JP2018169962A - 積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フレキシブル性を有し、低ヘイズであり、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製した際の電極パターンの視認性がより改善される積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置を提供する。【解決手段】偏光板と、λ／２板と、基材と、偏光板とλ／２板との間に配置されており、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第１の透明導電層と、λ／２板と基材との間に配置されており、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第２の透明導電層と、を有する積層体及びその応用である。【選択図】図1

Description

本開示は、積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置に関する。

タッチパネル方式の情報端末等に使用される透明電極としては、従来から酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜が広く知られている。ところが、ＩＴＯ膜は、入力動作の繰り返しによって割れが生じやすく、曲げにも弱いという問題が指摘されている。また、ＩＴＯ膜の製造に必要とされる蒸着又はスパッタリング等の真空プロセスは、多大な設備コストを必要とするため、膜を大面積化する際の障壁ともなっている。

一方、ＩＴＯ膜の代替材料として、導電性のフィラーを利用した透明電極が提案されており、バインダー中に銀ナノワイヤを含む透明導電膜を備えた透明導電性シートを用いたタッチパネルが知られている（例えば、特許文献１参照）。

さらに、導電性のフィラーを含む透明電極に関連する技術として、導電性ナノワイヤが一方向に配向された複数の透明電極基板を積層して有し、一方向に配向された導電性ナノワイヤが同方向に配置されるように透明電極基板配置された表示装置が開示されており、透明電極基板の観察面側に偏光板を配置した例も示されている（例えば、特許文献２参照）。また、カーボンナノチューブがその長軸が一定方向に沿って整列するように配向され、カーボンナノチューブを分散配置したことによる導電性と、上記一定方向と直交する振動方向を有する光を透過させる偏光機能とを有する導電性偏光フィルムが開示されている（例えば、特許文献３参照）。

特開２０１５−１２８０３６号公報 特開２０１３−１９５９６９号公報 特開２００６−２８５０６８号公報

上記のように、従来から使用されているＩＴＯ膜には、フレキシブル性に乏しいという課題がある。更に、ＩＴＯ膜は、透明性に優れる反面、タッチパネル等に使用した場合に、電極パターンが見えやすいという課題もある。
また、ＩＴＯ膜の代替材料として提案されている導電性のフィラーは、外光を散乱しやすいため、ヘイズが大きくなるという課題がある。

本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、フレキシブル性を有し、低ヘイズであり、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製した際の電極パターンの視認性がより改善される積層体を提供することにある。
本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、電極パターンの視認性がより改善されたタッチパネル及びタッチパネル付表示装置を提供することにある。

繊維状のフィラーの導電性能、外光が入射した際の反射性、機械的強度といった性能を引き出すためには、外光を直線偏光成分に変え、その偏光方向と直交する一方向に繊維状のフィラーを配向させることが望ましいとの知見を得、かかる知見に基づいて達成されたものである。
本開示は上記に鑑みたものであり、上記の課題を解決するための具体的手段には以下の態様が含まれる。

＜１＞ 偏光板と、λ／２板と、基材と、偏光板とλ／２板との間に配置されており、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第１の透明導電層と、λ／２板と基材との間に配置されており、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第２の透明導電層と、を有する積層体である。

＜２＞ 金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤを含む＜１＞に記載の積層体である。
＜３＞ ＜１＞又は＜２＞に記載の積層体を備えたタッチパネルである。
＜４＞ ＜３＞に記載のタッチパネルと、表示装置と、を備えたタッチパネル付表示装置である。

＜５＞ 仮支持体上に、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含み、繊維状導電粒子が面内の一方向に配向された透明導電層を有する転写材料である。

本発明の一実施形態によれば、フレキシブル性を有し、低ヘイズであり、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製した際の電極パターンの視認性がより改善される積層体が提供される。
本発明の一実施形態によれば、電極パターンの視認性がより改善されたタッチパネル及びタッチパネル付表示装置が提供される。

本開示の積層体の構成の一例を分解して示す分解構成図である。

以下、本開示の積層体、タッチパネル、及びタッチパネル付表示装置について詳細に説明する。

本明細書において、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載された数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
本明細書において、組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合は、特に断らない限り、組成物中に存在する複数の物質の合計量を意味する。

また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。

本明細書において、「金属ナノワイヤ」とは、導電性を有し、かつ、長軸長が直径（短軸長）に比べて長く、短軸長（即ち、長軸方向と直交する断面の最大長さ）がナノオーダーサイズの形状を持つ金属粒子をいう。また、「金属ナノチューブ」とは、導電性を有し、かつ、内部中空の管状の形状を有し、長軸長が直径（短軸長）に比べて長く、短軸長（即ち、長軸方向と直交する断面の最大長さ）がナノオーダーサイズの形状を持つ金属粒子をいう。
なお、本開示の積層体に含有される「繊維状導電粒子」は、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる粒子のことを指し、本明細書における「繊維状導電材料」には、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブに加え、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ以外の、導電性を有する繊維状の粒子も包含される。
また、「繊維状」には、ワイヤ状もしくは線状、又は棒状の形状が含まれる。

繊維状導電粒子の長軸方向の長さは、平均長軸長のことを指し、以下において繊維状導電粒子の長さを「平均長軸長」ともいう。また、繊維状導電粒子の短軸方向の長さは、平均短軸長のことを指し、以下において繊維状導電粒子の長さを「平均短軸長」ともいう。

＜積層体＞
本開示の積層体は、偏光板と、λ／２板（１／２λ偏光板）と、基材と、偏光板とλ／２板との間に配置されており、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第１の透明導電層と、λ／２板と基材との間に配置されており、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第２の透明導電層と、を有している。
本開示の積層体は、偏光板の側から自然光が照射された場合に、第２の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する直線偏光成分を透過するものである。

従来から用いられている酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜は、外力により割れが生じやすく、曲げ等に対するフレキシブル性に乏しいことが課題とされている。
また、ＩＴＯ膜の代替材料として導電性のフィラーが提案されているが、導電性のフィラーの一例である金属ナノワイヤ等は、直径こそ可視光波長より小さいものの、長さが可視光波長より大きいため、長さ方向に平行に振動する光（偏光）に対して反射しやすい性状を有している。そのため、金属ナノワイヤ等を含有する透明電極層に入射した光は、層中に分散された金属ナノワイヤ等で反射し、光の散乱を生じやすい。透明電極層で生じる光の散乱は、ヘイズを高める一因となる。

上記に鑑み、本開示の積層体では、繊維状導電粒子として金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる比較的アスペクト比の高い材料を含有する少なくとも２層の透明導電層を設け、透明導電層の一方（第１の透明導電層）は、偏光板とλ／２板との間に配置し、繊維状導電粒子の配向方向を偏光板の透過軸と直交する方向とし、かつ、透明導電層の他方（第２の透明導電層）は、λ／２板と基材との間に配置し、繊維状導電粒子の配向方向を第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向とする。つまり、偏光板側から積層体に入射した外光は、偏光板の透過軸の方向に振動する光が選択的に入射した後、下層に位置する第１の透明導電層及び第２の透明導電層において、それぞれ繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に振動する直線偏光成分が選択的に透過していく構成となっている。
これにより、積層体にフレキシブル性が付与され、かつ、繊維状導電粒子由来の光の散乱が抑えられ、低ヘイズが達成される。また、タッチパネル等のフィルムセンサーを作製する場合に、電極パターンの視認性をより軽減することができる。

［透明導電層］
まず、本開示の積層体における透明導電層について説明する。
本開示の積層体は、少なくとも２層の透明導電層を有している。２層のうちの一方は、後述の偏光板とλ／２板との間に配置され、偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第１の透明導電層である。また、２層のうちの他方は、後述のλ／２板と基材との間に配置され、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第２の透明導電層である。

本明細書において、「直交する」とは、ある方向に対して他の方向が９０°の角度（直角）をもって交差することを指すのみならず、ある方向に対して他の方向が７０°〜１１０°の範囲の角度にある場合をも包含するものである。「直交する」角度の範囲は、透明導電層又は隣接層との界面での光の散乱をより抑えられる点で、８０°〜１００°の範囲が好ましく、８５°〜９５°の範囲がより好ましい。

