JP2018513253A - 変化する屈折率を有する粒子 - Google Patents

Abstract

第１の領域と、第１の領域を取り囲む第２の領域と、を含む粒子であって、第２の領域は、第２の領域の厚さの全厚にわたって存在するコポリマーを含む、粒子が記載されている。第２の領域の体積は、粒子の体積の少なくとも７５パーセントである。粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、第２の領域の厚さ方向に変化する。

Description

媒体の光学的又は物理的特性に変化をもたらすために、媒体中に粒子が組み込まれる場合がある。

米国特許第８，８６５，７９７号（Ｍａｔｙｊａｓｚｅｗｓｋｉ ｅｔ ａｌ．）には、複合材の透明度を向上させる、複合材中に組み込むためのコア−シェル複合粒子が記載されている。コア−シェル複合粒子は、第１の屈折率を有するコア材料と、第２の屈折率を有するシェル材料と、を含み、コア−シェル粒子は、第１の屈折率及び第２の屈折率によって決定される実効屈折率を有する。実効屈折率は、想定される埋め込み媒体の屈折率と実質的に等しい。

米国特許第８，１３３，９３８号（Ｍｕｎｒｏ ｅｔ ａｌ．）には、ポリマーマトリックス中に保持された粒子の規則正しい周期的な配列を含む放射線回折材料が記載されている。粒子はそれぞれ、シェルに取り囲まれたコアを有する。

「タマネギ状」の多層ポリ（メタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）／ポリスチレン（ＰＳ）複合粒子は、Ｏｋｕｂｏ ｅｔ ａｌ．，Ｃｏｌｌｏｉｄ Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．２７９，５１３〜５１８（２００１）に記載されているような溶媒吸収／放出法によって調製することができる。

ポリスチレンコアと、ポリスチレン及びポリ（メタクリル酸トリフルオロエチル）が交互に繰り返す４つの層と、を有する粒子は、Ｇｏｕｒｅｖｉｃｈ ｅｔ ａｌ．，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ ３９，１４４９〜１４５４（２００６）に記載されているような５段階連続重合を使用して製造することができる。

本明細書のいくつかの態様において、第１の領域と、第１の領域を取り囲む第２の領域と、を有する粒子が提供される。第２の領域の体積は、粒子の体積（volume）の少なくとも７５パーセントであり、第２の領域は、第２の領域の厚さの全厚にわたって存在するコポリマーを含む。粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、第２の領域の厚さ方向に変化する。

本明細書のいくつかの態様において、粒子の製造方法が提供される。本方法は、種を準備する工程と、モノマーを準備する工程と、種の表面に隣接してモノマーを反応させる工程と、成長している粒子の表面に隣接してモノマーを反応させることによって、種の直径の少なくとも２倍の外径を粒子が有するまで、粒子を成長させる工程と、を含む。モノマーは、成長している粒子に連続的に供給され、成長している粒子に供給されるモノマーの組成は、時間とともに変化する。

本明細書のいくつかの態様において、１層以上の規則的な粒子層を有する物品が提供される。粒子の少なくとも一部は、粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する屈折率を有する。コリメートされたビームが物品を通過するとき、光出力分布は、中心突出領域（central lobe region）、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む。

粒子の概略断面図である。 動径座標の関数としての屈折率のグラフである。 動径座標の関数としての屈折率のグラフである。 動径座標の関数としての屈折率のグラフである。 粒子の概略断面図である。 粒子の概略断面図である。 動径座標の関数としての屈折率のグラフである。 複数の粒子を含む層の断面図である。 散乱角の関数としての光出力分布のプロットである。 複数の粒子を含む層を有する多層フィルムの断面図である。 ディスプレイ上に配置されたフィルム又は層の概略断面図である。 規則的な粒子層の断面図である。 粒子を製造するための反応器の略図である。 散乱角の関数としての光出力分布のプロットである。 散乱角の関数としての光出力分布のプロットである。 散乱角の関数としての光出力分布のプロットである。

以下の説明では、本明細書の一部を形成し、例示を目的として示されている添付の図面を参照する。図面は、必ずしも一定の比率の縮尺ではない。本開示の範囲又は趣旨から逸脱することなく、他の実施形態が想定され、実施され得ることを理解されたい。したがって、以下の発明を実施するための形態は、限定的な意味で解釈されるべきではない。

接着剤又は他のポリマー材料の光学的特性を変化させるために、接着剤又は他のポリマー材料中に粒子を含めることが望ましい場合がある。粒子は、所望の光学的特性を実現するのに適した屈折率を有するように選択され得る。コアの周囲に薄いシェルを有する粒子は、シェルとコアが異なる屈折率を有する場合に時に使用される。しかしながら、本明細書によれば、粒子のかなりの部分（例えば、直径の少なくとも１／２又は体積の少なくとも７５パーセント）にわたって変化する屈折率を有する粒子は、従来のコア−シェル粒子では得られない望ましい光学的特性を与えることできることが見出された。

層同士が互いに共有結合されていないポリマー多層を有する粒子は、以前に記載されている。しかしながら、別個の層を互いに接着する共有結合が存在しないため、粒子は強固でなく、そのため、例えばコーティングへのその適用可能性は限定されている。例えば、層が界面接着のみによって接着されているため、粒子は、コーティングの通常の処理中に損傷しやすい可能性がある。このことは、層間の大きな屈折率差が望ましいときに特に問題となる。これは、低屈折率層にはフルオロポリマーを使用することが望ましい場合があり、フルオロポリマー層は通常、隣接層に対して弱い界面接着を有するであろうためである。更に、異なる層は異なる膨潤特性を有し得るため、界面接着のみによって結合されている層を有する粒子は、溶液中に分散したときに膨潤によって生じる損傷を受けやすい可能性がある。本明細書によれば、粒子の直径のかなりの部分（例えば、少なくとも１／２）にわたって存在するコポリマーを有する粒子を形成することができることが見出された。粒子は、層から層にわたって存在するコポリマーによって互いに共有結合されている、交互に繰り返す層を有し得る。粒子の少なくともかなりの部分（例えば、体積の少なくとも７５パーセント）にわたって連続的に変化する組成及び連続的に変化する屈折率を有する粒子を形成することができることもまた見出されている。そのような粒子は、望ましい光学的特性を有し、従来の層状粒子よりも強固である。

粒子は、フィルム若しくは規則的な層中に組み込まれてもよく、又は規則的な粒子層が提供されてもよい。フィルム又は規則的な層は、フィルム又は規則的な層を透過する光の散乱を制御し得る。本明細書の他の箇所に更に記述されているように、制御された散乱は、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を有する光出力分布をもたらし得る。そのような光出力分布は、例えばスパークル（sparkle）防止効果をもたらすのに有用であり得る。

図１は、第１の領域１１０と、第１の領域１１０を取り囲み封入する第２の領域１２０と、を有する粒子１００の概略断面図である。粒子１００は、外面１２８及び外半径Ｒを有し、Ｒは第２の領域１２０の外半径でもある。第１の領域１１０は外半径ｒを有する。粒子１００は、種の表面に隣接してモノマーを重合させ、その後、成長している粒子の表面又はその近くでモノマーを連続的に反応させることによって粒子を成長させることによって、種から成長させることができる。これは、溶液中に分散した複数の種を含む反応器中で行うことができる。種粒子は、第１の領域１１０に相当し得、モノマーを反応させることによって形成される粒子の部分は、第２の領域１２０に相当し得る。いくつかの実施形態において、第１の領域１１０と第２の領域１２０との間に物理的境界が存在しないように、種の表面に隣接して最初に反応させるモノマーは、種の表面における組成と一致又は実質的に一致する組成を有し得る。この場合、第１の領域は、実質的に同一の組成及び屈折率を有する粒子の中心近くの領域ということができ、第２の領域１２０は、第１の領域１１０を取り囲む領域ということができる。いくつかの実施形態において、物理的境界が第１の領域１１０と第２の領域１２０とを隔てるように、種に隣接して反応させるモノマーは、種の組成とは異なる組成を有し得る。

