JP2018513253A5 - - Google Patents

Claims (10)

1. 第１の領域と、前記第１の領域を取り囲む第２の領域と、を有する粒子であって、前記第２の領域の体積は、前記粒子の体積の少なくとも７５パーセントであり、前記第２の領域は、前記第２の領域の厚さの全厚にわたって存在するコポリマーを含み、前記粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、前記第２の領域の厚さ方向に変化する、粒子。
2. 前記第２の領域における最大屈折率と前記第２の領域における最小屈折率との差は、少なくとも０．０５である、請求項１に記載の粒子。
3. 前記組成及び前記屈折率のそれぞれは、前記第２の領域の前記厚さ方向に連続的に変化する、請求項１に記載の粒子。
4. 前記屈折率の動径座標による微分係数の絶対値は、動径座標が増加するとともに、前記第２の領域の前記厚さの少なくとも８０パーセントにわたって単調に増加する、請求項３に記載の粒子。
5. 前記第２の領域は複数の相互に同心の層を含み、各層は実質的に一定の屈折率を有し、隣接する層同士は異なる屈折率を有する、請求項１に記載の粒子。
6. 第１の屈折率を有する実質的に透明なマトリックスと、
   前記マトリックス中に分散した、請求項１〜５のいずれか一項に記載の複数の粒子と、を含む組成物であって、
   前記粒子のそれぞれは、前記粒子の外面において第２の屈折率を有し、前記第１の屈折率と第２の屈折率の間の差の絶対値は０．０５未満である、組成物。
7. 請求項６に記載の組成物を含む散乱制御層であって、コリメートされたビームが前記散乱制御層を通過するとき、光出力分布は、中心突出領域、環状領域及び前記中心突出領域と前記環状領域とを隔てる低強度領域を含む、散乱制御層。
8. 粒子の製造方法であって、
   種を準備する工程と、
   モノマーを準備する工程と、
   前記種の表面に隣接する前記モノマーを反応させる工程と、
   成長している前記粒子の表面に隣接する前記モノマーを反応させることによって、前記種の直径の少なくとも２倍の外径を前記粒子が有するまで、前記粒子を成長させる工程と、を含み、
   前記モノマーは、前記成長している粒子に連続的に供給され、前記成長している粒子に供給される前記モノマーの組成は、時間とともに変化する、方法。
9. １層以上の規則的な粒子層を備える物品であって、前記粒子の少なくとも一部は、前記粒子の直径の少なくとも５０パーセントにわたって変化する屈折率を有し、コリメートされたビームが前記物品を通過するとき、光出力分布は、中心突出領域、環状領域及び前記中心突出領域と前記環状領域とを隔てる低強度領域を含む、物品。
10. 第１の領域と、前記第１の領域を取り囲む第２の領域と、を有する粒子であって、前記第２の領域の体積は、前記粒子の体積の少なくとも７５パーセントであり、前記粒子の有する組成及び屈折率のそれぞれは、前記第２の領域の厚さ方向に連続的に変化する、粒子。