JP2018512311A - 構造化された表面を製造するためのベンテッドツーリングベルト - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2015年4月15日付で出願されたアメリカ仮出願第62/147,681号の利益を主張し、その全体が参照によって含まれる。
本明細書に記載されたすべての特許、出願、標準およびアーティクルは、その全体が参照として含まれる。
Claims (37)
- 再帰反射材料の製造時に、ツーリングとポリマーシートとの間にトラップされるガスの発生を減少させる方法において、
対向する周辺のエッジを規定する基板および前記エッジの間で延びるモールディングの表面を提供する段階であって、前記モールディングの表面は複数のプリズム構造を含み、前記複数のプリズム構造は平均構造高さを規定し、前記モールディングの表面は前記モールディングの表面の少なくとも一部を横切って延びる複数のチャネルを含み、前記チャネルは前記平均構造高さの5%〜50%の平均深さを規定し、
少なくとも一つの面を規定するポリマーシートを提供する段階、および
前記基板から前記ポリマーシートの面まで前記複数のプリズム構造のパターンをエンボシングする段階、を含み、
前記エンボシングする段階時に前記基板と前記ポリマーシートとの間に配置されたガスは前記チャネルの少なくとも一部を通じて追い出されることによってトラップされるガスの発生を減少させる、方法。 - 前記チャネルの平均深さは前記平均構造高さの10%〜15%である、請求項1に記載の方法。
- 前記基板は金属である、請求項1または請求項2に記載の方法。
- 前記プリズム構造は隣接した三角形からそれぞれの三角形を分離する複数のベースラインを規定するように配列される三角形である、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の方法。
- 前記複数のベースラインは互いに平行するように配向される第1ベースラインセット、互いに平行し、前記第1ベースラインセットから60度に配向される第2ベースラインセット、および互いに平行し、前記第2ベースラインセットから60度および前記第1ベースラインセットから60度に配向される第3ベースラインセットを含む、請求項4に記載の方法。
- 前記複数のチャネルは前記第1ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネル、前記第2ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネル、および前記第3ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネルを含む、請求項5に記載の方法。
- 前記第1ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第1ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項6に記載の方法。
- 前記第2ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第2ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項7に記載の方法。
- 前記第3ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第3ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項8に記載の方法。
- 請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載された方法を使って製造される、再帰反射材料。
- サイネージ、建設障壁、交通障壁および個人保護ギアからなる群から選択される、請求項10に記載の再帰反射材料。
- 微細構造のパターンを形成するためのツーリングにおいて、
対向する周辺のエッジを規定する基板、および前記エッジの間で延びるモールディングの表面を含み、
前記モールディングの表面は複数のプリズム構造を含み、前記複数のプリズム構造は平均構造高さを規定し、前記モールディングの表面は前記モールディングの表面の少なくとも一部を横切って延びる複数のチャネルを含み、前記チャネルは前記平均構造高さの5%〜50%の平均深さを規定する、ツーリング。 - 前記複数のチャネルは、前記エッジのうち少なくとも一つに沿ってアクセスを提供する、請求項12に記載のツーリング。
- 前記チャネルの平均深さは前記平均構造高さの10%〜15%である、請求項12または請求項13に記載のツーリング。
- 前記基板は金属である、請求項12〜請求項14のいずれか一項に記載のツーリング。
- 前記プリズム構造は、隣接した三角形からそれぞれの三角形を分離する複数のベースラインを規定するように配列される三角形である、請求項12〜請求項15のいずれか一項に記載のツーリング。
- 前記複数のベースラインは互いに平行するように配向される第1ベースラインセット、互いに平行し、前記第1ベースラインセットから60度に配向される第2ベースラインセット、および互いに平行し、前記第2ベースラインセットから60度に配向される第3ベースラインセットを含む、請求項16に記載のツーリング。
