温に冷却し、固体がスラリーの形態で固化した。スラリーを濾過した後、フィルターケーキを３０ｇのジクロロメタンで３回洗浄した。６０℃で３時間乾燥した後、白色の５．８ｇのＭｇ（ＦＳＩ）_２を単離した。Ｍｐ＝４０〜４２℃。

［実施例２７］１−メチル−１−プロピルピロリジニウムＦＳＩ
ＨＦＳＩを実施例１１に従って調製し、水で希釈して、水中でＨＦＳＩの濃度が約１０．５重量％のＨＦＳＩの溶液を得、重量％は、水及びＨＦＳＩの総重量に基づいている。

４２６ｇのこの水中ＨＦＳＩ溶液をＰＴＦＥ反応器に投入し、１３０ｇのメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル（ＭＴＢＥ）を加え、２５℃で混合し、層を分離した。抽出を繰り返した。有機層を合わせ、これらは３０９．３ｇのＨＦＳＩを含有した（ＭＴＢＥ中ほぼ１３％、収率は^１９Ｆ−ＮＭＲによって決定）。

１０２ｇの合わせた有機層を反応器に戻し、１２．６ｇの１−メチル−１−プロピルピロリジン．ＨＣｌを１０〜２０℃の温度で加えた。室温に加熱した後、２層が形成され、水層を除去した。有機層に２０ｇの水を加え、室温で１５分間混合した。層を分離し、抽出を繰り返した。有機層を硫酸ナトリウムで脱水し、濾過し、ＭＴＢＥを１７ｍｂａｒの減圧下において６０℃で蒸発させた。１４．６ｇの１−メチル−１−プロピルピリジニウムＦＳＩを、黄色の液体として得た（構造は、^１Ｈ及び^１９Ｆ−ＮＭＲにより確認した）。

［実施例２８］ＮａＦＳＩ（ジメチルペンタノンから）
ＨＦＳＩを実施例１１に従って調製し、水で希釈して、水中でＨＦＳＩの濃度が約１０．５重量％のＨＦＳＩの溶液を得、重量％は、水及びＨＦＳＩの総重量に基づいている。

８００ｇのこの水中ＨＦＳＩ溶液をＰＴＦＥ反応器の投入し、２００ｇの２，４−ジメチル−３−ペンタノンと２５℃で混合し、２層を分離した。有機層を分離した。２００ｇの２，４−ジメチル−３−ペンタノンによる抽出を繰り返した。合わせた有機層（４７３．６ｇの２，４−ジメチル−３−ペンタノン中ＨＦＳＩ溶液、収率は^１９Ｆ−ＮＭＲにより決定）を反応器に戻し、４８．６ｇのＮａＯＨ水溶液（２５ｗｔ％）を１０〜２０℃の温度で加えた。２層が形成され、水層を廃棄した。ＮａＯＨによる抽出を繰り返した。ほぼ３０ｗｔ％の濃度のＮａＦＳＩを有する溶液が達成されるまで、２，４−ジメチル−３−ペンタノンを真空下において６０℃で除去した。この溶液を１マイクロメートルのフィルターによって濾過して、対応する小型及び固体粒子を除去した。１０３ｇの１，２−ジクロロベンゼンを投与し、同時に、反応器中のレベルを一定に保持しながら、蒸留によって２，４−ジメチル−３−ペンタノン及び水を除去することによって、ＮａＦＳＩを減圧下（２００〜５ｍｂａｒ）及び２０〜４０℃の温度で結晶化した。ＮａＦＳＩはスラリーの形態で結晶化し、スラリーを濾過し、フィルターケーキを１００ｇのジクロロメタンにより合計で３回洗浄した後、４１．４ｇのＮａＦＳＩフィルターケーキを単離した。フィルターケーキを６０℃で３時間乾燥した後、ＮａＦＳＩを白色の粉末として単離した。