本明細書において、「透明」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が、８０％以上であることを意味する。したがって、「透明導電層」とは、波長４００ｎｍ〜７００ｎｍの可視光の透過率が８０％以上である層を指す。「透明導電層」の可視光の透過率は、９０％以上であることが好ましい。
また、透明導電層の透過率は、分光光度計を用いて測定される値であり、例えば、日立製作所株式会社製の分光光度計Ｕ−３３１０を用いて測定することができる。

第１の透明導電層と第２の透明導電層とは、例えばタッチパネル等のセンサフィルムに積層されるＸ方向電極又はＹ方向電極として利用することが可能であり、このような使用態様では、電気抵抗がより低減され、電気導電性の向上効果が期待できる。

第１の透明導電層と第２の透明導電層とにそれぞれ含まれる繊維状導電粒子は、同一の導電材料であってもよいし、互いに異なる種類の導電材料であってもよい。

−第１の透明導電層−
第１の透明導電層は、後述の偏光板とλ／２板との間に配置されており、例えば図１に示すように、偏光板１４によってその透過軸１０と平行に振動する偏光ｈνが入射される。第１の透明導電層２２は、少なくとも金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含有し、層中に含有される繊維状導電粒子１２が偏光板１４の透過軸１０と直交する方向に配向されているので、偏光板１４からの偏光は、第１の透明導電層２２で散乱し難い。そして、透過光は、更に下層のλ／２板１８へ入射する。

図１は、本開示の積層体の構成の一例を分解して示す分解構成図である。
図１に示す積層体１００には、等方性基材２４上に第１の透明導電層２２が積層された銀ナノワイヤフィルム（透明導電部材）１６がλ／２板１８の上に配置されており、第１の透明導電層２２がパターニングされると等方性基材２４上に電極パターンを有することになる。
なお、図１には、第１の透明導電層２２とλ／２板１８との間に等方性基材２４を有する態様を示したが、場合によっては等方性基材２４を有していなくてもよい。

（繊維状導電粒子）
繊維状導電粒子とは、導電性の物質が繊維状の形態となったものをいう。繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの金属としては、特に制限はなく、いかなる金属であってもよい。また、金属種は、１種以外にも２種以上の金属を組み合わせてもよく、合金を用いてもよい。

金属としては、周期律表（ＩＵＰＡＣ１９９１）の第４周期、第５周期、及び第６周期の金属から選ばれる少なくとも１種の金属が好ましく、第２族〜第１４族の金属から選ばれる少なくとも１種の金属がより好ましく、第２族、第８族、第９族、第１０族、第１１族、第１２族、第１３族、及び第１４族の金属から選ばれる少なくとも１種の金属が更に好ましい。金属として、上記の金属を主成分として含む場合が特に好ましい。なお、「主成分」とは、金属の全量に対する比率が５０モル％以上であることを指す。
金属の例としては、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、鉄、ルテニウム、オスミウム、マンガン、モリブデン、タングステン、ニオブ、タンタル、チタン、ビスマス、アンチモン、鉛、及びこれらの少なくとも一つを含む合金などが挙げられる。中でも、銅、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、錫、コバルト、ロジウム、イリジウム、又はこれらの少なくとも一つを含む合金が好ましく、パラジウム、銅、銀、金、白金、錫、又はこれらの少なくとも一つを含む合金がより好ましく、銀又は銀を含む合金が特に好ましい。「銀を含む合金」における銀の含有量は、合金の全量に対して５０モル％以上であることが好ましく、６０モル％以上であることがより好ましく、８０モル％以上であることが更に好ましい。

第１の透明導電層が金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含む場合、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電材料の全質量に対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの合計の含有比率は、特に制限はなく、５０質量％以上の範囲とすることが好ましく、中でも８０質量％以上がより好ましい。更には、第１の透明導電層に含有される繊維状導電材料の全量が実質的に銀ナノワイヤであることが好ましい。なお、「実質的に銀ナノワイヤである」とは、不可避的に混入する銀ナノワイヤ以外の繊維状導電材料が存在し得ることを意味する。

また、後述する他の導電性材料が更に含有されている場合、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率は、上記の繊維状導電粒子及び繊維状導電材料を含む導電性材料の総量に対して、体積基準で５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７５％以上が更に好ましい。金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率が５０％以上であると、金属ナノワイヤ等同士の密なネットワークが形成され、優れた導電性を有する第１の透明導電層が得られやすい。

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率は、下記の方法で求められる。
例えば、繊維状導電粒子として銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含み、かつ、他の導電性材料として銀粒子を含む場合、銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブを含む水分散液をろ過して、銀ナノワイヤ及び金属ナノチューブとそれ以外の導電性材料とに分離し、誘導結合プラズマ（ＩＣＰ）発光分析装置を用いて、ろ紙に残存する銀の量と、ろ紙を透過した銀の量と、を各々測定することで、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ（繊維状導電粒子）の比率は算出される。

第１の透明導電層に含まれる金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有量は、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの種類等に応じて、第１の透明導電層の抵抗率、全光透過率、及びヘイズ値が所望の範囲となるように適宜選択されることが好ましい。
金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの第１の透明導電層中における総含有量としては、第１の透明導電層の全質量に対して、１質量％〜６０質量％が好ましく、３質量％〜５０質量％がより好ましく、５質量％〜４０質量％が更に好ましい。
また、第１の透明導電層の抵抗率を制御する観点から、第１の透明導電層の単位面積当たりの金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの量は、０．０２０ｇ／ｍ^２〜２．００ｇ／ｍ^２の範囲が好ましい。

また、後述のバインダーに対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの合計量の比率（金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有量／バインダーの含有量）としては、１／２０〜１／２の範囲が好ましい。

（金属ナノワイヤ）
繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤとしては、銀ナノワイヤ、銅ナノワイヤ、銅−ニッケルナノワイヤ等が挙げられる。中でも、銀ナノワイヤが好ましい。

金属ナノワイヤの平均短軸長は、０．５ｎｍ〜５００ｎｍが好ましく、１ｎｍ〜２００ｎｍがより好ましく、１５ｎｍ〜１００ｎｍが更に好ましい。金属ナノワイヤの平均短軸長が５００ｎｍ以下であると、光散乱によるヘイズが抑えられ、透明性により優れたものとなる。また、金属ナノワイヤの平均短軸長が０．５ｎｍ以上であると、透明性に優れ、かつ、酸化劣化による導電性の低下が少ない。
金属ナノワイヤの平均長軸長は、０．５μｍ〜５０μｍが好ましく、１μｍ〜３０μｍがより好ましく、５μｍ〜２０μｍが更に好ましい。金属ナノワイヤの平均長軸長が０．５μｍ以上であると、導電体を塗布により作製した場合において、金属同士の接点を確保しやすく、導通性がより良好になり、抵抗を低く抑えやすい。また、金属ナノワイヤの平均長軸長が５０μｍ以下であると、分散安定性がより向上する。
中でも、平均短軸長が１５ｎｍ〜１００ｎｍであって、平均長軸長が５μｍ〜２０μｍの銀ナノワイヤを含有することが好ましい。

金属ナノワイヤの平均短軸長（平均直径）及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像又は光学顕微鏡像を観察して求められる。
具体的には、金属ナノワイヤの平均短軸長（平均直径）及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、商品名：ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、ランダムに選択した３００個の金属ナノワイヤについて短軸長及び長軸長を測定し、各々の測定値から平均値を求めることによって得られる。
なお、金属ナノワイヤの短軸方向断面が円形でない場合の短軸長は、短軸方向の測定値のうち最も長い箇所の長さを短軸長とする。また、金属ナノワイヤが曲がっている場合、曲がっている粒子を弧とする円を想定し、円の半径及び曲率から算出される値を長軸長とする。

