JP2018515468A5 - - Google Patents

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JP2018515468A5
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  1. 式(III):
    Figure 2018515468
    [式中、
    pは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    各置換基Xは、互いに独立して、ハロゲン、C〜Cアルキル、またはC〜Cハロアルキルであるように選択される]
    の置換2−メチルアミノピリジン誘導体およびその対応する塩を製造するための方法(A)であって、
    式(II):
    Figure 2018515468
    [式中、
    pは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    各置換基Xは、互いに独立して、ハロゲン、C〜Cアルキル、またはC〜Cハロアルキルであるように選択される]
    の置換シアノピリジル誘導体を、
    金属触媒、式(II)のシアノピリジル誘導体の量に対して約0.0000001当量〜約10当量の濃度の範囲にある触媒改質剤、および酸の存在下で水素化する工程(A1)を含んでなる、方法(A)。
  2. 式(III)の2−メチルアミノピリジン誘導体を含む反応溶液の溶媒を除去する、工程(A1)の後の追加の工程(A2)をさらに含んでなる、請求項1に記載の方法(A)
  3. 工程(A2)の残渣に塩基を添加し、必要に応じて、その前、同時、またはその後に有機溶媒を添加する、工程(A1)および(A2)の後の追加の工程(A3)をさらに含んでなる、請求項2に記載の方法(A)
  4. 有機相を水相から分離し、必要に応じて酸を有機相に添加する、工程(A1)、(A2)、および(A3)の後の追加の工程(A4)をさらに含んでなる、請求項3に記載の方法(A)
  5. 式(III)の沈殿生成物を、式(III)の2−メチルアミノピリジン誘導体またはその対応する塩を含む反応懸濁液から単離する、工程(A1)、(A2)、(A3)、および(A4)の後の追加の工程(A5)をさらに含んでなる、請求項4に記載の方法(A)
  6. pが1または2であり、Xが、互いに独立して、フッ素、塩素、またはジフルオロメチル、トリフルオロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチルであり、2−ピリジル部分が、3位および/または5位でXにより置換されている、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法(A)
  7. 式(III)の化合物が2−アミノメチル−3−クロロ−5−トリフルオロメチルピリジンである、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法(A)
  8. 前記触媒改質剤が、3,6−ジチア−1,8−オクタジオール、CuI、FeBr、FeCl、Fe(OAc)、KI、KBr、MgBr、MgO、NaBr、NaI、NHVO、キノリン、ヨウ化n−テトラメチルアンモニウム、ヨウ化n−テトラエチルアンモニウム、ヨウ化n−テトラブチルアンモニウム、臭化n−テトラメチルアンモニウム(TMAB)、臭化n−テトラエチルアンモニウム、臭化n−テトラブチルアンモニウム(TBAB)、塩化n−テトラメチルアンモニウム、塩化n−テトラエチルアンモニウム、塩化n−テトラブチルアンモニウム、テトラヒドロチオフェン、チオエタノール、チオ尿素、酸化V(V)、酸化V(IV)、硫化V(III)、ZnBrからなる群から選択される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法(A)
  9. 前記酸が、酢酸(CHCOH)、メタンスルホン酸、およびHSOからなる群から選択される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法(A)
  10. 前記触媒改質剤の濃度が、式(II)のシアノピリジル誘導体の量に対して約0.01当量〜約0.2当量の範囲にある、請求項1〜9のいずれか一項に記載の方法(A)
  11. 前記触媒が再利用され、前記改質剤濃度が約0.0000001当量から0.05当量までの範囲にあることを除いて、同一条件下で手順を繰り返す、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法(A)
  12. 式(I):
    Figure 2018515468
    [式中、
    pは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    qは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    各置換基Xは、互いに独立して、水素、ハロゲン、C〜Cアルキル、またはC〜Cハロアルキルであるように選択され、但し、1つ以上のXは、ハロゲンであり、
    Yは、ハロゲンである]
    の置換ピリジルメチルベンズアミドの製造のための方法(B)であって、
    式(III):
    Figure 2018515468
    [式中、pおよびXが、上記のように定義される]
    の化合物またはその対応する塩を、適当な溶媒中で、適当な塩基の存在下で、
    式(IV):
    Figure 2018515468
    [式中、
    qは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    Yは、ハロゲンであり、
    は、脱離基である]
    の化合物と反応させる、工程(B2)を含んでなる、方法(B)。
  13. 式(I):
    Figure 2018515468
    [式中、
    pは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    qは、1、2、3、または4に等しい整数であり、
    各置換基Xは、互いに独立して、水素、ハロゲン、C〜Cアルキル、またはC〜Cハロアルキルであるように選択され、但し、1つ以上のXは、ハロゲンであり、
    Yは、ハロゲンである]
    の置換ピリジルメチルベンズアミドの製造のための、請求項12に記載の方法(B)であって、
    式(II):
    Figure 2018515468
    [式中、pおよびXが、上記のように定義される]
    の置換シアノピリジル誘導体を、金属触媒、触媒改質剤、および酸の存在下で水素化して 式(III):
    Figure 2018515468
    [式中、pおよびXが、上記のように定義される]
    の化合物またはその対応する塩を得る、工程(B1)をさらに含んでなり、
    ここで、前記触媒改質剤の量が、式(II)のシアノピリジル誘導体の量に対して約0.0000001当量〜約10当量の範囲にあり、
    前記式(III)の化合物またはその対応する塩を、工程(B2)において、適当な溶媒中で、適当な塩基の存在下で、
    式(IV):
    Figure 2018515468
    [式中、
    qは、1、2、3、または4に等しい整数であり;
    Yは、ハロゲンであり、
    は、脱離基である]
    の化合物と反応させる、方法(B)。
  14. 触媒を濾別した後、式(III)の2−メチルアミノピリジン誘導体を含む反応混合物に適当な塩基を添加してpH値を調整する、工程(B1)の後の追加の工程(B1a)をさらに含んでなる、請求項12または13に記載の方法(B)。
  15. 式(I)のピリジルメチルベンズアミド誘導体を含む反応混合物に適当な酸を添加してpH値を調整する、工程(B2)の後の追加の工程(B3)をさらに含んでなる、請求項12〜14のいずれか一項に記載の方法(B)。
  16. 式(I)のピリジルメチルベンズアミド誘導体を含む反応混合物を濾過し、残渣を適当な溶媒で洗浄する、工程(B3)後の追加の工程(B4)をさらに含んでなる、請求項15に記載の方法(B)。
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