粒子が第２の領域の厚さＴ方向に連続的に変化する組成及び連続的に変化する屈折率を有するように、モノマーの組成は、連続的に変化させてもよい。あるいは、モノマーの組成は、本明細書の他の箇所に更に記述されているように層を形成するために、不連続的に変化させてもよい。種に隣接して反応させるモノマーが種と同じ組成を有する実施形態において、粒子１００の有する組成及び屈折率のそれぞれは、粒子１００の中心から粒子１００の外面まで連続的に変化し得る。組成が連続的に変化するにせよ不連続的に変化するにせよ、成長している粒子にモノマーを連続的に供給することによって、得られる粒子は、第２の領域１２０の厚さＴの全厚にわたって存在するコポリマーを含むことができる。

適したモノマーとしては、スチレン、（メタ）アクリレート、ビニル化合物、アルケン、フッ素化化合物、米国特許第８，３７８，０４６号（Ｄｅｔｅｒｍａｎ ｅｔ．ａｌ．）に例示されているような高い屈折率を有するモノマー及び重合に適した任意のエチレン性不飽和モノマー化合物が挙げられる。

モノマーは、連鎖重合によって反応させてもよく、成長している粒子が入っている反応器に開始剤及び／又は触媒を供給してもよい。粒子の調製に有用な重合開始剤は、熱に曝露すると、モノマー混合物の（共）重合を開始させるフリーラジカルを発生させる開始剤である。水溶性及び／又は油溶性のラジカル重合開始剤を使用することができる。いくつかの実施形態において、水溶性開始剤を使用することが望ましい場合がある。好適な水溶性開始剤としては、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過硫酸ナトリウム及びこれらの混合物、前述の過硫酸塩の反応生成物などの酸化還元開始剤並びにメタ重亜硫酸塩、ホルムアルデヒドスルホキシル酸塩、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）及びその可溶性塩（例えば、ナトリウム、カリウム）の群から選択されるものなどの還元剤からなる群から選択されるものが挙げられるが、これらに限定されない。有用な油溶性開始剤の例としては、いずれもｄｕＰｏｎｔから入手可能なＶａｚｏ（登録商標）６４（２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、Ｖａｚｏ（登録商標）５２（２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルペンタンニトリル）などのジアゾ化合物、過酸化ベンゾイル及び過酸化ラウロイルなどの過酸化物並びにこれらの混合物からなる群から選択されるものが挙げられるが、これらに限定されない。

いくつかの実施形態において、架橋剤もまた含まれてもよい。多官能アクリレートなどのポリエチレン性不飽和化合物は、バルク又はエマルション重合プロセスにおける架橋剤として有用である。ポリエチレン性不飽和化合物の例として、ポリアクリル酸−官能モノマー、例えば、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、ビスフェノール−Ａジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ペンタエリスリトールジ−、トリ−及びテトラアクリレート並びに１，１２−ドデカンジオールジアクリレートなど；オレフィン（olefmic）−アクリル−官能モノマー、例えば、アリルメタクリレート、２−アリルオキシカルボニルアミドエチルメタクリレート及び２−アリルアミノエチル（メタ）アクリレートなど；アリル２−アクリルアミド−２，２−ジメチルアセテート；ジビニルベンゼン；ビニルオキシ基−置換官能モノマー、例えば、２−（エテニルオキシ）エチル（メタ）アクリレート、３−（エチニルオキシ）−１−プロパン、４−（エチニルオキシ）−１−ブテン及び４−（エテニルオキシ）ブチル−２−アクリルアミド−２，２−ジメチルアセテートなどが挙げられるが、これらに限定されない。

いくつかの実施形態において、第２の領域１２０の体積は、粒子１００の体積の少なくとも６０パーセント、少なくとも７５パーセント、少なくとも８５パーセント、又は少なくとも９０パーセント、又は少なくとも９５パーセント、又は少なくとも９９パーセント、又は少なくとも９９．９パーセントである。いくつかの実施形態において、第２の領域１２０の体積は、粒子１００の体積の７５パーセント又は８５パーセントから９９．９９９パーセントまで又は９９．９９９９パーセントまでの範囲である。いくつかの実施形態において、第２の領域１２０の外半径Ｒは、第１の領域１１０の外半径ｒの少なくとも１．５倍、２倍、５倍、１０倍又は３０倍である。いくつかの実施形態において、第２の領域１２０の外径２×Ｒは、第１の領域１１０の外径２×ｒの少なくとも１．５倍、２倍、５倍、１０倍又は３０倍である。粒子１００は、実質的に球形であってもよく、又は楕円体又は他の形状を有してもよい。粒子の半径又は直径は、粒子と同じ体積を有する球体と等しい半径又は直径を指し得る。いくつかの実施形態において、第２の領域１２０の外半径Ｒは、第１の領域１１０の外半径ｒの２〜１００００倍の範囲である。いくつかの実施形態において、第１の領域１１０は、約１ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲の直径（２×ｒ）を有する。いくつかの実施形態において、粒子１００は、約１００ｎｍ〜約１０マイクロメートルの範囲の外径（２×Ｒ）を有する。

図２は、動径座標の関数としての粒子の屈折率の略図である（例えば、球座標系（ｒ、θ、φ）において、動径座標はｒ座標である。楕円体又は別の非球形粒子では、ある点の動径座標は、その点と粒子の中心又は重心との間の距離を指し得る。）。粒子の第１の領域の屈折率２１２は、実質的に一定であり、粒子の第２の領域の屈折率２２２は、第２の領域の厚さ方向に連続的に変化している。例示されている実施形態において、屈折率は第１の領域から第２の領域まで連続的ではない。

屈折率は、第１の位置においてゼロではない第１の割合で変化してもよく、第１の位置とは異なる第２の位置において第１の割合とは異なるゼロではない第２の割合で変化してもよい。例えば、第１の位置は、位置Ｒ１であってもよく、第２の位置は、位置Ｒ１よりも粒子の中心から更に遠い位置Ｒ２であってもよい。場合によっては、第２の位置は、粒子の中心近く又は第１の領域に最も近い第２の領域の部分にあってもよく、第２の位置は、粒子の外面近く又は粒子の外面に最も近い第２の領域の部分にあってもよい。場合によっては、第１及び第２の位置は、第２の領域の厚さの少なくとも８０パーセント、又は少なくとも８５パーセント、又は少なくとも９０パーセント、半径方向に離れている。屈折率の変化の割合は、屈折率の動径座標による微分係数の大きさであると理解され得る。図２に例示されている実施形態などのいくつかの実施形態において、屈折率は、第１の位置よりも第２の位置においてより急速に変化する。

いくつかの実施形態において、屈折率の動径座標による微分係数の絶対値は、動径座標が増加するとともに、第２の領域の厚さ方向に単調に増加するか、又は動径座標が増加するとともに、第２の領域の厚さの少なくとも８０パーセント、又は少なくとも９０パーセント、又は実質的に全厚にわたって単調に増加する。いくつかの実施形態において、屈折率は、第２の領域の少なくともある部分にわたって放物線状に（増加又は減少のいずれであっても）変化し、いくつかの実施形態において、屈折率は、第２の領域の全厚又は実質的に全厚にわたって放物線状に（増加又は減少のいずれであっても）変化する。屈折率が放物線状に変化する実施形態では、屈折率の動径座標による微分係数の絶対値は、動径座標とともに直線的に単調に増加する。別の実施形態において、屈折率の動径座標による微分係数の絶対値は、直線的増加よりも緩慢に若しくは急速に増加し得、又は直線的増加と比較してより緩慢に増加する第２の領域の部分もあれば、より急速に増加する第２の領域の部分もあり得る。