金属ナノワイヤの平均アスペクト比としては、目的又は場合に応じて適宜選択することができ、１．５〜１，０００，０００の範囲とすることができ、１０〜１，０００，０００の範囲であってもよく、１０〜１，０００の範囲であってもよい。平均アスペクト比が１．５以上、更には１０以上であると、金属ナノワイヤによりネットワークが形成され、導電性が良好に発現しやすい。また、アスペクト比が１，０００，０００以下であると、金属ナノワイヤの形成時又はその後の取扱いにおいて、成膜前に金属ナノワイヤの絡まりに伴う凝集が生じにくい。
平均アスペクト比とは、金属ナノワイヤの平均短軸長に対する平均長軸長の比（平均長軸長／平均短軸長の比）を意味する。

平均アスペクト比の測定は、透過型電子顕微鏡により測定される。
具体的には、金属ナノワイヤの平均アスペクト比は、ろ紙に残っている金属ナノワイヤを透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察し、３００個の金属ナノワイヤの短軸長及び長軸長をそれぞれ測定し、平均値を求め、金属ナノワイヤの平均短軸長に対する平均長軸長の比（平均長軸長／平均短軸長の比）を算出して求められる。
金属ナノワイヤの平均アスペクト比を電子顕微鏡で測定する場合、金属ナノワイヤの平均アスペクト比が上記範囲にあることは、電子顕微鏡の１視野で確認できればよい。また、金属ナノワイヤの平均長軸長と平均短軸長とを各々別に測定することによって、金属ナノワイヤ全体の平均アスペクト比を見積ることもできる。

（金属ナノチューブ）
繊維状導電粒子として含有される金属ナノチューブとしては、銀ナノチューブ、銅ナノチューブ等が挙げられる。

金属ナノチューブの平均短軸長（平均直径）及び平均長軸長は、既述の金属ナノワイヤと同様の理由から、金属ナノワイヤの平均短軸長及び平均長軸長と同様の範囲であることが好ましい。
金属ナノチューブの平均短軸長及び平均長軸長も、既述の金属ナノワイヤと同様に、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）と光学顕微鏡とを用い、ＴＥＭ像又は光学顕微鏡像を観察することで求められる。具体的には、金属ナノチューブの平均短軸長（平均直径）及び平均長軸長は、透過型電子顕微鏡（日本電子株式会社製、商品名：ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、ランダムに選択した３００個の金属ナノチューブについて短軸長及び長軸長を測定し、各々の測定値から平均値を求めることによって得られる。
なお、金属ナノチューブの短軸方向断面が円形でない場合の短軸長は、短軸方向の測定値のうち最も長い箇所の長さを短軸長とする。また、金属ナノチューブが曲がっている場合、曲がっている粒子を弧とする円を想定し、円の半径及び曲率から算出される値を長軸長とする。

金属ナノチューブの平均アスペクト比も、既述の金属ナノワイヤと同様の理由から、金属ナノワイヤの平均アスペクト比と同様の範囲であることが好ましい。
また、平均アスペクト比の測定方法も、既述の金属ナノワイヤにおける場合と同様である。但し、金属ナノチューブの平均アスペクト比を算出するための直径には、金属ナノチューブの外径が用いられる。

〜繊維状導電粒子の製造方法〜
繊維状導電粒子（金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブ）の製造方法には、特に制限はなく、いかなる方法で作製されてもよい。
繊維状導電粒子が例えば銀ナノワイヤである場合、ハロゲン化合物と分散剤を溶解した溶媒中で金属イオンを還元することによって製造することが好ましい。また、繊維状導電粒子を形成した後は、常法により脱塩処理を行うことが、分散性及び第１の透明導電層の経時安定性の観点から好ましい。
金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの製造方法は、特開２００９−２１５５９４号公報、特開２００９−２４２８８０号公報、特開２００９−２９９１６２号公報、特開２０１０−８４１７３号公報、特開２０１０−８６７１４号公報等に記載の方法を用いることができる。

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの製造に用いられる溶媒としては、親水性溶剤が好ましく、例えば、水、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤などが挙げられる。溶媒は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール等が挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジオキサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン等が挙げられる。

製造時に加熱する場合、加熱温度は、２５０℃以下が好ましく、２０℃以上２００℃以下がより好ましく、３０℃以上１８０℃以下が更に好ましい。加熱温度を２０℃以上とすることで、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの長さが、分散安定性を確保するのにより適した範囲となる。また、加熱温度を２５０℃以下とすることで、繊維状導電粒子の長軸方向と直交する断面における外周に鋭角な突起を有しない、滑らかな外形が得られやすく、繊維状導電粒子の表面プラズモン吸収による着色が抑えられ、透明性により優れたものとなる。
なお、必要に応じて、粒子形成過程で温度を変更してもよく、途中での温度変更は核形成の制御や再核発生の抑制、選択成長の促進による単分散性の向上効果が期待できる。

加熱処理は、還元剤を添加して行うことが好ましい。
還元剤としては、特に制限はなく、通常使用されるものの中から適宜選択することができ、例えば、水素化ホウ素金属塩、水素化アルミニウム塩、アルカノールアミン、脂肪族アミン、ヘテロ環式アミン、芳香族アミン、アラルキルアミン、アルコール、有機酸類、還元糖類、糖アルコール類、亜硫酸ナトリウム、ヒドラジン化合物、デキストリン、ハイドロキノン、ヒドロキシルアミン、エチレングリコール、グルタチオンなどが挙げられる。これらの中でも、還元糖類、その誘導体としての糖アルコール類、エチレングリコールが特に好ましい。
還元剤によっては、機能として分散剤や溶媒としても機能する化合物があり、同様に好ましく用いることができる。

繊維状導電粒子の製造は、分散剤と、ハロゲン化合物又はハロゲン化金属微粒子と、を添加して行うことが好ましい。
分散剤及びハロゲン化合物の添加タイミングは、還元剤の添加前又は添加後のいずれでもよく、金属イオン又はハロゲン化金属微粒子の添加前又は添加後のいずれでもよい。単分散性のより良好な繊維状導電粒子を得るには、核形成と成長を制御する観点から、ハロゲン化合物の添加を２段階以上に分けて行うことが好ましい。

分散剤を添加する段階は、特に制限されない。繊維状導電粒子を調製する前にあらかじめ分散剤を添加しておき、分散剤存在下で繊維状導電粒子を添加してもよいし、繊維状導電粒子の調製後に分散状態を制御する観点から分散剤を添加してもよい。
分散剤としては、例えば、アミノ基含有化合物、チオール基含有化合物、スルフィド基含有化合物、アミノ酸又はその誘導体、ペプチド化合物、多糖類、多糖類由来の天然高分子、合成高分子、又はこれらに由来するゲル等の高分子化合物などが挙げられる。

分散剤として好適に用いられるポリマーとしては、例えば保護コロイド性のあるポリマーであるゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプルピルセルロース、ポリアルキレンアミン、アクリル酸の部分アルキルエステル、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピロリドン構造を含む共重合体、アミノ基やチオール基を有するアクリル酸等の親水性基を有するポリマーが好ましく挙げられる。
その他、分散剤として使用可能な化合物の構造については、例えば「顔料の事典」（伊藤征司郎編、株式会社朝倉書院発行、２０００年）の記載を参照できる。

ハロゲン化合物は、臭素、塩素、ヨウ素を含有する化合物であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、臭化ナトリウム、塩化ナトリウム、ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウム、臭化カリウム、塩化カリウム等のアルカリハライド又は下記の分散添加剤と併用できる化合物が好ましい。ハロゲン化合物によっては、分散添加剤として機能するものがあり得るが、同様に好ましく用いることができる。また、ハロゲン化合物の代替としてハロゲン化銀微粒子を使用してもよいし、ハロゲン化合物とハロゲン化銀微粒子を共に使用してもよい。

