JP2018170319A - 半導体装置およびその製造方法、並びに表示装置 - Google Patents
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1.実施の形態(半導体膜に低抵抗化処理が施された半導体装置の例)
2.変形例(半導体膜が酸化物半導体材料以外の材料により構成されている例)
3.適用例1(表示装置および撮像装置の例)
4.適用例2(電子機器の例)
[構成]
図1は、本技術の一実施の形態に係る半導体装置(半導体装置1)の断面構成を模式的に表したものである。半導体装置1は、例えば表示装置および撮像装置(後述の図10の表示装置2Aおよび図11の撮像装置2B)等の駆動回路に用いられるものである。この半導体装置1には、トップゲート型の薄膜トランジスタ(トランジスタTr)および保持容量(保持容量Cs)が設けられ、トランジスタTrと保持容量Csとはコンタクト部10により電気的に接続されている。
下部電極13は、UC膜12上の選択的な領域に設けられている。下部電極13の一部は、上部電極15Cから露出してコンタクト部10に延在している。下部電極13は、例えば、モリブデン(Mo),タングステン(W),アルミニウム(Al),銅(Cu),銀(Ag)およびチタン(Ti)等の金属を含んで構成されている。下部電極13は、合金により構成されていてもよく、複数の金属膜を含む積層膜により構成されていてもよい。下部電極13は、金属以外の導電性材料により構成されていてもよい。
半導体膜15は、第1絶縁膜14上の選択的な領域に設けられている。半導体膜15は、例えば、インジウム(In),ガリウム(Ga),亜鉛(Zn),スズ(Sn),チタン(Ti)およびニオブ(Nb)のうちの少なくとも1種の元素の酸化物を主成分として含む酸化物半導体から構成されている。具体的には、半導体膜15に酸化インジウムスズ亜鉛(ITZO),酸化インジウムガリウム亜鉛(IGZO:InGaZnO),酸化亜鉛(ZnO),酸化インジウム亜鉛(IZO),酸化インジウムガリウム(IGO),酸化インジウムスズ(ITO)および酸化インジウム(InO)等を用いることができる。半導体膜15の厚みは、例えば10nm〜300nmであり、60nm以下であることが好ましい。半導体膜15の厚みを薄くすることにより、半導体中に含まれる欠陥の絶対量が減少し、しきい値電圧の負シフトが抑えられる。したがって、オンオフ比の高い、優れたトランジスタ特性を実現することができる。また、半導体膜15の成膜に要する時間が短縮されるので、生産性を向上させることができる。
図2を用いてコンタクト部10の構成を説明する。図2(A)はコンタクト部10の平面構成、図2(B)はコンタクト部10の断面構成をそれぞれ表している。コンタクト部10には、配線の延在方向(トランジスタTrおよび保持容量Csの配列方向、図2ではX方向)に沿って、トランジスタTrに近い位置から順に、第1領域10−1、第2領域10−2および第3領域10−3が互いに隣接して設けられている。第2領域10−2および第3領域10−3に接続孔Hが設けられている。第2領域10−2で半導体膜15とゲート配線17Wとが接し、第3領域10−3で下部電極13とゲート配線17Wとが接している。図2では、UC膜12の図示を省略している。
上記のような半導体装置1は、例えば次のようにして製造することができる(図5A〜図8B)。
本実施の形態の半導体装置1では、ゲート電極17に閾値電圧以上のオン電圧が印加されると、半導体膜15のチャネル領域15aが活性化される。これにより、一対の低抵抗領域15b間に電流が流れる。これに応じて、コンタクト部10では、ゲート配線17Wを介して、半導体膜15から下部電極13に電流が流れ保持容量Csに電荷が保持される。
上記実施の形態では、半導体膜15が酸化物半導体材料により構成されている場合について説明したが、半導体膜15は、アモルファスシリコン,微結晶シリコン,多結晶シリコンまたは有機半導体等の他の半導体材料を用いて構成するようにしてもよい。
上記実施の形態および変形例において説明した半導体装置1は、例えば表示装置(後述の図10の表示装置2A)および撮像装置(後述の図11の撮像装置2B)等の駆動回路に用いることができる。
上記表示装置2Aおよび撮像装置2B等は、様々なタイプの電子機器に用いることができる。図12に、電子機器3の機能ブロック構成を示す。電子機器3としては、例えばテレビジョン装置、パーソナルコンピュータ(PC)、スマートフォン、タブレット型PC、携帯電話機、デジタルスチルカメラおよびデジタルビデオカメラ等が挙げられる。
(1)
所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも前記第3領域に第1配線を形成し、
前記第1配線を覆うように、前記基板上に第1絶縁膜を形成し、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆うように、前記基板上に第2絶縁膜を形成し、
前記第2領域で前記半導体膜に達するとともに、前記第3領域で前記第1配線に達する接続孔を前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に形成し、
前記接続孔を形成した後、前記半導体膜に低抵抗化処理を行い、
前記低抵抗化処理を行った後、前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に第2配線を形成し、前記接続孔を用いて前記第2配線を、前記第2領域で前記半導体膜に接続するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接続する
半導体装置の製造方法。
(2)
更に、トランジスタを形成し、
前記半導体膜には、前記トランジスタのチャネル領域が設けられている
前記(1)記載の半導体装置の製造方法。
(3)
前記トランジスタとして、前記基板上に、前記半導体膜、ゲート絶縁膜およびゲート電極をこの順に形成する
前記(2)記載の半導体装置の製造方法。
(4)
前記ゲート絶縁膜は、前記第2絶縁膜と同一工程で形成し、
前記ゲート電極は、前記第2配線と同一工程で形成する
前記(3)記載の半導体装置の製造方法。
(5)
前記ゲート電極および前記第2配線を形成した後に、前記半導体膜に接する金属酸化膜を形成する
前記(3)または(4)記載の半導体装置の製造方法。
(6)
更に、保持容量を形成し、
前記第1配線は、前記保持容量の一方の電極である