動径座標の関数としての粒子の屈折率の略図である図３に、代替の実施形態を示す。第２の領域における屈折率３２２は単調に増加しており、一方、第１の領域における屈折率３１２は実質的に一定である。この場合、屈折率は、粒子の中心から粒子の外面まで、動径座標の連続関数である。粒子の組成もまた、粒子の中心から粒子の外面まで、動径座標の連続関数であってもよい。

図２〜３に例示されている実施形態において、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に単調に増加している。別の実施形態において、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に単調に減少し得る。更に別の実施形態において、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に非単調に変化し得る。図４は、動径座標の関数としての粒子の屈折率の略図である。この場合、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に非単調に変化する。より詳細には、この場合、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に、実質的に正弦波形の変化を有する。

いくつかの実施形態において、第２の領域における最大屈折率と第２の領域における最小屈折率との差は、少なくとも０．０５、又は少なくとも０．１、又は少なくとも０．１５であり、０．０５〜０．３の範囲であり得る。いくつかの実施形態において、屈折率は、第２の領域の厚さ方向に、少なくとも０．０５、又は少なくとも０．１、又は少なくとも０．１５の振幅で、実質的に正弦波形の変化を有する。図４に例示されている実施形態において、正弦波形の変化の振幅は約０．２である。別段の定めがない限り、屈折率（refractive index）又は屈折率（index of refraction）は、２５℃での５８９ｎｍの波長を有する光（ナトリウムＤ線）に対する屈折率を指す。

図５は、第１の領域５１０と、複数の相互に同心の層を有する第２の領域５２０と、を有する粒子５００の断面図である。第１の領域５１０は、外面５１１を有する種粒子に相当し得る。第２の領域５２０は、外面５２１並びに相互に同心の第１、第２及び第３の層５２２、５２４及び５２６を有する。粒子５００は、種から粒子を成長させ、成長している粒子にモノマーを連続的に供給するがモノマーの組成は不連続的に変化させ、３つの別個の層５２２、５２４及び５２６を生じることによって、調製することができる。成長している粒子にモノマーを連続的に供給することによって、第１の層のモノマーは隣接する層中で形成されたポリマーと反応して、種の外面５１１から粒子の外面５２１までわたって存在するコポリマーを形成する。例えば、第１の層５２２は、成長している粒子に第１のモノマーのタイプのモノマーを供給することによって成長させてもよい。モノマーは層中で成長している鎖と反応して、層を成長させる。モノマーの組成は急に変えてもよく、第２のタイプのモノマーを供給してもよい。モノマーは連続的に供給されるため、第２のタイプのモノマーは、第１の層５２２において開始した成長鎖と反応して、第２の層５２４を形成する。モノマーの組成を再び急に変えてもよく、第３のタイプのモノマーを供給して、第１の層５２２において開始したポリマー鎖を成長させ続け、第２の層５２４を過ぎても連続させて第３の層５２６を形成させてもよい。第２のタイプのモノマーは、第１及び第３のタイプのモノマーとは異なり得る。第１及び第３のタイプのモノマーは、同じであってもよく、又は異なっていてもよい。層のそれぞれにおいて使用されるモノマーは別個のものであってもよく、又は同じ群のモノマーの異なるブレンドが、異なる層において使用されてもよい。このように製造された粒子は、隣接する層の間に共有結合を有し、界面接着によってのみ結合されている隣接層を有する粒子よりも強固である。

粒子５００は、第２の領域５２０の厚さ方向に不連続的に変化する屈折率及び組成を有する。場合によっては、屈折率が１つの層から隣接する層まで連続的に変化する様々な層の間に、移行領域を設けることが望ましい場合がある。これにより、粒子の望ましい光学的特性を保持しながら、屈折率の不連続性による光学的影響を和らげることができる。これは、図６及び７に示されている。

図６は、第１の領域６１０と、複数の相互に同心の層を含む第２の領域６２０と、を有する粒子６００の断面図である。第１の領域６１０は、外面６１１を有する種粒子に相当し得る。第２の領域６２０は、外面６２１；並びに第１、第２及び第３の層６２２、６２４及び６２６；並びに第１及び第２の移行領域６２３及び６２５を有する。粒子６００は、１つの層から次の層に移行する際にモノマーの組成を急に変化させる代わりに、組成を連続的に変化させて第１及び第２の移行領域６２３及び６２５を形成させることを除いて、粒子５００に関して記述したように製造することができる。組成及び屈折率は、各移行領域の厚さ方向に連続的に変化し得る。移行領域を含むことによって、組成及び屈折率は、種の外面６１１から粒子６００の外面６２１まで、連続的に変化し得る。いくつかの実施形態において、組成及び屈折率が粒子の中心から粒子の外面６２１まで連続的に変化するように、第１の領域６１０と第１の層６２２との間に更なる移行領域が含まれる。

各移行領域は、３０ｎｍを超える又は５０ｎｍを超える厚さを有し得る。各移行領域は、移行領域に隣接する層の最小厚さの１／２又は１／３又は１／５未満の厚さを有し得る。例えば、第１の移行領域６２３は、第１の層６２２及び第２の層６２４のうちのより薄い方の厚さの１／２又は１／３又は１／５未満の厚さを有し得る。

図７は、外半径Ｒを有する粒子に関する動径座標の関数としての屈折率を示す。粒子は、１．５５の屈折率を有し、粒子の中心からＲの約１０分の１の半径までにわたる、種に相当し得る第１の領域を有する。粒子は、屈折率が１．４５と１．５５で交互に繰り返す５つの層を含む。移行領域は、各層の間、及び第１の領域と第１の層との間に含まれる。粒子の屈折率及び組成は、粒子の中心から粒子の外面まで連続的に変化する。代替の実施形態において、粒子が不連続的に変化する屈折率を有するように、移行領域は含まれない。

屈折率は層ごとに交互に変わってもよく、又は何らかの他の屈折率分布が使用されてもよい。層は、同じ若しくは異なる厚さ、同じ若しくは異なる体積をそれぞれ有してもよく、又は層の厚さ若しくは体積の何らかの他の変化を使用してもよい。いくつかの実施形態において、層の厚さは交互に厚くなったり薄くなったりする。

層状粒子の層の数は特に限定されないが、任意の好適な範囲で変化し得る。いくつかの実施形態において、粒子は、第１の領域と、少なくとも２層、又は少なくとも３層、又は少なくとも５層、又は少なくとも１０層、又は少なくとも１５層、又は少なくとも２０層を含み、かつ３００層未満、２５０層未満、２００層未満、１５０層未満又は１００層未満を含む第２の領域と、を含む。

いくつかの実施形態において、マトリックス（例えば、樹脂又は接着剤）と、複数の本明細書の粒子と、を含む組成物が提供される。マトリックスは、実質的に透明（例えば、マトリックスの層又は組成物の層が、４００〜７００ｎｍの波長範囲の光の少なくとも８０パーセント、又は少なくとも９０パーセントを透過させる）であってもよく、粒子の外面における第２の屈折率とほぼ同じであり得る第１の屈折率を有してもよい。例えば、第１の屈折率と第２の屈折率との差の絶対値は、０．０５未満、又は０．３未満、又は０．０２未満又は０．０１未満であり得る。いくつかの実施形態において、粒子をマトリックス中に組み込むことによって粒子の外面における粒子の屈折率が変化しないように、マトリックス材料は粒子から実質的に排除されている。これは、例えば、粒子をポリマー感圧性接着剤などのポリマー層中に分散させる場合に行われ得る。いくつかの実施形態において、粒子の外側部分にマトリックス材料が存在することによって粒子の外面における粒子の屈折率が変わるように、マトリックスの材料は粒子の外側部分に部分的に浸透する。そのような実施形態において、粒子の外側部分とマトリックスとの屈折率差は小さく、実質的にゼロであり得る。マトリックスが実質的に硬化（例えば、熱硬化又は紫外線（ＵＶ）硬化などの放射線硬化）されていてもよいモノマーを含む場合、マトリックス材料は粒子に部分的に浸透してもよい。モノマーは、粒子に浸透し、その後マトリックスが硬化されるときにその位置で硬化されてもよい。