また、分散剤の機能とハロゲン化合物の機能との双方を有する単一の物質を用いてもよい。すなわち、分散剤としての機能を有するハロゲン化合物を用いることで、１つの化合物で、分散剤とハロゲン化合物の双方の機能を発現する。
分散剤の機能を有するハロゲン化合物としては、例えば、アミノ基と臭化物イオンを含むヘキサデシル−トリメチルアンモニウムブロミド（ＨＴＡＢ）、アミノ基と塩化物イオンを含むヘキサデシル−トリメチルアンモニウムクロライド（ＨＴＡＣ）、アミノ基と臭化物イオン又は塩化物イオンを含むドデシルトリメチルアンモニウムブロミド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド、ステアリルトリメチルアンモニウムブロミド、ステアリルトリメチルアンモニウムクロリド、デシルトリメチルアンモニウムブロミド、デシルトリメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジステアリルアンモニウムブロミド、ジメチルジステアリルアンモニウムクロリド、ジラウリルジメチルアンモニウムブロミド、ジラウリルジメチルアンモニウムクロリド、ジメチルジパルミチルアンモニウムブロミド、ジメチルジパルミチルアンモニウムクロリドが挙げられる。

繊維状導電粒子の製造においては、繊維状導電粒子の形成後に脱塩処理を行うことが好ましい。金属ナノワイヤ形成後の脱塩処理は、限外ろ過、透析、ゲルろ過、デカンテーション、遠心分離などの手法により行うことができる。

金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブは、アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、ハロゲン化物イオン等の無機イオンをなるべく含まないことが好ましい。

（バインダー）
本開示における第１の透明導電層は、バインダーを含有することが好ましい。
バインダーを含有することにより、第１の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子等を分散状態で安定的に保持し、隣接層との密着性を向上させることができる。
バインダーは、後述するエッチング液に対して溶解しないことが好ましい。エッチングによって繊維状導電粒子を除去し、パターン形状を有する第１の透明導電層の非導電性領域を形成させる際に、光散乱性物質を非導電性領域に残存させるためである。

バインダーとしては、エッチング液に対する耐性を有する限り特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。例えば、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、キチン、ポリアクリル酸、アクリル樹脂、カルボキシメチルセルロース等の高分子材料を用いてもよい。

第１の透明導電層におけるバインダーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。繊維状導電粒子とバインダーの比率は、バインダー１００質量部に対して、繊維状導電粒子が１質量部〜１，０００質量部が好ましく、５質量部〜９００質量部がより好ましく、１０質量部〜８００質量部が更に好ましい。
バインダー１００質量部に対する繊維状導電粒子の含有量が１質量部以上であると、導電性が発現しやすい。バインダー１００質量部に対する繊維状導電粒子の含有量が１，０００質量部以下であると、第１の透明導電層の膜強度、特に密着などの機械的特性が高くなる。

（他の成分）
第１の透明導電層は、上記以外の他の成分が含まれてもよい。他の成分には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すればよい。他の成分としては、例えば、界面活性剤、増粘剤などが挙げられる。
界面活性剤を含有すると、第１の透明導電層を塗布形成する場合の塗布均一性を向上させることができる。

第１の透明導電層の厚みとしては、導電性と透明性の観点から、１ｎｍ〜２０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがより好ましい。

第１の透明導電層におけるヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％〜３％がより好ましく、１．５％〜３％が更に好ましく、２％〜３％が特に好ましい。
また、パターン形状の視認性の観点から、第１の透明導電層のヘイズに対する、第１の透明導電層のヘイズと非導電性の領域のヘイズとの差の絶対値の比率は、値が小さいほど好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましく、２０％以下が特に好ましい。
ヘイズは、ヘイズメーター（ヘイズガードプラス、ガードナー社製）を用いて測定される値である。

−第２の透明導電層−
第２の透明導電層は、後述のλ／２板と基材との間に配置されており、例えば図１に示すように、λ／２板１８で変えられた偏光軸に平行に振動する偏光が入射される。
第２の透明導電層２６は、少なくとも金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子１２を含有し、層中に含有される繊維状導電粒子１２が第１の透明導電層２２に含まれる繊維状導電粒子１２の配向方向と直交する方向に配向されているので、λ／２板１８からの偏光は、第２の透明導電層２６で散乱しにくく反射されにくい。そして、透過光は、更に下層の等方性基材２８に入射する。

図１に示す積層体１００には、等方性基材２８上に第２の透明導電層２６が積層された銀ナノワイヤフィルム２０が配置されており、第２の透明導電層２６がパターニングされると等方性基材２８上に電極パターンを有することになる。

第２の透明導電層に含有される繊維状導電粒子は、第１の透明導電層と同一の繊維状導電粒子及び必要に応じて繊維状導電粒子以外の繊維状導電材料等を含有することができる。また、第２の透明導電層に含有される繊維状導電粒子は、第１の透明導電層に含有される繊維状導電粒子と異なる種類のものでもよい。

第２の透明導電層に繊維状導電粒子として含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブは、第１の透明導電層に含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブと同義であり、好ましい態様も同様である。

また、第２の透明導電層に含有される金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブについて、第２の透明導電層に含まれる繊維状導電材料の全質量に対する金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率、後述する他の導電性材料が更に含有されている場合の金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの含有比率の算出方法、並びに、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブの第２の透明導電層中における総含有量は、いずれも第１の透明導電層における場合と同様であり、好ましい態様についても同様である。

第２の透明導電層は、第１の透明導電層と同様に、バインダー及び他の成分を含有することができる。第２の透明導電層に含有することができるバインダー及び他の成分の詳細及び好ましい態様については、第１の透明導電層において既述した通りである。

第２の透明導電層の厚みとしては、導電性と透明性の観点から、１ｎｍ〜２０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１０μｍであることがより好ましい。

第２の透明導電層におけるヘイズは、３％以下であることが好ましく、１％〜３％がより好ましく、１．５％〜３％が更に好ましく、２％〜３％が特に好ましい。
ヘイズの測定方法は、既述の通りである。
また、パターン形状の視認性の観点から、第１の透明導電層のヘイズに対する、第１の透明導電層のヘイズと非導電性の領域のヘイズとの差の絶対値の比率は、値が小さいほど好ましく、５０％以下がより好ましく、３０％以下が更に好ましく、２０％以下が特に好ましい。

〜パターン化された透明導電層〜
本開示の積層体における第１の透明導電層及び第２の透明導電層は、導電性領域と非導電性領域とからなるパターン形状を有して設けられていることが好ましい。パターン形状については、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。パターン形状は、基材上に第１の透明導電層又は第２の透明導電層を付設した後、エッチング処理を実施することにより形成されるものであることが好ましい。また、エッチング処理が、第１の透明導電層又は第２の透明導電層に含まれる繊維状導電粒子を溶解するエッチャントを、第１の透明導電層又は第２の透明導電層に接触させることにより実施されることが好ましい。
エッチングに関する詳細については後述する。

導電性領域の表面抵抗は、０．１Ω／□以上５ｋΩ／□未満が好ましく、１Ω／□以上５００Ω／□以下がより好ましい。
一方、非導電性領域の表面抵抗は、５ｋΩ／□以上が好ましく、１００ｋΩ／□以上がより好ましく、１ＭΩ／□以上であることが更に好ましい。上限値は、１０９Ω／□以下が好ましい。
ここで、表面抵抗は、例えば、透明導電層を、表面抵抗計（三菱化学株式会社、Ｌｏｒｅｓｔａ−ＧＰ ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて測定される値である。なお、「Ω／□」は「Ω／ｓｑｕａｒｅ」と同義である。

＜積層体の製造方法＞
本開示の積層体は、既述のように、偏光板、第１の透明導電層、λ／２板、第２の透明導電層、及び基材が積層された構造に製造することができる方法であれば、いずれの方法で製造されてもよく、好ましくは、以下に示す透明導電部材の製造方法を有し、製造された２つの透明導電部材を、λ／２板を介して、それぞれの繊維状導電粒子の配向方向が互いに直交するように積層し、２つの透明導電部材のうち上層側の透明導電部材の上に偏光板を積層する方法によって製造される。
なお、透明導電部材は、基材と透明導電層（第１の透明導電層又は第２の透明導電層）との積層体を指す。
ここでは、第１の透明導電層及び第２の透明導電層を総じて、単に「透明導電層」ともいう。