［実施例２９］ＨＦＳＩの蒸留
実施例２５に従って調製されたＨＦＳＩ（２．４ｗｔ％のＣＳＩ及び７７．０７ｗｔ％のＨＦＳＩを含む）を、１メートルのＳｕｌｚｅｒ ＤＸ充填剤を有する１リットルのバッチカラムにおいて蒸留した。リボイラーのジャケット温度は、最大で１４０℃であった。

画分１〜６を６０ｍｂａｒの絶対圧力及び８〜１への還流よって蒸留し、画分７及び８を、２３ｍｂａｒ及び４〜１への還流によって蒸留した。表４はその結果を示す。

この蒸留によって、９９％を超える純度のＨＦＳＩを達成することができる。

［実施例３０］ＬｉＣｌ（蒸留ＨＦＳＩを伴う）を使用するＬｉＦＳＩ
１０．７８ｇのＬｉＣｌを９０．７３ｇの炭酸ジメチルに懸濁し、１０℃未満に冷却した。この混合物に、画分５及び６を混合することにより実施例２９に従って調製された５０．２６ｇのＨＦＳＩを１．５時間かけて投与し、その間、温度を０℃〜１０℃の範囲に保持した。２０〜２５℃に加熱した後、溶媒を減圧下（４０〜５０ｍｂａｒ）及び４０℃での蒸留によって除去した。１５．８４ｇの留出物を得た。ＬＩＦＳＩを含有する残留物を１ミクロンフィルターの使用により濾過して、残留ＬｉＣｌ及び小型粒子を除去した。

２２１ｇの１，２−ジクロロベンゼンを投与し、同時に、反応器中のレベルを一定に保持しながら、蒸留によって炭酸ジメチルを除去することによって、ＬｉＦＳＩを減圧下（２００〜５ｍｂａｒ）及び２０〜６０℃の温度で結晶化した。ＬｉＦＳＩはスラリーの形態で結晶化し、スラリーを濾過し、フィルターケーキを洗浄した後（１５０ｇのジクロロメタンにより合計で３回）、３０．８６ｇのＬｉＦＳＩフィルターケーキを得た。フィルターケーキを６０℃で３時間乾燥した後、２６．３ｇのＬｉＦＳＩを白色の粉末として得た。

［実施例３１］ＬｉＯＨ一水和物（蒸留ＨＦＳＩを伴う）を使用するＬｉＦＳＩ
１０．８８ｇのＬｉＯＨ一水和物を９０．６５ｇの炭酸ジエチルに懸濁し、０〜１０℃に冷却した。この懸濁液に、画分５及び６を混合することにより実施例２９に従って調製された５０．１１ｇのＨＦＳＩを１．５時間かけて投与し、その間、温度を０℃〜１０℃の範囲に保持した。２０〜２５℃に加熱した後、炭酸ジエチル及び水を減圧下（５０〜６０ｍｂａｒ）及び５０℃での蒸留によって除去した。６．８２ｇの留出物を得た。ＬＩＦＳＩを含有する残留物を１ミクロンフィルターの使用により濾過して、残留不溶性ＬｉＯＨ及び小型粒子を除去した。

１，２−ジクロロベンゼンを投与し、同時に、反応器中のレベルを一定に保持しながら、蒸留によって炭酸ジメチルを除去することによって、ＬｉＦＳＩを減圧下（２００〜５ｍｂａｒ）及び２０〜６０℃の温度で結晶化した。ＬｉＦＳＩはスラリーの形態で結晶化し、スラリーを濾過し、フィルターケーキを洗浄した後（１５０ｇのジクロロメタンにより合計で３回）、２７．０３ｇのＬｉＦＳＩフィルターケーキを得た。フィルターケーキを６０℃で３時間乾燥した後、２３．０６ｇのＬｉＦＳＩを白色の粉末として得た。

Claims (15)

1. 式（Ｉ）の化合物を調製する方法であって、
   

   

   ステップＳＴＥＰ１、ステップＳＴＥＰＭＩＸ及びステップＳＴＥＰＥＸＴＲを含み、
   ＳＴＥＰ１が、反応ＲＥＡＣ１−１を含み、
   反応ＲＥＡＣ１−１において、式（ＩＩ）の化合物が、ＨＦと、
   

   