好適な実質的に透明なマトリックス材料としては、ポリマー、コポリマー及び／又は光学的に透明な接着剤が挙げられる。好適なポリマー又はコポリマーとしては、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリオレフィン、ポリエポキシド、ポリエーテル及びこれらのコポリマーが挙げられる。マトリックスとして使用することができる好適な接着剤としては、感圧性接着剤（ＰＳＡ）及びホットメルト接着剤が挙げられる。マトリックス材料は、ＵＶ硬化性アクリレートなどの硬化性液体であってもよい。

本明細書の粒子は、ある特定の用途において有用であり得る様々な光学的特性を提供できることが見出されている。例えば、いくつかの実施形態において、この粒子を含有する組成物は、フィルム又は接着剤層又は複数の層を含むフィルムの１つ以上の層を形成させるために使用される。そのようなフィルム又は層は、ディスプレイ用途において使用され得る散乱制御層を提供するために使用されてもよい。例えば、本明細書に記載の粒子を含む散乱制御層は、ディスプレイに含まれる場合に好ましくないスパークルを低減する、スパークル防止層として使用されてもよい。ディスプレイのスパークルは、ディスプレイに対して見る人の位置がわずかに変わるとともに動き回る又はちらつくようにみえる粒状パターンと説明することができる。ディスプレイのスパークルは、典型的にはディスプレイ表面において、不均一な光の光路と相互に影響する画素からの光によって引き起こされ得る。画素光と前記不均一性の相互影響のために、画素からの光は、見る人が動くときに動き回る又はちらつくように見え得る。そのような不均一性は、ディスプレイに増設され得るフィルム又は他の層に由来する構造又は表面性状を含み得る。例えば、防眩フィルムの表面性状は、表面からの鏡面反射を低減させ、それによりグレアを低減させるために含まれることが多い。スパークルを生じる可能性がある不均一性はまた、ディスプレイ表面の指紋、擦り傷又は他の残留物も含む。いくつかの実施形態において、散乱制御層又はスパークル防止フィルム中に含まれる粒子は、制御された回折、屈折又はそれらの組み合わせをもたらすように選択され、ディスプレイ中に組み込まれたとき、知覚されるディスプレイ解像度を実質的に維持しながらスパークルを大幅に低減させることができる。

いくつかの実施形態において、本明細書の粒子を含む層は、例えばナノ粒子又はナノワイヤーなどの他の機能を有する他の粒子を含み得る。いくつかの実施形態において、ハードコート層は、層の硬度を高めるために無機ナノ粒子とともに、アクリレートバインダー又はマトリックス中に本明細書の粒子を含有し得る。いくつかの実施形態において、本明細書の粒子は、押し出されて光学フィルム又は光学フィルム中の１つ以上の層を形成する材料中に含まれ得る。いくつかの実施形態において、本明細書の粒子は、射出成型部品を形成するために使用される樹脂中に粒子を含むことによって、射出成型部品中に含まれ得る。

図８は、スパークル防止フィルムとして又はスパークル防止フィルム中の層として使用するのに好適であり得る散乱制御層であり得る層８０１の断面図である。層８０１は、本明細書に記載の粒子のいずれかに相当し得る複数の粒子８００を含む。コリメートされたビーム８４０を、図８に概略的に示す。コリメートされたビーム８４０が層８０１を通過するとき、光の出力分布８４２が生じる。いくつかの実施形態において、コリメートされたビーム８４０が層８０１を（又は層８０１を含むスパークル防止フィルムを）通過するとき、コリメートされたビームの約３０パーセント超が、大気中で測定して２〜１０度で散乱し、コリメートされたビームの３０パーセント未満が、大気中で測定して１０度超で散乱する。いくつかの実施形態において、コリメートされたビーム８４０が層８０１を（又は層８０１を含むスパークル防止フィルムを）通過するとき、光出力分布は、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む。層８０１は、制御された回折、屈折又は回折と屈折の組み合わせをもたらすといってもよい。

コリメートされたビーム８４０が層８０１を（又は層８０１を含むスパークル防止フィルムを）通過するときに生じ得る光出力分布を、散乱角の関数としての出力分布のプロットを示す図９に概略的に示す。出力分布は、第１の最大強度Ｉ_１を有する中心突出領域９７２を含み、第２の最大強度Ｉ_２を有する環状領域９７４を含む。図９において、環状領域９７４の断面は、プロットの両側に２つのピークとして現れている。中心突出領域９７２と環状領域９７４との間の領域９７６は、Ｉ_１の１／２未満かつＩ_２の１／２未満の強度を有し得る。いくつかの実施形態において、中心突出領域９７２と環状領域９７４との間の領域９７６の少なくともいくらかの部分は、Ｉ_１の１０分の１未満かつＩ_２の１０分の１未満の強度を有し得る。いくつかの実施形態において、Ｉ_２をＩ_１で割ったものは、約０．０５〜約１．０の範囲である。環状領域９７４における最大強度Ｉ_２の位置と中心突出領域９７２における最大強度Ｉ_１の位置の間の散乱角の差は、１度超、又は２度超、又は３度超であり得、かつ３０度未満、又は２５度未満、又は２０度未満であり得る。中心突出領域９７２における最大強度Ｉ_１の位置は、１度未満の大きさを有する散乱角にあってもよく、又は実質的にゼロの散乱角にあってもよい。

いくつかの実施形態において、多層フィルムの少なくとも１つの層が本明細書による粒子を含む組成物である、多層フィルムが提供される。例えば、層８０１に相当し得る層１００１を含む、３つの層を有する多層フィルム１００２を示す図１０に、例を示す。多層フィルムは、例えばハードコート層であってもよい層１０５２と、例えば接着剤層であってもよい層１０５４と、を更に含む。ハードコート層は、硬化したときに、材料が外層となり得る用途において適切な鉛筆硬度又は耐摩耗性を提供するのに十分な硬度を有する樹脂から形成され得る。例えば、硬化したハードコート樹脂は、ＨＢを超える又はＨを超える鉛筆硬度を提供し得る。好適なハードコート樹脂としては、無機ナノ粒子を含み得るアクリル系樹脂が挙げられる。光学的に透明な接着剤層であってもよい好適な接着剤層としては、感圧性接着剤（ＰＳＡ）及びホットメルト接着剤が挙げられる。層１０５４において使用され得る、かつ／又は層１００１中のマトリックスとして使用され得る有用な接着剤としては、全て３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能な、弾性ポリウレタン又はシリコーン接着剤並びに粘弾性の光学的に透明な接着剤ＣＥＦ２２、８１７ｘ及び８１８ｘが挙げられる。他の有用な接着剤としては、スチレンブロックコポリマー、（メタ）アクリルブロックコポリマー、ポリビニルエーテル、ポリオレフィン及びポリ（メタ）アクリレートベースのＰＳＡが挙げられる。多層フィルム１００２は、ディスプレイの外面に接着され得るスパークル防止フィルムとして使用されてもよい。

図１１は、ディスプレイ１１５０上に配置されたフィルム又は層１１０３を概略的に示す。フィルム又は層１１０３は、例えば層８０１又は多層フィルム１００２に相当し得る。フィルム又は層１１０３は、例えば散乱制御層又はスパークル防止フィルムであってもよい。