透明導電部材の製造方法は、以下の工程（ａ）〜工程（ｅ）を有する。
（ａ）透明導電層上に感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト層を形成する工程（フォトレジスト層形成工程）
（ｂ）フォトレジスト層をパターン露光する工程（パターン露光工程）
（ｃ）パターン露光されたフォトレジスト層を現像し、パターン露光された露光領域又は非露光領域のフォトレジスト層を除去し、透明導電層の表面にパターン状のレジスト層を形成する工程（現像工程）
（ｄ）透明導電層におけるフォトレジスト層で被覆されていない領域にある繊維状導電粒子をエッチャントで溶解、除去して非導電性領域を形成する工程（エッチング工程）
（ｅ）上記の工程（ｄ）後に残存する非露光領域又は露光領域のレジスト層をレジスト剥離液で除去する工程（レジスト剥離工程）
以下、透明導電部材の製造方法について説明する。

［透明導電層の形成］
透明導電部材の製造方法においては、基材上に透明導電層を形成する。
基材に透明導電層を形成するに際し、密着性の向上及び塗布液の濡れ性の向上を目的として、基材の片面又は両面に親水化処理又は凹凸処理などの前処理を施すことが好ましい。

−前処理−
前処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、プラズマ処理、大気圧プラズマ処理、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理、クロム酸処理（湿式）、ケン化処理（湿式）等が挙げられ、コロナ放電処理、プラズマ処理（真空グロー放電及び大気圧グロー放電処理）が好ましい。

（プラズマ処理）
プラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等が挙げられ、他の方法としてフレームプラズマ処理等が挙げられる。これらは、例えば、特開平６−１２３０６２号公報、特開平１１−２９３０１１号公報、特開平１１−５８５７号公報等に記載された方法を用いることができる。
プラズマ処理については、特開２０１３−２００９９９号公報の段落００７５〜００８１の記載を参照することができる。

（コロナ放電処理）
コロナ放電処理は、従来公知の方法、例えば、特公昭４８−５０４３号公報、特公昭４７−５１９０５号公報、特開昭４７−２８０６７号公報、特開昭４９−８３７６７号公報、特開昭５１−４１７７０号公報、特開昭５１−１３１５７６号公報等に記載の方法により行うことができる。処理機としては、市販の各種コロナ処理機を適用でき、例えばＳＯＦＴＡＬ（ソフタル）社のマルチナイフ電極を有するコロナ処理機は多数本の電極で構成され、電極の間に空気を送ることによりフィルムの加熱防止やフィルム表面に出てくる低分子の除去等が行えるので有用である。また、片面に透明導電層が形成された基材の、透明導電層が形成されていない側に対して、電極と透明導電層との間のスパークを避けるため、放電電極として誘電体被覆電極（セラミック電極、クォーツ電極など）を、対向電極としてはステンレスなどの金属ロールを用いてコロナ処理を行うことが望ましい。

コロナ処理の条件としては、基材の種類、塗膜のマトリクスの種類、及びコロナ処理機の種類等によって異なり、中でも、照射エネルギーが０．１Ｊ／ｍ^２〜１０Ｊ／ｍ^２の範囲で行うコロナ表面処理が好ましく、０．５Ｊ／ｍ^２〜５Ｊ／ｍ^２の範囲で行うコロナ表面処理がより好ましい。

上記の表面処理を施すことにより基材の表面を親水化処理した場合、基材の表面の水に対する接触角としては、０°〜４０°が好ましく、０°〜２０°がより好ましく、更に好ましくは０°〜１０°の範囲である。

−透明導電層の形成−
透明導電層を基材上に形成する方法としては、塗布方法又は転写方法を採用して行うことができる。
塗布方法には、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択すれなよい。塗布方法としては、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、バーコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法などが挙げられる。

なお、バインダー塗布量を少なくする場合、ダイコーター、スリットコーターなどの塗布方法とすることで繊維状導電粒子の塗布ムラを抑制することができる。

転写方法では、透明導電層を塗布形成する際に用いられる塗布液を仮支持体の上に付与することにより仮支持体上に形成された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子と必要に応じてバインダー及び他の成分とを含む透明導電層を有する転写材料を用い、基材上に透明導電層を転写することにより基材上に透明導電層を形成してもよい。
具体的には、例えば転写フィルムを、その透明導電層の表面を基材に接触させて基材上のラミネートし、仮支持体を剥離することによって基材上に透明導電層を形成することができる。
なお、転写材料は、フィルム又はシートのいずれの形態で用いてもよい。

転写材料としては、仮支持体上に、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含み、繊維状導電粒子が面内の一方向に配向された透明導電層を有し、必要に応じて、他の層を有するものであってもよい。
転写フィルムは、フレキシブル性を有し、低ヘイズの透明膜が得られる材料として好適であり、例えば、既述の本開示の積層体における第１の透明導電層及び第２の透明導電層の形成に好適に用いられる。

〜仮支持体〜
仮支持体の材質は、フィルム形成した際に必要な強度と柔軟性を有する限り、特に制限はない。成形性、コストの観点からは樹脂フィルムであることが好ましい。
仮支持体として用いられるフィルムは、可撓性を有し、加圧下または、加圧および加熱下で著しい変形、収縮もしくは伸びを生じないフィルムが好ましい。より具体的には、仮支持体としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム、トリ酢酸セルロース（ＴＡＣ）フィルム、ポリスチレン（ＰＳ）フィルム、ポリカーボネート（ＰＣ）フィルム等が挙げられ、２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
仮支持体の外観にも特に制限はなく、透明フィルムでもよく、着色されたフィルムでもよい。着色されたフィルムとしては、染料化ケイ素、アルミナゾル、クロム塩、ジルコニウム塩などを含有する樹脂フィルムが挙げられる。
仮支持体には、特開２００５−２２１７２６号公報に記載の方法などにより、導電性を付与することができる。

〜透明導電層〜
透明導電層は、既述の第１の透明導電層及び第２の透明導電層に用いられる成分、具体的には、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子、並びに、必要に応じてバインダー及び他の成分を含む。
透明導電層に含有される成分の詳細については、既述の通りである。
透明導電層は、上記の成分を含有する調製液を調製し、調製した調製液を例えば塗布等により仮支持体状に付与し、乾燥させることにより形成することができる。
塗布は、上記の塗布方法を適用することができる。

転写材料は、既述の透明導電層に加え、効果を損なわない範囲で他の任意の層を有していてもよい。

〜熱可塑性樹脂層〜
転写フィルムは、仮支持体と透明導電層との間に熱可塑性樹脂層を設けることができる。熱可塑性樹脂層を設けることで、転写フィルムを被転写体に転写して積層体を形成する場合、各層における気泡の発生が抑制され、気泡に起因する画像ムラなどが発生し難くなるため好ましい。
熱可塑性樹脂層はアルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂層を設けることで、被転写体表面の凹凸を吸収するクッション材として機能することが好ましく、対象面の凹凸に応じて変形しうる性質を有している樹脂層であることが好ましい。

熱可塑性樹脂層は、特開平５−７２７２４号公報に記載の有機高分子物質を成分として含む態様が好ましく、ヴィカー（Ｖｉｃａｔ）法〔具体的には、アメリカ材料試験法エーエステーエムデーＡＳＴＭＤ１２３５によるポリマー軟化点測定法〕による軟化点が約８０℃以下の有機高分子物質より選ばれる少なくとも１種を含む態様が特に好ましい。

熱可塑性樹脂層を設ける場合の層厚は、３μｍ〜３０μｍが好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚を上記範囲とすることで、転写時の追随性が良好で、被転写体表面の凹凸を吸収でき、かつ、熱可塑性樹脂層の形成時における乾燥、現像が簡易に行なえるため好ましい。熱可塑性樹脂層の層厚としては、４μｍ〜２５μｍが更に好ましく、５μｍ〜２０μｍが特に好ましい。

