JP2018193607A - 金属ナノスプリング及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ナノ気孔を有し、一面に作用電極を有するナノテンプレートを準備する段階と、アスコルビン酸、バナジウム(IV)オキサイド・サルフェート及びめっき金属を含む第1金属前駆体混合液を準備する段階と、前記第1金属前駆体混合液に硝酸を混合して第2金属前駆体混合液を準備する段階と、前記第2金属前駆体混合液に前記ナノテンプレートを浸漬し、前記第2金属前駆体混合液に挿入された対電極と前記作用電極との間に電流を印加して、電気めっき方法で前記ナノ気孔に金属ナノスプリングを形成する段階と、前記作用電極及び前記ナノテンプレートを選択的に除去する段階と、を含む金属及び/又は合金ナノプリングの製造方法。
【選択図】なし
Description
図4は、本発明の一実施例による電気めっき方法で合成したナノスプリングを透過型顕微鏡で分析したマッピング(mapping)の写真と成分分析である。
112 ナノ気孔
114 作用電極
120 ナノスプリング
Claims (10)
- ナノ気孔を有し、一面に作用電極を有するナノテンプレート(nano template)を準備する段階と、
アスコルビン酸(Ascorbic acid;C6H8O6)、バナジウム(IV)オキサイド・サルフェート(VOSO4・xH2O)及び蒸着しようとする金属を含む金属前駆体溶液を含む第1金属前駆体混合液を準備する段階と、
前記第1金属前駆体混合液に硝酸(Nitric acid;HNO3)を混合して第2金属前駆体混合液を準備する段階と、
前記第2金属前駆体混合液に前記ナノテンプレートを浸漬し、前記第2金属前駆体混合液に挿入された対電極(counter electrode)と前記作用電極との間に電流を印加して、電気めっき方法で前記ナノ気孔に金属ナノスプリングを蒸着させる段階と、
前記金属ナノスプリングが蒸着されたナノテンプレートで前記作用電極及び前記ナノテンプレートを選択的に除去する段階と、を含む金属ナノスプリングの製造方法。 - 前記金属前駆体溶液はコバルト(III)サルフェート・ヘプタハイドレート(CoSO4・7H2O)及び鉄(II)サルフェート・ヘプタハイドレート(FeSO4・7H2O)のうち少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項1に記載の金属ナノスプリングの製造方法。
- 前記第2金属前駆体混合液の濃度は0.01 Mないし10 Mであり、
コバルト(III)サルフェート・ヘプタハイドレート(CoSO4・7H2O)の濃度は40 mMであり、
バナジウム(IV)オキサイド・サルフェート(VOSO4・xH2O)の濃度は20 mMであり、
鉄(II)サルフェート・ヘプタハイドレート(FeSO4・7H2O)の濃度は40 mMであり、
アスコルビン酸(Ascorbic acid;C6H8O6)の濃度は20 mMであることを特徴とする請求項2に記載の金属ナノスプリングの製造方法。 - 前記第2金属前駆体混合液のpHは1.5ないし2.5であることを特徴とする請求項3に記載の金属ナノスプリングの製造方法。
- 前記ナノ気孔の平均直径が5 nmないし500 nmであることを特徴とする請求項1に記載の金属ナノスプリングの製造方法。
- 前記ナノテンプレートを前記第2金属前駆体混合液に浸漬し、
前記第2金属前駆体混合液を収納するめっき槽(plating bath)を減圧する段階をさらに含み、
前記メッキ槽の圧力は100 Torrないし700 Torrであることを特徴とする請求項1に記載の金属ナノスプリングの製造方法。 - 前記アスコルビン酸の濃度は20 mMないし100 mMであることを特徴とする請求項1に記載の金属ナノスプリングの製造方法。
- 電気めっきの際に前記作用電極に流れる電流密度は0.1ないし300 mA/cm2であり、
電気めっき時間は1分ないし48時間であることを特徴とする請求項1に記載の金属ナノスプリングの製造方法。 - 請求項1から8のいずれか1項の製造方法で製造された金属ナノスプリング。
- 請求項9による金属ナノスプリングを含むナノ部品。
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