本明細書のいくつかの態様において、本明細書に記載の粒子の１層以上の規則的な層が提供される。層の総数は、例えば１〜３の範囲であってもよい。数層だけ（例えば、１、２又は３層）を使用することにより、個々の粒子の光学的効果を保持することができる。図１２は、３層の規則的な層に配列された粒子１２００を含む１層以上の規則的な層１２０４を示す。１層以上の規則的な層１２０４は、例えば、基材上への溶液堆積によって調製することができる。コリメートされたビーム１２４０を図１２に概略的に示す。コリメートされたビーム１２４０が１層以上の規則的な層１２０４を通過するとき、光の出力分布１２４２が生じる。いくつかの実施形態において、コリメートされたビーム１２４０が粒子の１層以上の規則的な層１２０４を通過するとき、コリメートされたビームの約３０パーセント超が、大気中で測定して２〜１０度で散乱し、コリメートされたビームの３０パーセント未満が、大気中で測定して１０度超で散乱する。いくつかの実施形態において、コリメートされたビーム１２４０が１層以上の層１２０４を通過するとき、光出力分布は、図９に概略的に示すように、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む。いくつかの実施形態において、中心突出領域と環状領域の間の領域は、突出領域の第１の最大強度Ｉ_１の２分の１未満かつ環状領域の第２の最大強度Ｉ_２の２分の１未満の強度を有し得る。いくつかの実施形態において、中心突出領域と環状領域の間の領域の少なくともいくらかの部分は、Ｉ_１の１０分の１未満かつＩ_２の１０分の１未満の強度を有し得る。いくつかの実施形態において、第２の最大強度を第１の最大強度で割ったものは、約０．０５〜約１．０の範囲である。いくつかの実施形態において、環状領域における最大強度Ｉ_２の位置と中心突出領域における最大強度Ｉ_１の位置の間の散乱角の差は、１度超、又は２度超、又は３度超であり得、かつ３０度未満、又は２５度未満、又は２０度未満であり得る。１層以上の規則的な層１２０４は、制御された回折、屈折又は回折と屈折の組み合わせをもたらすといってもよい。

図１３は、反応器１３６０を使用して本明細書による粒子を製造する方法を概略的に示す。反応器１３６０に、溶液中にあってもよい１つ以上の種粒子１３６２を初めに投入する。モノマーを、第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６を通して種に供給する。第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６の一方又は両方は、モノマーに加えて開始剤を含んでもよい。第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６は、異なる組成のモノマーを含有する。第１のモノマー流１３６４は、第２のモノマー流１３６６中のモノマーとは異なるモノマーを含有してもよく、又は第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６は、同じ又は重複する１組若しくは複数組のモノマーの異なるブレンドを含有してもよい。第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６の全体の流量は一定であってもよく、又は、粒子が成長している間、連続的に又は不連続的に変化してもよい。粒子の第２の領域の端から端まで及ぶコポリマーが形成されるように、成長している粒子にモノマーを連続的に供給することが望ましい。したがって、第１及び第２のモノマー流の流入が終了した後に粒子は反応器１３６０中の残留モノマーと反応し続けることがあるとはいえ、第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６の全体の流量は、粒子の成長が実質的に完了するまでゼロより大きくしておくことが望ましい。反応が完了した後の種の径及び粒子の径は、本明細書の他の箇所に記載されているいずれかの範囲内であり得る。例えば、最終的な粒径は、種の直径の少なくとも２倍、又は少なくとも５倍、又は少なくとも１０倍であり得る。

第１及び第２のモノマー流の流量をそれぞれ連続的に変化させて、種の外側にある成長した粒子領域中でそれぞれ連続的に変化する、半径方向に変化する組成及び半径方向に変化する屈折率を有する単層を提供してもよく、又は第１及び第２のモノマー流の流量を不連続的に変化させて、複数の層を提供してもよい。層間に移行領域を有する粒子は、本明細書の他の箇所に記載されているように、モノマー流量を適切に選択することによって形成させることができる。

いくつかの実施形態において、成長している粒子に供給されるモノマーは第１のタイプの分子及び第２のタイプの分子を含み、第１のタイプのモノマー数と第２のタイプの分子数の比は、時間とともに変化する。例えば、第１のモノマー流１３６４は第１のタイプの分子を含み得、第２のモノマー流１３６６は第２のタイプの分子を含み得、第１のモノマー流１３６４及び第２のモノマー流１３６６の相対流量は時間とともに変化し得る。いくつかの実施形態において、成長している粒子に供給されるモノマーは、初回には第１のタイプの分子を含み、２回目には第１のタイプとは異なる第２のタイプの分子を含む。いくつかの実施形態において、成長している粒子に供給されるモノマーは、初回には第１のタイプの分子から本質的になり、２回目には第２のタイプの分子から本質的になる。

任意の好適な数のモノマー流を反応器に供給することができる。図１３に示す実施形態において、２つのモノマー流のみが供給される。別の実施形態において、２つを超えるモノマー流が供給され得る。例えば、３つ又は４つ以上のモノマー流が提供されてもよい。２つを超えるモノマー流を使用することにより、粒子中でより複雑にモノマーを分布させることが可能となる。例えば、ＡＢＣＡＢＣという形の層（Ａ、Ｂ及びＣは３つの別個のモノマーを有する層を表す）を有する粒子を形成させることができる。

種の表面に隣接してモノマーを反応させ、粒子を成長させることによって、変化する屈折率を有する粒子を調製した。接着剤と粒子の混合物をフィルム上にコーティングすることによって、スパークル防止フィルムを調製した。

これらの実施例は、単に例示のために過ぎず、添付の特許請求の範囲を限定することを意図していない。実施例及び本明細書のその他の箇所における全ての部、百分率、比などは、特に断りのない限り、重量による。

添加する前に、スチレンをシリカカラムに通して阻害物質を除去した。他の原材料（ＲＭ）は全て、特に断りのない限り、納入状態のまま使用した。

試験方法：
粒径
粒径分析器（Ｎ４ＭＤ Ｓｕｂ−ｍｉｃｒｏｎ Ｐａｒｔｉｃｌｅ Ａｎａｌｙｚｅｒ）を使用して、粒子の径を測定した。投入材料は、製造業者の使用説明書の指示通り、５．００Ｅ＋０４〜１．００Ｅ＋０６カウント／秒の強度範囲まで希釈した。

実施例：
種粒子１調製
可変速撹拌機、窒素パージ管、冷却器及び記録調節計を取り付けた２０００ｍＬフラスコ中で、種粒子を成長させた。１ｌｐｍ（リットル毎分）の窒素でパージしながら、表１の材料をフラスコに入れた。

窒素パージを１時間続けながら、フラスコを２５０ｒｐｍで撹拌し、５０℃まで加熱し、その後、開始剤投入量である０．５５ｇの過硫酸カリウム、０．２２ｇのメタ重亜硫酸ナトリウム及び０．９１ｇの硫酸鉄（ＩＩ）七水和物（０．２％水溶液）をフラスコに加えた。反応温度の上昇により重合開始が示され、窒素パージを０．５ｌｐｍまで減らした。反応開始から７０℃のピーク温度までの時間は、３１分であった。この時点で、温度を８０℃まで上昇させ、２時間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

種粒子１を、前述の試験方法を使用して測定した。

種粒子１ 径−平均径１０５ｎｍ、９５％限界９９．８〜１１０ｎｍ、標準偏差（Ｓ．Ｄ．）３１ｎｍ。

種粒子２調製
種粒子を、３２ｏｚ（９４６ｍｌ）の細口褐色瓶中で成長させた。表２の材料を瓶に入れ、次に３ｌｐｍの窒素で１０分間パージし、その後密封した。

瓶を回転式恒温水槽に入れ、そこで３５ｒｐｍで回転させ、２４時間７０℃に加熱した。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