〜中間層〜
転写フィルムは、任意に設けられる熱可塑性樹脂層と透明導電層との間に中間層を設けることができる。中間層としては、特開平５−７２７２４号公報に「分離層」として記載されている層を適用することができる。

〜保護フィルム〜
転写フィルムは、透明導電層の表面に保護フィルムを設けることができる。保護フィルムを設けることで、転写フィルにおける被転写体と密着する面である透明導電層の表面を保護することができる。

保護フィルムとしては、特開２００６−２５９１３８号公報の段落００８３〜００８７及び００９３に記載の保護フィルムを適宜使用することができる。

（中間層）
基材と透明導電層との間には、中間層が設けられてもよい。
中間層を有することにより、基材と透明導電層との密着性、透明導電層の光透過率、ヘイズ、及び膜強度を向上させることが可能になる。

中間層としては、基材と透明導電層との接着力を向上させるための接着剤層、透明導電層に含まれる成分との相互作用により機能性を向上させる機能性層等が挙げられ、目的に応じて適宜設けられる。中間層は、単層でもよく、複数の層を含んでいてもよい。

中間層の詳細については、特開２０１３−２００９９９号公報の段落００８９〜０１００及び段落０１０１〜０１０６の記載を参照することができる。

中間層は、中間層を構成する化合物が溶解、分散（懸濁又は乳化）した液を基材上に塗布し、乾燥することで形成することができる。塗布方法としては、目的に応じて適宜選択すればよく、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコート法、ブレードコート法、グラビアコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等が挙げられる。

−フォトレジスト層形成工程−
透明導電部材の製造方法では、まず、透明導電層上に感光性樹脂組成物を含むフォトレジスト層を形成する。
フォトレジスト層は、特に制限なく、目的に応じて適宜選択することができ、ポジ型レジスト層でもよく、ネガ型レジスト層でもよい。ポジ型レジスト層の場合には、パターン状の露光領域が可溶化され、未露光領域（未溶解化領域）にパターン状のレジスト層が形成され、ネガ型レジスト層の場合には、露光領域が硬化されたレジスト層となり、溶解液の付与により、未露光部、即ち未硬化部のレジスト層が除去され、パターン状のレジスト層が形成される。

レジスト層形成用材料には、特に制限はなく、ネガ型、ポジ型、ドライフイルムタイプなどのいずれも用いることができる。
レジスト層の形成には、市販のアルカリ可溶性フォトレジストを適宜選択してもよい。

−パターン露光工程−
透明導電部材の製造方法では、形成されたフォトレジスト層をパターン状に露光（パターン露光）する。
パターン露光に用いる光源は、フォトレジスト組成物の感光波長域との関連で選定され、一般的にはｇ線、ｈ線、ｉ線、ｊ線等の紫外線が好ましい。光源種としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、及び発光ダイオード（ＬＥＤ）が挙げられる。

パターン露光の方法には、特に制限はなく、フォトマスクを利用した面露光により行ってもよいし、レーザービーム等による走査露光により行ってもよい。また、レンズを用いた屈折式露光により行ってもよいし、反射鏡を用いた反射式露光により行ってもよい。また、コンタクト露光、プロキシミティー露光、縮小投影露光、反射投影露光などの露光方式を用いて行ってもよい。

−現像工程−
透明導電部材の製造方法では、パターン露光後、パターン露光されたフォトレジスト層を現像する。これにより、パターン露光された露光領域又は非露光領域のフォトレジスト層を除去し、透明導電層の表面にパターン状のレジスト層を形成する。

現像工程では、アルカリ現像液が一般に用いられる。
アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム及びアンモニア水等の無機アルカリ類、エチルアミン及びｎ−プロピルアミン等の第一アミン類、ジエチルアミン及びジ−ｎ−ブチルアミン等の第二アミン類、トリエチルアミン及びメチルジエチルアミン等の第三アミン類、ジメチルエタノールアミン及びトリエタノールアミン等のアルコールアミン類、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド及びテトラエチルアンモニウムヒドロキシド等の第四級アンモニウム塩、又は、ピロール及びピヘリジン等の環状アミン類を含んだアルカリ性水溶液が挙げられる。
現像方式としては、シャワー方式又はディップ方式等のいずれでもよい。

−エッチング工程−
透明導電部材の製造方法では、透明導電層におけるフォトレジスト層で被覆されていない領域にある繊維状導電粒子をエッチャントで溶解、除去して非導電性領域を形成する。
これにより、パターン状の導電性領域（即ち、電極パターン）が形成される。

エッチング工程としては、公知の方法としてエッチャントによる処理（ウェットエッチング）、及び減圧下で反応性ガスをプラズマ放電で活性化させた処理（ドライエッチング）が知られているが、本開示における透明導電部材の製造に際しては、エッチャントによる処理が好適に行われる。
エッチャントには、塩化第二鉄／塩酸系、塩酸／硝酸系、臭化水素酸系などを代表例として、公知のエッチング液が挙げられる。繊維状導電粒子として銀を含む金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブを用いる場合には、硝酸を含むことが好ましい。

エッチングは、シャワー方式又はディップ方式のいずれで行ってもよい。
また、フォトレジスト層で被覆されない領域の透明導電層上にエッチャントをスクリーン印刷等により印刷してもよい。

−レジスト剥離工程−
透明導電部材の製造方法では、最後に、上記のエッチング工程でエッチングされずに残った非露光領域又は露光領域のレジスト層をレジスト剥離液で除去する。
レジスト剥離液は、現像工程で用いた現像液を用いることができる。レジスト剥離液による剥離は、シャワー方式又はディップ方式のいずれの方法で行ってもよい。

−偏光板−
本開示の積層体は、外光が入射する側の最表面に偏光板を備えている。
偏光板を載置することにより、様々な偏光成分を有する外光のうち、あらかじめ定めた透過軸と平行に振動する光（偏光）を選択的に通過させる。
偏光板の透過軸と、第１の透明導電層金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子の配向方向と、が直交する配置であることにより、電極パターンの視認性を改善でき、ヘイズを低くすることができる。

偏光板には、従来公知のものを任意に選択して用いることができる。例えば、フィルム内にヨウ素系や染料系の高分子有機物を含有させた二色性の偏光板、基材上に光の波長よりも小さいピッチで金属等の細線を形成したワイヤグリッド型偏光板等を挙げることができる。

−λ／２板−
本開示の積層体は、既述の第１の透明導電層と第２の透明導電層との間にλ／２板を備えている。λ／２板を有することで、第１の透明導電層を通過した光の偏光方向を略９０°回転させることができる。第１の透明導電層と第２の透明導電層との間で偏光方向を略９０°回転させることにより、第１の透明導電層と第２の透明導電層を、タッチパネルのＸ方向電極とＹ方向電極にとして使用した際に、透明導電層の低抵抗と、透明導電層の低ヘイズ及び良好な視認性と、を両立できる。
本発明で用いるλ／２板は、光の偏光方向を９０°回転させる目的に適えば、単層のλ／２板であっても、波長帯域や視野角を拡大するために複数の位相差板を積層した形態でも構わない。また、液晶が連続的に９０°捩れた形態の位相差板を用いても構わない。

λ／２板には、従来公知のものを任意に選択して用いることができる。λ／２板は、上市されている市販品を用いることができ、市販品の例として、ポリマー位相差フィルムλ/2（エドモンド・オプティクス・ジャパン製）、λ／２水晶波長板（シグマ光機製）、ＨＩ−ＲＥＴＡＸ−１／２λ波長板（ルケオ製）等が挙げられる。

−基材−
本開示の積層体は、基材を備えている。
既述の第１の透明導電層と第２の透明導電層を基材上に形成して透明導電部材を作製する場合には、透明導電部材を用いて積層体を製造することにより、基材を備えた積層体が得られる。