   温度ＴＥＭＰ１−１で反応し、ＴＥＭＰ１−１が、少なくとも８０℃であり、
   ＲＥＡＣ１−１の開始時に、式（ＩＩＩ）の化合物が反応混合物に存在し、
   

   

   ＲＥＡＣ１−１の開始時に反応混合物に存在する式（ＩＩＩ）の化合物の量が、少なくとも０．５％であり、％が重量％であり、反応混合物の重量からＨＦの重量を除いた、ＲＥＡＣ１−１の開始時の反応混合物の重量に基づいており、
   Ｘが、Ｘ１又はＸ２と同一であり、
   Ｘ１及びＸ２が、同一であり又は異なり、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ、ＲＥＳＦ及びトリルからなる群から互いに独立して選択され、
   ただし、残基Ｘ１及びＸ２の少なくとも一方が、Ｃｌ、Ｂｒ又はＩであり、
   ＲＥＳＦが、フッ素化Ｃ_１−９アルキルであり、フッ素化Ｃ_１−９アルキルが、非置換であり又は置換基ＯＣＦ_３で置換されており、
   ＳＴＥＰＭＩＸにおいて、式（Ｉ）の化合物が、混合ＭＩＸによって水と混合され、ＭＩＸが混合物ＭＩＸＷＡＴをもたらし、ＭＩＸＷＡＴが、式（Ｉ）の化合物と水の混合物であり、
   ＳＴＥＰＥＸＴＲにおいて、式（Ｉ）の化合物が、抽出ＥＸＴＲによってＭＩＸＷＡＴから抽出され、ＥＸＴＲが、有機溶媒ＳＯＬＶＯＲＧによるＭＩＸＷＡＴからの式（Ｉ）の化合物の抽出であり、ＳＯＬＶＯＲＧが、水と二相系を形成する有機溶媒であり、
   ＥＸＴＲが、溶液ＳＯＬＣＯＭＰ１の形態で式（Ｉ）の化合物をもたらし、ＳＯＬＣＯＭＰ１が、ＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｉ）の化合物の溶液である
   方法。
2. 式（Ｖ）の化合物を調製する方法であって、
   

   

   ｎ１が、１、２又は３であり、
   Ｍが、アルカリ金属、アルカリ土類金属及びＡｌからなる群から選択され、
   方法が、ＳＴＥＰ１及びステップＳＴＥＰ２を含み、
   ＳＴＥＰ１が、請求項１に記載されたとおりであり、
   ＳＴＥＰ２において、式（Ｉ）の化合物のＨが、Ｍに交換される
   方法。
3. Ｍが、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ、Ｍｇ及びＡｌからなる群から選択される、請求項２に記載の方法。
4. ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲを含み、
   ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲが、請求項１に記載されているとおりである、請求項２又は３に記載の方法。
5. 式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物を調製する方法であって、
   

   