種粒子２を、前述の試験方法を使用して測定した。

種粒子２ 径−平均径２６９ｎｍ、９５％限界２４９〜２９０ｎｍ、Ｓ．Ｄ．８２ｎｍ。

参照粒子１ ステップ１
可変速撹拌機、窒素パージ管、冷却器及び記録調節計を取り付けた２０００ｍＬフラスコ中で、粒子を成長させた。開始剤投入量として１０ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、投入量として８０ｇの種粒子１をフラスコに加え、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。フラスコを１２０ｒｐｍで撹拌し、８０℃まで加熱し、この温度で窒素パージを０．５ｌｐｍまで減らし、２つの供給原料をフラスコ中に送液した。２つのシリンジポンプを使用して２つの供給原料を供給した。供給原料１には水性の投入原料を入れ、供給原料２には有機の投入原料を入れた。表３の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを表４に記載する。

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ１ 径−平均径１３３ｎｍ、９５％限界１２６〜１４０ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

参照粒子１ステップ２
ステップ１の材料をフラスコに入れたままにし、１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。下記の表５の材料を、８ｏｚ（２３７ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを下記の表６に記載する：

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ２ 径−平均径１８５ｎｍ、９５％限界１７３〜１９７ｎｍ、Ｓ．Ｄ．５５ｎｍ。

参照粒子１ステップ３
開始剤投入量として２５ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、ステップ２の材料（２００ｇ）をフラスコに入れたままにし、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。表７の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを表８に記載する。

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ３ 径−平均径２００ｎｍ、９５％限界１８７〜２１３ｎｍ、Ｓ．Ｄ．４７ｎｍ。

参照粒子１ステップ４
開始剤投入量として２５ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、ステップ３の材料の一部（２００ｇ）をフラスコに入れたままにし、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。表９の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを表１０に記載する。

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ４ 径−平均径２２４ｎｍ、９５％限界２０８〜２３９ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

参照粒子１ステップ５
開始剤投入量として２５ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、ステップ４の材料の一部（２００ｇ）をフラスコに入れたままにし、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。表１１の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを表１２に記載する。

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ５ 径−平均径２４４ｎｍ、９５％限界２２６〜２６２ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

参照粒子１ステップ６
開始剤投入量として２５ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、ステップ５の材料の一部（２００ｇ）をフラスコに入れたままにし、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。下記の表１３の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。使用した送液プログラムを下記の表１４に記載する：

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ６ 径−平均径２６９ｎｍ、９５％限界２４９〜２９０ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

参照粒子１ステップ７
開始剤投入量として２５ｇのＶＡ−０６１（１％水溶液）とともに、ステップ６の材料の一部（２００ｇ）をフラスコに入れたままにし、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。前述の同じ手順及び設備を使用した。表１５の材料を、４ｏｚ（１１８ｍｌ）細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。送液プログラムを表１６に記載する。

供給原料が止まったら、温度を８０℃に３０分間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

参照粒子１ステップ７ 径−平均径２９２ｎｍ、９５％限界２６８〜３１５ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

実施例粒子１
ステップ間で反応を停止させないことを除いて、参照粒子１に関して記述したように粒子を成長させる。代わりに、前のステップの原材料供給を停止したら直ちに、各ステップの原材料供給を開始する。得られる粒子は、参照粒子１に関して記述された径及び層構造を有するが、反応が停止されないため、種から粒子の外面までわたって存在するコポリマーが形成される。

実施例粒子２
可変速撹拌機、窒素パージ管、冷却器及び記録調節計を取り付けた２０００ｍＬフラスコ中で、粒子を成長させた。開始剤投入量として０．５ｇの過硫酸カリウムとともに、投入量として５００ｇの種粒子２をフラスコに加え、その間ずっと１ｌｐｍの窒素でパージした。フラスコを１７０ｒｐｍで撹拌し、７０℃まで加熱し、この温度で窒素パージを０．５ｌｐｍまで減らし、３つの供給原料をフラスコ中に送液した。３つのシリンジポンプを使用して３つの供給原料を供給した。供給原料１には水性の投入原料を入れ、供給原料２にはスチレン投入原料を入れ、供給原料３にはメタクリル酸メチル投入原料を入れた。表１７の材料を、細口ガラスジャー（各供給原料につき１つのジャー；供給原料１は１６ｏｚ（４７３ｍｌ）ジャー、供給原料２及び３は４ｏｚ（１１８ｍｌ）ジャー）に加え、ジャーにセプタムをはめ込み、３ｌｐｍの窒素で１０分間パージした。

ジャーから投入原料をシリンジで吸引し、シリンジポンプにセットし、フラスコに接続した。使用した送液プログラムを下記の表１８に記載する。供給原料１の流量は一定のままであったが、供給原料２及び供給原料３では供給時間にわたって直線的に変化したことに留意されたい。

供給原料が止まったら、温度を４０℃に１時間維持して重合を完了させた。得られた材料をチーズクロスで濾過した。

前述の試験方法を使用して測定を行った。

実施例粒子２ 径−平均径４３６ｎｍ、９５％限界３９３〜４７８ｎｍ、Ｓ．Ｄ．狭い。

粒径データをまとめたものを表１９に示す。体積は、前述に記載されている直径を使用して、球の体積を求める公式（体積＝４π／３×半径^３）を使用して算出した。第２の領域の体積パーセントは、１００パーセント×（総体積−種体積）／総体積として決定した。

スパークル防止フィルム
以下の材料を一緒に混合し、ローラー上に１時間置いた：
９０．８ｗｔ％のエマルションＰＳＡ、
９．２ｗｔ％の参照粒子１ステップ７で製造した粒子。

次にこの混合物を、防眩フィルム基材上にコーティングした。コーティングは、防眩コーティングされた側とは反対側に行った。ギャップを５ミル（１２７マイクロメートル）に設定した卓上ナイフコータを使用して、基材上に溶液をコーティングした。ナイフコータから引き出した後、１１０℃のオーブン中に１０分間置いた。フィルムを適当な大きさに切断し、７”ＫＩＮＤＬＥ ＦＩＲＥ ＨＤＸに積層した。スパークルは、ＳＭＳ １０００ Ｓｐａｒｋｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍを使用して測定した。

参照粒子１の代わりに実施例粒子１を使用したこと以外は同じように製造されたフィルムでは、同様の光学的特性が予想される。

比較フィルム
接着剤でコーティングされた防眩フィルムを、スパークルに関する比較フィルムとして使用した。９０．８ｗｔ％のエマルションＰＳＡをフィルム上にコーティングし、前述の通り乾燥させた。接着剤は、添加された粒子を有さないものであった。フィルムを適当な大きさに切断し、７”ＫＩＮＤＬＥ ＦＩＲＥ ＨＤＸに積層した。スパークルは、ＳＭＳ １０００ Ｓｐａｒｋｌｅ Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ Ｓｙｓｔｅｍを使用して測定した。