- 前記複数のチャネルは、前記第1ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネル、前記第2ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネル、前記第3ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる少なくとも一つのチャネルを含む、請求項17に記載のツーリング。
- 前記第1ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第1ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項18に記載のツーリング。
- 前記第2ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第2ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項19に記載のツーリング。
- 前記第3ベースラインセットのうち少なくとも一つに沿って延びる前記複数のチャネルは、前記第3ベースラインのうち他の一つによって分離する2個のチャネルを含む、請求項20に記載のツーリング。
- 再帰反射材料の製造時に、ツーリングとポリマーシートとの間にトラップされるガスの発生を減少させる方法において、
対向する周辺のエッジを規定する基板および前記エッジの間で延びるモールディングの表面を提供する段階であって、前記モールディングの表面はベースラインによって規定された複数のプリズム構造を含み、前記複数のプリズム構造は平均構造高さを規定し、前記モールディングの表面は複数の通路を含み、それぞれの通路はベースラインを横切って延びるように位置し、前記通路は前記平均構造高さの5%〜50%の平均深さを有し、
少なくとも一つの面を規定するポリマーシートを提供する段階、および
前記基板から前記ポリマーシートの面まで前記複数のプリズム構造のパターンをエンボシングする段階、を含み、
前記エンボシング段階時に前記基板と前記ポリマーシートとの間に配置されたガスは、前記通路の少なくとも一部を通じて追い出されることによってトラップされるガスの発生を減少させる、方法。 - それぞれの通路は、ベースラインと垂直に延びるように位置する、請求項22に記載の方法。
- 前記チャネルの平均深さは前記平均構造高さの10%〜15%である、請求項22または請求項23に記載の方法。
- 前記基板は金属である、請求項22〜請求項24のいずれか一項に記載の方法。
- 前記プリズム構造は、隣接した三角形からそれぞれの三角形を分離する複数のベースラインを規定するように配列される三角形である、請求項22〜請求項25のいずれか一項に記載の方法。
- 請求項22〜請求項26のいずれか一項に記載された方法を使って製造される、再帰反射材料。
- サイネージ、建設障壁、交通障壁および個人保護ギアからなる群から選択される、請求項27に記載の再帰反射材料。
- 微細構造のパターンを形成するためのツーリングにおいて、
対向する周辺のエッジを規定する基板および前記エッジの間で延びるモールディングの表面を含み、
前記モールディングの表面はベースラインによって規定された複数のプリズム構造を含み、前記複数のプリズム構造は平均構造高さを規定し、前記モールディングの表面は複数の通路を含み、それぞれの通路はベースラインを横切って延びるように位置し、前記通路は前記平均構造高さの5%〜50%の平均深さを有する、ツーリング。 - それぞれの通路は、ベースラインと垂直に延びるように位置する、請求項29に記載のツーリング。
- 前記チャネルの平均深さは前記平均構造高さの10%〜15%である、請求項29または請求項30に記載のツーリング。
- 前記基板は金属である、請求項29〜請求項31のいずれか一項に記載のツーリング。
- 前記プリズム構造は、隣接した三角形からそれぞれの三角形を分離する複数のベースラインを規定するように配列される三角形である、請求項29〜請求項32のいずれか一項に記載のツーリング。
- 複数のプリズム構造を含むポリマー基板を含む再帰反射材料であって、
前記複数のプリズム構造は平均構造高さを有する第1構造セットおよび前記第1構造セットの高さの5%〜50%の高さを有する第2構造セットを有する構造化された表面を規定し、前記プリズム構造は隣接した三角形からそれぞれの三角形を分離する複数のベースラインを規定するように配列される三角形を含む、再帰反射材料。 - 前記複数のベースラインは互いに平行するように配向される第1ベースラインセット、互いに平行し、前記第1ベースラインセットから60度に配向される第2ベースラインセット、および互いに平行し、前記第2ベースラインセットから60度および前記第1ベースラインセットから60度に配向される第3ベースラインセットを含む、請求項34に記載の再帰反射材料。
- 前記第2構造セットは前記第1構造セットの高さの10%〜15%の高さを有する、請求項34または請求項35に記載の再帰反射材料。
- サイネージ、建設障壁、交通障壁および個人保護ギアからなる群から選択される、請求項34〜請求項36のいずれか一項に記載の再帰反射材料。
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