   化合物ＡＭＩが、Ｎ（Ｒ１００）（Ｒ２００）Ｒ３００及びＮ（Ｒ４００）Ｒ５００からなる群から選択され、
   Ｒ１００、Ｒ２００、Ｒ３００が、同一であり若しくは異なっており、Ｈ、Ｃ_１−６アルキル及びハロゲン化Ｃ_１−６アルキルからなる群から選択され、又は
   Ｒ１００及びＲ２００が、Ｎと一緒になって、飽和５員、６員、７員若しくは８員複素環式の環ＲＩＮＧＡを形成しており、
   Ｒ４００及びＲ５００が、Ｎと一緒になって、不飽和５員、６員、７員又は８員複素環式の環ＲＩＮＧＢを形成しており、
   ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢが、Ｎ、Ｏ及びＳからなる群から選択される１又は２個の追加の環内ヘテロ原子を有することができ、
   ＲＩＮＧＡ及びＲＩＮＧＢが、非置換であり又はＣ_１−６アルキル、ハロゲン化Ｃ_１−６アルキル、Ｃ_１−６アルコキシ及びハロゲンからなる群から選択される１、２若しくは３つの同一である若しくは異なっている置換基により置換されており、
   方法が、ＳＴＥＰ１及びステップＳＴＥＰ２−１を含み、
   ＳＴＥＰ２−１において、式（Ｉ）の化合物のＨが、Ｈ−ＡＭＩに交換され、
   ＳＴＥＰ１が、請求項１に記載されたとおりである
   方法。
6. ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲを含み、
   ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲが、請求項１に記載されているとおりである、請求項５に記載の方法。
7. 式（Ｖ）の化合物の調製方法であって、
   ＳＴＥＰ１、ＳＴＥＰ２−１及びステップＳＴＥＰ２−２を含み、
   ＳＴＥＰ２−２において、式（Ｉ−ＡＭＩ）の化合物のＨ−ＡＭＩが、Ｍに交換され、
   ＳＴＥＰ１が、請求項１に記載されているとおりであり、ＳＴＥＰ２−１が、請求項５に記載されているとおりである、方法。
8. ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲを含み、
   ＳＴＥＰＭＩＸ及びＳＴＥＰＥＸＴＲが、請求項１に記載されているとおりである、請求項７に記載の方法。
9. ＳＴＥＰ１が、精製ＰＵＲ１を含み、ＰＵＲ１において、式（Ｉ）の化合物が、抽出、蒸留、蒸発、膜補助分離又はこれらの組み合わせによって精製される、請求項１〜８の一項以上に記載の方法。
10. ステップＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１において、ＳＴＥＰ１で得られた式（Ｉ）の化合物が、ＳＯＬＶＯＲＧに溶解して、溶液ＳＯＬＣＯＭＰ１−Ｓ１をもたらし、ＳＯＬＣＯＭＰ−Ｓ１が、ＳＯＬＶＯＲＧ中の式（Ｉ）の化合物の溶液であり、
    ＳＴＥＰ１及びＳＯＬＶＯＲＧが、請求項１に記載されたとおりである、請求項１〜９の一項以上に記載の方法。
11. 式（Ｉ）の化合物を調製する方法であって、
    ＳＴＥＰ１及びＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１を含み、
    ＳＴＥＰ１が、請求項１に記載されているとおりであり、ＳＴＥＰＤＩＳＳＯＬ−Ｓ１が、請求項１０に記載されているとおりである、方法。
12. ＴＥＭＰ１−１が、少なくとも９０℃である、請求項１〜１１の一項以上に記載の方法。
13. 残基Ｘ１及びＸ２のうちの少なくとも一方が、Ｃｌ又はＢｒである、請求項１〜１２の一項以上に記載の方法。
14. 式（ＩＩ）の化合物が、混合物ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩの形態でＲＥＡＣ１−１に使用され、
    ＭＩＸ−ＩＩ−ＩＩＩが、式（ＩＩ）の化合物と式（ＩＩＩ）の化合物との混合物である、請求項１〜１３の一項以上に記載の方法。
15. 式（ＩＩ）の化合物が、ステップＳＴＥＰ０において調製され、
    ＳＴＥＰ０が、反応ＲＥＡＣ０−１を含み、
    ＲＥＡＣ０−１が、式（ＩＩＩ）の化合物と式（ＩＶ）の化合物との反応であり、
    

    

    Ｘ２が、本明細書において記載されているとおりであり、この全ての実施形態のものであり、
    Ｒ^ｎ＋が、Ｈ^＋、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｃｕ^２＋、Ａｌ^３＋、Ｔｉ^３＋、Ｆｅ^２＋、Ｆｅ^３＋、Ｂ^３＋、
    

    

    ［Ｎ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋及び［Ｐ（Ｒ２０）（Ｒ２１）（Ｒ２２）Ｒ２３］^＋からなる群から選択され、
    Ｒ２０、Ｒ２１、Ｒ２２及びＲ２３が、同一であり又は異なり、Ｈ、Ｃ_１−８アルキル、Ｃ_５−６シクロアルキル、フェニル、ベンジル、ビニル及びアリルからなる群から互いに独立して選択され、
    ｎが、１、２又は３である、請求項１〜１４の一項以上に記載の方法。