比較フィルムは、スパークル測定値が１２．４であり、スパークル防止フィルムは、スパークル測定値が８．７であった。

散乱制御層
マトリックス中に分散した粒子の光学的特性は、Ｌｕｍｅｒｉｃａｌ時間領域有限差分法（finite-difference time-domain）（ＦＤＴＤ）シミュレーションソフトウェア（バージョン８．６．０、Ｌｕｍｅｒｉｃａｌ Ｓｏｌｕｔｉｏｎｓ（Ｖａｎｃｏｕｖｅｒ，Ｂ．Ｃ．，カナダ）から入手可能）を使用して算出した。屈折率が変化する粒子を有する散乱制御層を、ＦＤＴＤシミュレーションを使用してシミュレートした。粒子は、屈折率が１．５５である種（第１の領域）と、種に隣接する側の屈折率が１．６８５であり、表面での屈折率が１．４７である外側領域（第２の領域）と、を有するとしてモデル化した。種直径は０．３マイクロメートルであり、粒子は６マイクロメートルの外径（３マイクロメートルの半径）を有していた。粒子を、屈折率が１．４７であるマトリックス中に分散させた。粒子は低い粒子密度を有し、そのため、単一粒子によって決定される散乱プロファイルが散乱制御層を表すであろうと想定した。シミュレーションソフトウェアによって遠方界電界の２乗（｜Ｅ｜^２）を決定したが、これは透過光の強度に比例する。直線的屈折率勾配に関して、及び放物線状屈折率プロファイルに関して、散乱プロファイル（散乱角の関数としての光出力分布（｜Ｅ｜^２又は強度））を決定した。直線的及び放物線状屈折率プロファイルに関してそれぞれ得られたプロファイルを、図１４及び１５に示す。各プロットは、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を有する光出力分布を示す。放物線状屈折率プロファイルを有する粒子を使用することにより、一部の用途において望ましい場合がある、より強い環状領域が生じた。

２マイクロメートルの直径（１マイクロメートルの半径）を有する粒子に関してシミュレーションを繰り返した。結果を図１６に示す。各光出力分布は、中心突出領域、環状領域、及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を有する。やはり放物線状屈折率プロファイルを有する粒子を使用することにより、直線的屈折率プロファイルの粒子を使用するより強い環状領域が生じたが、これは、一部の用途において望ましい場合がある。

以下は、本明細書の例示的な実施形態のリストである。

実施形態１は、第１の領域と、第１の領域を取り囲む第２の領域と、を有する粒子であって、第２の領域の体積は、粒子の体積の少なくとも７５パーセントであり、第２の領域は、第２の領域の厚さの全厚にわたって存在するコポリマーを含み、粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、第２の領域の厚さ方向に変化する、粒子である。

実施形態２は、第２の領域の体積が、粒子の体積の少なくとも８５パーセントである、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態３は、第２の領域の体積が、粒子の体積の少なくとも９５パーセントである、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態４は、第２の領域の体積が、粒子の体積の少なくとも９９パーセントである、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態５は、第２の領域の体積が、粒子の体積の少なくとも９９．９パーセントである、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態６は、第２の領域における最大屈折率と第２の領域における最小屈折率との差が、少なくとも０．０５である、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態７は、第２の領域における最大屈折率と第２の領域における最小屈折率との差が、少なくとも０．１である、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態８は、屈折率が、第２の領域の厚さ方向に単調に変化する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態９は、屈折率が、第２の領域の厚さ方向に非単調に変化する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態１０は、屈折率が、第２の領域の厚さ方向に、実質的に正弦波形の変化を有する、実施形態９に記載の粒子である。

実施形態１１は、実質的に正弦波形の変化が、少なくとも０．０５の振幅を有する、実施形態１０に記載の粒子である。

実施形態１２は、第１の領域が、約１ｎｍ〜約４００ｎｍの範囲の直径を有する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態１３は、粒子が、約１００ｎｍ〜約１０マイクロメートルの範囲の外径を有する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態１４は、組成及び屈折率のそれぞれが、第２の領域の厚さ方向に連続的に変化する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態１５は、屈折率が、粒子の中心から粒子の外面まで連続的に変化する、実施形態１４に記載の粒子である。

実施形態１６は、屈折率が、第２の領域中の第１の位置においてゼロでない第１の割合で変化し、第２の領域中の第２の位置において第１の割合とは異なるゼロでない第２の割合で変化し、第２の位置が、第１の位置よりも粒子の中心から更に遠い、実施形態１４に記載の粒子である。

実施形態１７は、第２の割合の絶対値が、第１の割合の絶対値よりも大きい、実施形態１６に記載の粒子である。

実施形態１８は、第１及び第２の位置が、第２の領域の厚さの少なくとも８０パーセント、半径方向に離れている、実施形態１７に記載の粒子である。

実施形態１９は、屈折率の動径座標による微分係数の絶対値が、動径座標が増加するとともに、第２の領域の厚さの少なくとも８０パーセントにわたって単調に増加する、実施形態１４に記載の粒子である。

実施形態２０は、屈折率の動径座標による微分係数の絶対値が、動径座標が増加するとともに、第２の領域の厚さ方向に単調に増加する、実施形態１４に記載の粒子である。

実施形態２１は、第２の領域が、
複数の相互に同心の層を含み、各層が実質的に一定の屈折率を有し、
隣接する層同士が異なる屈折率を有する、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態２２は、隣接する層間の屈折率の差が、少なくとも０．０５である、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２３は、隣接する層間の屈折率の差が、少なくとも０．１である、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２４は、各層が、交互に繰り返す屈折率を有する、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２５は、隣接する層同士が異なる厚さを有する、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２６は、各層が、交互に変わる厚さを有する、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２７は、各層が、約３０ｎｍ〜約５００ｎｍの範囲の厚さを有する、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２８は、隣接する層間の移行領域を更に含み、
移行領域のそれぞれが、連続的に変化する屈折率及び直接隣接する層の最小厚さの約１／３未満の厚さを有する、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態２９は、移行領域のそれぞれの厚さが、直接隣接する層の最小厚さの約１／５未満である、実施形態２８に記載の粒子である。

実施形態３０は、少なくとも３層の相互に同心の層を含む、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態３１は、少なくとも５層の相互に同心の層を含む、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態３２は、３層〜３００層の相互に同心の層を含む、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態３３は、５層〜３００層の相互に同心の層を含む、実施形態２１に記載の粒子である。

実施形態３４は、粒子が実質的に球形である、実施形態１に記載の粒子である。

実施形態３５は、第１の屈折率を有する実質的に透明なマトリックスと、マトリックス中に分散した、実施形態１〜３４のいずれか１つに記載の複数の粒子と、を含む組成物であって、粒子のそれぞれは、粒子の外面において第２の屈折率を有し、第１の屈折率と第２の屈折率の間の差の絶対値は０．０５未満である、組成物である。

実施形態３６は、第１の屈折率と第２の屈折率の間の差の絶対値が、０．０２未満である、実施形態３５に記載の組成物である。

実施形態３７は、マトリックスの材料が、粒子の外側部分に部分的に浸透する、実施形態３５に記載の組成物である。

実施形態３８は、マトリックスが、粒子から実質的に排除されている、実施形態３５に記載の組成物である。

実施形態３９は、組成物が接着剤である、実施形態３５に記載の組成物である。

実施形態４０は、実施形態３５に記載の組成物を含む散乱制御層である。

実施形態４１は、コリメートされたビームが散乱制御層を通過するとき、光出力分布が、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む、実施形態４０に記載の散乱制御層である。

実施形態４２は、散乱制御層を通過するコリメートされたビームの約３０パーセント超が、大気中で測定して２〜１０度で散乱し、コリメートされたビームの３０パーセント未満が、大気中で測定して１０度超で散乱する、実施形態４０に記載の散乱制御層である。

実施形態４３は、実施形態４０に記載の散乱制御層を有するスパークル防止フィルムである。

実施形態４４は、スパークル防止フィルムを通過するコリメートされたビームの約３０パーセント超が、大気中で測定して２〜１０度で散乱し、コリメートされたビームの３０パーセント未満が、大気中で測定して１０度超で散乱する、実施形態４３に記載のスパークル防止フィルムである。

実施形態４５は、コリメートされたビームがスパークル防止フィルムを通過するとき、光出力分布が、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む、実施形態４３に記載のスパークル防止フィルムである。

実施形態４６は、実施形態４０〜４２のいずれか１つに記載の散乱制御層、又は実施形態４３〜４５のいずれか１つに記載のスパークル防止フィルムを備えるディスプレイである。