前記(1)ないし(5)のうちいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(7)
前記保持容量の他方の電極を、前記半導体膜と同一工程で形成する
前記(6)記載の半導体装置の製造方法。
(8)
前記一方の電極と前記他方の電極との間に、前記第1絶縁膜を形成する
前記(7)記載の半導体装置の製造方法。
(9)
前記低抵抗化処理として、プラズマ照射を行う
前記(1)ないし(8)のうちいずれか1つに記載の半導体装置の製造方法。
(10)
前記低抵抗化処理として、熱処理を行う
前記(1)ないし(8)のうちいずれか1つ記載の半導体装置の製造方法。
(11)
所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第3領域に設けられた第1配線と、
前記第1配線を覆う第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に設けられ、前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第2領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接する第2配線と
を備えた半導体装置。
(12)
前記半導体膜は酸化物半導体材料を含む
前記(11)記載の半導体装置。
(13)
表示素子および前記表示素子を駆動する半導体装置を備え、
前記半導体装置は、
所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第3領域に設けられた第1配線と、
前記第1配線を覆う第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に設けられ、前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第2領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接する第2配線とを含む
表示装置。
Claims (13)
- 所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板の、少なくとも前記第3領域に第1配線を形成し、
前記第1配線を覆うように、前記基板上に第1絶縁膜を形成し、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に半導体膜を形成し、
前記半導体膜を覆うように、前記基板上に第2絶縁膜を形成し、
前記第2領域で前記半導体膜に達するとともに、前記第3領域で前記第1配線に達する接続孔を前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に形成し、
前記接続孔を形成した後、前記半導体膜に低抵抗化処理を行い、
前記低抵抗化処理を行った後、前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に第2配線を形成し、前記接続孔を用いて前記第2配線を、前記第2領域で前記半導体膜に接続するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接続する
半導体装置の製造方法。 - 更に、トランジスタを形成し、
前記半導体膜には、前記トランジスタのチャネル領域が設けられている
請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記トランジスタとして、前記基板上に、前記半導体膜、ゲート絶縁膜およびゲート電極をこの順に形成する
請求項2記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート絶縁膜は、前記第2絶縁膜と同一工程で形成し、
前記ゲート電極は、前記第2配線と同一工程で形成する
請求項3記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ゲート電極および前記第2配線を形成した後に、前記半導体膜に接する金属酸化膜を形成する
請求項4記載の半導体装置の製造方法。 - 更に、保持容量を形成し、
前記第1配線は、前記保持容量の一方の電極である
請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記保持容量の他方の電極を、前記半導体膜と同一工程で形成する
請求項6記載の半導体装置の製造方法。 - 前記一方の電極と前記他方の電極との間に、前記第1絶縁膜を形成する
請求項7記載の半導体装置の製造方法。 - 前記低抵抗化処理として、プラズマ照射を行う
請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 前記低抵抗化処理として、熱処理を行う
請求項1記載の半導体装置の製造方法。 - 所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第3領域に設けられた第1配線と、
前記第1配線を覆う第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に設けられ、前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第2領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接する第2配線と
を備えた半導体装置。 - 前記半導体膜は酸化物半導体材料を含む
請求項11記載の半導体装置。 - 表示素子および前記表示素子を駆動する半導体装置を備え、
前記半導体装置は、
所定の方向に沿って、第1領域、第2領域および第3領域がこの順に隣接して設けられた基板と、
前記基板上の、少なくとも前記第3領域に設けられた第1配線と、
前記第1配線を覆う第1絶縁膜と、
前記第1絶縁膜を介して、前記基板上の前記第1領域および前記第2領域に設けられ、低抵抗状態の半導体膜と、
前記半導体膜を覆う第2絶縁膜と、
前記第2絶縁膜を間にして前記基板上の前記第1領域、前記第2領域および前記第3領域に設けられ、前記第2絶縁膜および前記第1絶縁膜に設けられた接続孔を介して、前記第2領域で前記半導体膜に接するとともに、前記第3領域で前記第1配線に接する第2配線とを含む
表示装置。
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