基材としては、特に制限はなく、偏光板を経て入射した直線偏光成分の偏光性を妨げない観点から、光学的に等方な等方性基材が好ましい。

等方性基材としては、シクロオレフィンポリマー、アクリル、タック等を用いた光学フィルムが好ましく、上市されている市販品の例として、日本ゼオン株式会社のゼノアフィルム（登録商標；例えば、ＺＦ１４、ＺＦ１６）等が挙げられる。

基材の厚みとしては、１０μｍ〜２００μｍが好ましい。

＜タッチパネル及びタッチパネル付表示装置＞
本開示のタッチパネルは、既述の本開示の積層体を備えている。また、本開示のタッチパネル付表示装置は、本開示の積層体を備えタッチパネルと、表示装置とを備えている。
本開示のタッチパネル及びタッチパネル付表示装置は、本開示の積層体を備えるので、電極パターンの視認性がより改善されている。

タッチパネルとしては、例えば、表面型静電容量方式タッチパネル、投射型静電容量方式タッチパネル、抵抗膜式タッチパネルなどが挙げられる。
タッチパネルとは、いわゆるタッチセンサ及びタッチパッドを含むものである。

タッチパネルにおけるタッチパネルセンサー電極部の層構成が、２枚の透明電極を貼合する貼合方式、１枚の基材の両面に透明電極を具備する方式などを挙げることができる。

表面型静電容量方式タッチパネルについては、例えば特表２００７−５３３０４４号公報に記載されている。

タッチパネル付表示装置における表示装置には、特に制限はなく、タッチパネルが搭載されてタッチパネルを介して画像が表示され、タッチパネル上で操作を行うことができる装置であればいずれであってもよい。

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその主旨を越えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。

−銀ナノワイヤの作製−
容器内に、常温（２５℃）でエチレングリコール６０ｇとポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）２．５ｇとを入れ、５００ｒｐｍ（rotation per minute）で撹拌しながら１０分かけて１３５℃まで昇温した。その後も１３５℃に維持した状態で撹拌を継続した。また、１３５℃に到達した時点から１０分経過後、予め別の容器にてエチレングリコール０．６ｇに塩化ナトリウム０．００６ｇ（０．１ｍｍｏｌ）を溶解させて得た塩化ナトリウム溶液を添加した。塩化ナトリウム溶液を添加した時点から３分経過後に、予め別の容器にてエチレングリコール７．６５ｇに硝酸銀０．８５ｇ（５．０ｍｍｏｌ）を溶解させた硝酸銀溶液を添加した。硝酸銀溶液を添加した後、撹拌速度を１００ｒｐｍに変更し、１３５℃で３．０時間保持して加熱を終了し、そのまま室温になるまで自然冷却した。
容器内の溶液温度が室温（２５℃）になった後、反応後のスラリーを遠心管に分取し、蒸留水を添加して洗浄し、３０００ｒｐｍで５分間、遠心分離を行った。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物にメタノールを添加してスラリーとし、２５００ｒｐｍで５分間、遠心分離を施した。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物に再びメタノールを添加してスラリーとし、１５００ｒｐｍで１０分間の遠心分離を施した。遠心分離後の上澄みを除去した後、残った沈殿物を水に加えて５００ｒｐｍで１０分攪拌して銀ナノワイヤ分散液を得た。
得られた銀ナノワイヤ分散液に、市販の磁性流体ＭＳＧ−Ｗ１１（ＦｅｒｏＴｅｃ社）を混合し、磁性流体を含む銀ナノワイヤ分散液Ａ１を調製した。この際、磁性粒子の銀ナノワイヤ分散液に対する体積濃度を４％とし、銀ナノワイヤの銀ナノワイヤ分散液に対する体積濃度を４０％として銀ナノワイヤ分散液Ａ１を調製した。

得られた銀ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長を以下の方法で測定したところ、平均長軸長が１０μｍであり、平均短軸長（平均直径）が７０ｎｍであり、平均アスペクト比が１４０であった。
<金属ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長の測定>
透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＥＭ−２０００ＦＸ）を用い、拡大観察された金属ナノワイヤのうち、ランダムに３００個の金属ナノワイヤを選択し、選択した金属ナノワイヤの長軸長さと短軸長さ（直径）を測定し、それぞれの算術平均値を金属ナノワイヤの平均長軸長及び平均短軸長（平均直径）とした。

−透明導電層の形成−
等方性基材であるゼノアフィルムＺＦ１４（登録商標；Ｚｅｏｎｏｒ Ｆｉｌｍ ＺＦ１４、日本ゼオン株式会社、厚み：１００μｍ）上に、上記の銀ナノワイヤ分散液Ａ１を塗布し、８０℃で２分間乾燥させて、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み２００ｎｍの透明導電層を有する銀ナノワイヤフィルムＢ１（透明導電部材）を作製した。銀ナノワイヤの透明導電層中における含有量は、透明導電層の全量に対して４０質量％であった。
また、銀ナノワイヤフィルムＢ１を作製する際、塗布終了の時点から２分間の乾燥が完了するまでの間、等方性基材の２つの主平面に対して平行な方向に１００ｍＴの磁場を印加した。

<銀ナノワイヤの配向確認>
上記のように作製した銀ナノワイヤフィルムＢ１の透明導電層中に含まれる銀ナノワイヤの配向状態を以下の方法で確認した。即ち、
下記構造のバインダー（Ａ−１）３．８０質量部（固形分４０．０質量％、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）溶液）、感光性化合物としてのＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（６官能モノマー；日本化薬株式会社製）１．５９質量部、感光性化合物としてのＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ株式会社製）０．１５９質量部、架橋剤としてのＥＨＰＥ−３１５０（ダイセル化学株式会社製）０．１５０質量部、メガファックＦ７８１Ｆ（界面活性剤；ＤＩＣ株式会社製）０．００２質量部、及びＰＧＭＥＡ １９．３質量部を混合して攪拌し、ネガ型のレジスト用感光性組成物Ｃ１を調製した。
次に、銀ナノワイヤフィルムＢ１の上に、レジスト用感光性組成物Ｃ１を乾燥膜厚５μｍとなるようバー塗布し、１００℃のオーブンで１分間乾燥させて感光性層を形成した。
続いて、銀ナノワイヤフィルムＢ１上の感光性層に対して、ネガパターン（細線のライン／スペース：１５０μｍ／１５０μｍ、細線の長さ：５ｃｍ、細線の本数：５０本）が形成されたマスクを介して、高圧水銀灯を用いてｉ線（３６５ｎｍ）を６０ｍＪ／ｃｍ^２（照度２０ｍＷ／ｃｍ^２）にて照射した。この際、マスクの細線の方向と磁場の印加方向とが平行になるようにした。

なお、バインダー（Ａ−１）の構造中の数値は、バインダー中に含まれる各構成単位のモル比を示す。
また、バインダー（Ａ−１）の重量平均分子量（Ｍｗ）は３０，０００であり、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は２．２１である。Ｍｗ及びＭｗ／Ｍｎは、下記の条件にてゲル透過クロマトグラフ（ＧＰＣ）により行った。検量線は、東ソー（株）製「標準試料ＴＳＫ ｓｔａｎｄａｒｄ，ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ」：「Ｆ−４０」、「Ｆ−２０」、「Ｆ−４」、「Ｆ−１」、「Ａ−５０００」、「Ａ−２５００」、「Ａ−１０００」、「ｎ−プロピルベンゼン」の８サンプルから作製した。
<条件>
・ＧＰＣ：ＨＬＣ（登録商標）−８０２０ＧＰＣ（東ソー（株）製）
・カラム：ＴＳＫｇｅｌ（登録商標）、Ｓｕｐｅｒ ＭｕｌｔｉｐｏｒｅＨＺ−Ｈ（東ソー（株）製、４．６ｍｍＩＤ×１５ｃｍ）を３本
・溶離液：ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）
・試料濃度：０．４５質量％
・流速：０．３５ｍｌ／ｍｉｎ
・サンプル注入量：１０μｌ
・測定温度：４０℃
・検出器：示差屈折計（ＲＩ）