実施形態４７は、実施形態３５〜３９のいずれか１つに記載の組成物を含む層を備えるディスプレイである。

実施形態４８は、１つ以上の層を有するフィルムであって、層の少なくとも一部が、実施形態３５〜３９のいずれか１つに記載の組成物を含む、フィルムである。

実施形態４９は、実施形態１〜３９のいずれか１つに記載の粒子の、１層以上の規則的な層である。

実施形態５０は、規則的な層の総数が１〜３の範囲である、実施形態４９に記載の１層以上の規則的な層である。

実施形態５１は、粒子の製造方法であって、
種を準備する工程と、
モノマーを準備する工程と、
種の表面に隣接するモノマーを反応させる工程と、
成長している粒子の表面に隣接するモノマーを反応させることによって、種の直径の少なくとも２倍の外径を粒子が有するまで、粒子を成長させる工程と、を含み、
モノマーが、成長している粒子に連続的に供給され、成長している粒子に供給されるモノマーの組成が、時間とともに変化する、方法である。

実施形態５２は、単層が形成され、単層が、種の表面から粒子の外面までそれぞれ連続的に変化する組成及び屈折率を有する、実施形態５１に記載の方法である。

実施形態５３は、単層が、半径方向に変化する組成及び半径方向に変化する屈折率を有するコポリマーを含む、実施形態５２に記載の方法である。

実施形態５４は、コポリマーが種から粒子の外面までわたって存在する、実施形態５３に記載の方法である。

実施形態５５は、種に直接隣接する単層の組成が、種の組成と実質的に同じであり、組成及び屈折率のそれぞれが、粒子の中心から粒子の外面まで連続的に変化する、実施形態５２に記載の方法である。

実施形態５６は、モノマーが第１のタイプの分子及び第２のタイプの分子を含み、第１のタイプの分子数と第２のタイプの分子数の比が時間とともに変化する、実施形態５１に記載の方法である。

実施形態５７は、モノマーが、初回には第１のタイプの分子を含み、２回目には第１のタイプとは異なる第２のタイプの分子を含む、実施形態５１に記載の方法である。

実施形態５８は、モノマーが、初回には第１のタイプの分子から本質的になり、２回目には第２のタイプの分子から本質的になる、実施形態５７に記載の方法である。

実施形態５９は、複数の層が形成され、各層が、隣接する層とは異なる組成を有する、実施形態５１に記載の方法である。

実施形態６０は、隣接する層同士が、少なくとも０．０５の異なる屈折率を有する、実施形態５９に記載の方法である。

実施形態６１は、隣接する層同士が移行領域によって隔てられており、屈折率が各移行領域中で連続的に変化する、実施形態５９に記載の方法である。

実施形態６２は、粒子が、種から粒子の外面までわたって存在するコポリマーを含む、実施形態５９に記載の方法である。

実施形態６３は、粒子の外径が種の直径の少なくとも１０倍になるまで、成長させる工程が続く、実施形態５１に記載の方法である。

実施形態６４は、１層以上の規則的な粒子層を備える物品であって、粒子の少なくとも一部が、粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する屈折率を有し、コリメートされたビームが粒子を通過するとき、光出力分布が、中心突出領域、環状領域及び中心突出領域と環状領域とを隔てる低強度領域を含む、物品である。

実施形態６５は、１層以上の規則的な粒子層における層の総数が、１〜３の範囲である、実施形態６４に記載の物品である。

実施形態６６は、中心突出領域が第１の最大強度を有し、環状領域が第２の最大強度を有し、低強度領域が、第１の最大強度の１／２未満かつ第２の最大強度の１／２未満の強度を有する、実施形態６４に記載の物品である。

実施形態６７は、第２の最大強度を第１の最大強度で割ったものが、約０．０５〜約１．０の範囲である、実施形態６６に記載の物品である。

実施形態６８は、粒子の少なくとも一部が、粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって存在するコポリマーを含み、コポリマーの組成が、粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する、実施形態６４に記載の物品である。

具体的な実施形態を本明細書において例示し記述したが、図示及び記述されている具体的な実施形態は、本開示の範囲を逸脱することなく様々な代替及び／又は等価の実施で置き換えることができることが、当業者には理解されるであろう。本出願は、本明細書において論じられている具体的な実施形態のいかなる適合例又は変形例も包含することが意図される。したがって、本開示は、特許請求の範囲及びその均等物によってのみ限定されるものとする。

Claims (15)

1. 第１の領域と、前記第１の領域を取り囲む第２の領域と、を有する粒子であって、前記第２の領域の体積は、前記粒子の体積の少なくとも７５パーセントであり、前記第２の領域は、前記第２の領域の厚さの全厚にわたって存在するコポリマーを含み、前記粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、前記第２の領域の厚さ方向に変化する、粒子。
2. 前記第２の領域における最大屈折率と前記第２の領域における最小屈折率との差は、少なくとも０．０５である、請求項１に記載の粒子。
3. 前記組成及び前記屈折率のそれぞれは、前記第２の領域の前記厚さ方向に連続的に変化する、請求項１に記載の粒子。
4. 前記屈折率の動径座標による微分係数の絶対値は、動径座標が増加するとともに、前記第２の領域の前記厚さの少なくとも８０パーセントにわたって単調に増加する、請求項３に記載の粒子。
5. 前記第２の領域は複数の相互に同心の層を含み、各層は実質的に一定の屈折率を有し、隣接する層同士は異なる屈折率を有する、請求項１に記載の粒子。
6. 隣接する層間の移行領域を更に含み、前記移行領域のそれぞれは、連続的に変化する屈折率及び前記直接隣接する層の最小厚さの約１／３未満の厚さを有する、請求項５に記載の粒子。
7. 第１の屈折率を有する実質的に透明なマトリックスと、
   前記マトリックス中に分散した、請求項１〜３４のいずれか一項に記載の複数の粒子と、を含む組成物であって、
   前記粒子のそれぞれは、前記粒子の外面において第２の屈折率を有し、前記第１の屈折率と第２の屈折率の間の差の絶対値は０．０５未満である、組成物。
8. 前記マトリックスの材料は、前記粒子の外側部分に部分的に浸透する、請求項７に記載の組成物。
9. 前記マトリックスは、前記粒子から実質的に排除されている、請求項７に記載の組成物。
10. 請求項７に記載の組成物を含む散乱制御層であって、コリメートされたビームが前記散乱制御層を通過するとき、光出力分布は、中心突出領域、環状領域及び前記中心突出領域と前記環状領域とを隔てる低強度領域を含む、散乱制御層。
11. 請求項１０に記載の散乱制御層を備えるスパークル防止フィルム。
12. 粒子の製造方法であって、
    種を準備する工程と、
    モノマーを準備する工程と、
    前記種の表面に隣接する前記モノマーを反応させる工程と、
    成長している前記粒子の表面に隣接する前記モノマーを反応させることによって、前記種の直径の少なくとも２倍の外径を前記粒子が有するまで、前記粒子を成長させる工程と、を含み、
    前記モノマーは、前記成長している粒子に連続的に供給され、前記成長している粒子に供給される前記モノマーの組成は、時間とともに変化する、方法。
13. 単層が形成され、前記単層の有する組成及び屈折率のそれぞれは、前記種の表面から前記粒子の外面まで連続的に変化する、請求項１２に記載の方法。
14. １層以上の規則的な粒子層を備える物品であって、前記粒子の少なくとも一部は、前記粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する屈折率を有し、コリメートされたビームが前記物品を通過するとき、光出力分布は、中心突出領域、環状領域及び前記中心突出領域と前記環状領域とを隔てる低強度領域を含む、物品。
15. 前記粒子の少なくとも一部は、前記粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって存在するコポリマーを含み、前記コポリマーの組成は、前記粒子の前記直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する、請求項１４に記載の物品。

Images