露光後、感光性層が形成された銀ナノワイヤフィルムＢ１を、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて、シャワー圧０．０４ＭＰａにてシャワー現像を６０秒間行った。その後、純水のシャワーでリンスし、５０℃で１分間乾燥させて、レジストパターン付銀ナノワイヤフィルムを作製した。

次に、レジストパターン付銀ナノワイヤフィルムを、１．０質量％の硝酸、１．０質量％のＦｅ（III）−ＥＤＴＡ（エチレンジアミンテトラ酢酸鉄（III）ナトリウム塩三水和物）、１．０質量％のチオ硫酸アンモニウムを含む混合水溶液からなる３０℃のエッチング液に２分間浸漬し、エッチングを行った後、純水のシャワーでリンスし、更に５０℃で１分間乾燥した。
その後、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液でレジストを剥離し、純水のシャワーでリンスした。その後、５０℃で１分間乾燥し、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み２００ｎｍの透明導電層からなるパターンを形成した。パターン形状は、ライン／スペースが１５０μｍ／１５０μｍであり、長さが５ｃｍであった。
その後、パターン中の細線の長手方向の電気抵抗を四端子法抵抗器を用いて測定した。結果、電気抵抗は、２０Ωであった。

上記とは別に、感光性層の面方向におけるマスクの細線の長手方向と磁場の印加方向との角度を５°ずつ間隔を変えたこと以外は、上記と同様にして、角度０°〜９０°の範囲でｉ線を照射し、現像等を経ることにより、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み２００ｎｍの透明導電層からなるパターンを１８種形成し、パターン中の細線の長手方向の電気抵抗を測定した。
その結果、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とを平行（０°）にして露光して得られたパターンにおける電気抵抗が最も低く（２０Ω）、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とが９０°の角度をなすように露光して得られたパターンにおける電気抵抗が最も高かった（１ｋΩ）。
以上の結果より、上記で作製した銀ナノワイヤフィルムＢ１は、透明導電層中の銀ナノワイヤは磁場の印加方向と平行に配向していることが確認された。

（実施例１）
−パターン化された銀ナノワイヤフィルムの形成−
上記のように作製した銀ナノワイヤフィルムＢ１を、上記の「銀ナノワイヤの配向確認」と同様の方法によりパターンニングし、等方性基材上に銀ナノワイヤを含有する厚み２００ｎｍの透明導電層からなる電極パターンが形成されたパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１を作製した。
パターンニングは、ネガパターン（細線のライン／スペース：１５０μｍ／１５０μｍ、細線の長さ：５ｃｍ、細線の本数：５０本）が形成されたマスクを介して、マスクの細線の長手方向と磁場の印加方向とを平行にしてｉ線を感光性層に照射することにより行った。パターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１は、銀ナノワイヤの配向方向に平行な方向に長い細線パターンを有している。

−積層体の作製−
続いて、パターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１を２枚用意し、それぞれの細線の長手方向が互いに９０°の角度をなすように２枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１を積層した。
この際、２枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１の間にλ／２板（ポリマー位相差フィルムλ／２（エドモンド・オプティクス・ジャパン製））を、λ／２板の光学軸とパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１のそれぞれの銀ナノワイヤの配向方向とが互いに４５°の角度をなすように配置して挟んだ。即ち、パターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１の電極パターン上にλ／２板を積層し、λ／２板上に、等方性基材がλ／２板と接するように別のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１を積層した。
続いて、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１の電極パターンの上に偏光板を、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１の銀ナノワイヤの配向方向と偏光板の透過軸とが互いに９０°の角度をなすように配置して積層した。
上記のようにして、図１に示す積層構造を有する積層体を作製した。作製された積層体の２枚のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１における銀ナノワイヤの配向方向は、互いに９０°の角度をなす状態となっている。

（実施例２〜３）
実施例１において、偏光板の透過軸と、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムＤ１の銀ナノワイヤの配向方向と、がなす角度を８０°又は７０°に変更したこと以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。この際、上層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムの銀ナノワイヤの配向方向と、下層側のパターン化銀ナノワイヤフィルムの銀ナノワイヤの配向方向と、とのなす角度は９０°とした。

（比較例１）
実施例１において、偏光板を設けなかったこと以外は、実施例１と同様にして、積層体を作製した。

（比較例２）
実施例１において、銀ナノワイヤフィルムＢ１を作製する際に磁場を印加しなかったこと以外は、実施例１と同様にして積層体を作製した。

（評価）
実施例１〜３及び比較例１〜２で作製した積層体に対して、以下の評価を行った。評価結果を書き表１に示す。

−１．ヘイズ−
積層体のヘイズをヘイズメーター（ヘイズガードプラス、ガードナー社製）を用いて測定し、下記の評価基準にしたがって評価した。評価基準のうち、Ａが実用上の許容範囲である。
<評価基準>
Ａ：１％未満
Ｂ：１％以上３％未満
Ｃ：３％以上

−２．電極パターンの視認性−
透明接着テープ（商品名：ＯＣＡテープ８１７１ＣＬ、スリーエムジャパン株式会社製）を用い、積層体の偏光板を有する側とは反対側の等方性基材の表面に黒色のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）材を貼り付けた。暗室内で積層体に対して偏光板側から蛍光灯の光をあて、偏光板からの反射光を斜めから目視で観察し、電極パターンの見え方を下記の評価基準にしたがって評価した。評価基準のうち、Ａ，Ｂ及びＣが実用上の許容範囲であり、Ａ又はＢが好ましく、Ａがより好ましい。
<評価基準>
Ａ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視しても電極パターンが見えず、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際にも電極パターンは見えない。
Ｂ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際は電極パターンは見えない。
Ｃ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンが僅かに見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際も電極パターンが僅かに見える。
Ｄ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視したい際は電極パターンが僅かに見える。
Ｅ：積層体から１５ｃｍ離れた位置から凝視すると電極パターンがはっきり見え、積層体から４０ｃｍ離れた位置から普通に目視した際も電極パターンがはっきり見える。

表１に示すように、実施例では、銀ナノワイヤの配向方向と直交する方向に振動する偏光光を入射させ、かつ、λ／２板を介して２枚の透明導電層を配置したことで、電極パターンの視認性が著しく改善され、ヘイズも低く抑えられた。また、実施例では、電極パターンの抵抗をより効果的に低減することができた。

本開示の積層体は、電極パターンの視認性が改善され、低ヘイズかつ低抵抗あるので、例えば、タッチパネル、ディスプレイ用電極、電磁波シールド、有機ＥＬディスプレイ用電極、無機ＥＬディスプレイ用電極、電子パーパー、及びフレキシブルディスプレイ用電極等、並びに、集積型太陽電池、液晶表示装置、及びタッチパネル機能付表示装置等の各種デバイスなどに幅広く適用される。中でも、タッチパネルへの適用が特に好ましい。

１０ 透過軸
１２ 繊維状導電粒子（金属ナノワイヤ、金属ナノチューブ）
１４ 偏光板
１６ 銀ナノワイヤフィルム（透明導電部材）
１８ λ／２板
２０ 銀ナノワイヤフィルム（透明導電部材）
２２ 第１の透明導電層
２４，２８ 等方性基材
２６ 第２の透明導電層
１００ 積層体
ｈν 光

Claims (4)

1. 偏光板と、
   λ／２板と、
   基材と、
   前記偏光板と前記λ／２板との間に配置されており、前記偏光板の透過軸と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第１の透明導電層と、
   前記λ／２板と前記基材との間に配置されており、前記第１の透明導電層に含まれる前記繊維状導電粒子の配向方向と直交する方向に配向された、金属ナノワイヤ及び金属ナノチューブから選ばれる少なくとも一種の繊維状導電粒子を含む第２の透明導電層と、
   を有する積層体。
2. 前記金属ナノワイヤは、銀ナノワイヤを含む請求項１に記載の積層体。
3. 請求項１又は請求項２に記載の積層体を備えたタッチパネル。
4. 請求項３に記載のタッチパネルと、表示装置と、を備えたタッチパネル付表示装置。