JP2018157234A - ステージ、ステージの製造方法 - Google Patents
ステージ、ステージの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018157234A JP2018157234A JP2018128280A JP2018128280A JP2018157234A JP 2018157234 A JP2018157234 A JP 2018157234A JP 2018128280 A JP2018128280 A JP 2018128280A JP 2018128280 A JP2018128280 A JP 2018128280A JP 2018157234 A JP2018157234 A JP 2018157234A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tubes
- flow paths
- flow path
- plate
- heat exchanger
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 19
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 34
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 2
- 238000003325 tomography Methods 0.000 claims 1
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 17
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 15
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- 230000004308 accommodation Effects 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 5
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000002591 computed tomography Methods 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 238000013170 computed tomography imaging Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 238000001020 plasma etching Methods 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 101000911772 Homo sapiens Hsc70-interacting protein Proteins 0.000 description 1
- 101000661807 Homo sapiens Suppressor of tumorigenicity 14 protein Proteins 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000004380 ashing Methods 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 210000002777 columnar cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- -1 for example Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229920003051 synthetic elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000005061 synthetic rubber Substances 0.000 description 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
【解決手段】
一実施形態に係るステージは、プレートと熱交換器とを備える。プレートは、その上に基板が載置される表面側と裏面側とを有する。熱交換器は、プレートの裏面側の複数の領域であり、2次元的に分布し、且つ互いに内包しない該複数の領域に対して個別に熱交換媒体を供給して、供給した熱交換媒体を回収するように構成されている。
【選択図】図2
Description
Claims (12)
- その上に基板が載置される表面側と裏面側とを有するプレートと、
前記プレートの前記裏面側の複数の領域であり、2次元的に分布し、且つ互いに内包しない該複数の領域に対して個別に熱交換媒体を供給して、供給した熱交換媒体を回収するように構成された熱交換器であり、
前記プレートの前記裏面側に向けて上方に延び、前記裏面側に対面する第1の開口端と該第1の開口端の反対側に設けられた第2の開口端を提供する複数の第1の管であり、前記プレートの下方において分布された、該複数の第1の管と、
前記複数の第1の管をそれぞれ囲む複数の空間を画成する隔壁と、
前記複数の空間にそれぞれ連通するよう前記隔壁に接続する複数の第2の管であり、各々が熱交換媒体を排出するための第3の開口端を提供する、該複数の第2の管と、
を有する、該熱交換器と、
前記複数の第1の管にそれぞれ接続する一端部と他端部とを有する複数の第1の流路、及び、前記複数の第2の管にそれぞれ接続する一端部と他端部とを有する複数の第2の流路が形成された流路部と、
を備え、
前記流路部は、上面を有するブロック体であり、
前記複数の第1の流路の前記一端部の各々は、上下方向から見て、前記複数の第1の管のうち対応する第1の管の前記第1の開口端に対して重なる位置において、前記上面に開口し、
前記複数の第2の流路の前記一端部の各々は、上下方向から見て、前記複数の第2の管のうち対応する第2の管の前記第3の開口端に対して重なる位置において、前記上面に開口している、
ステージ。 - 前記プレートを支持するケースであって、前記熱交換器及び前記流路部を収容する空間を前記プレートと共に画成する、該ケースを更に備え、
前記流路部は、前記複数の第1の流路の他端部が局所的に集められた第1の集合部、及び、前記複数の第2の流路の前記他端部が局所的に集められた第2の集合部を有し、
前記ケースには、前記流路部の前記第1の集合部に対面する第1の開口、及び、前記流路部の前記第2の集合部に対面する第2の開口が形成されている、請求項1に記載のステージ。 - 前記複数の第1の管、前記隔壁、及び、前記複数の第2の管が、樹脂によって一体的に形成されている、請求項1又は2に記載のステージ。
- 前記熱交換器及び前記流路部が、樹脂によって一体的に形成されている、請求項1〜3の何れか一項に記載のステージ。
- 前記複数の第1の流路の各々は、前記複数の第1の流路のコンダクタンスが互いに等しくなるような径を有しており、
前記複数の第2の流路の各々は、前記複数の第2の流路のコンダクタンスが互いに等しくなるような径を有している、
請求項1〜4の何れか一項に記載のステージ。 - 前記プレートの前記裏面側には、互いに離間する複数の凹部が形成され、該複数の凹部には前記複数の第1の管の前記第1の開口端がそれぞれ挿入されている、
請求項1〜5の何れか一項に記載のステージ。 - 前記複数の第1の管には、対応する前記第1の管に流入する前記熱交換媒体の流量を制御する複数のオリフィスがそれぞれ接続されている、
請求項1〜6の何れか一項に記載のステージ。 - 前記複数の第2の管の各々は、前記第3の開口端に向かうにつれて先細っている、請求項1〜7の何れか一項に記載のステージ。
- その上に基板が載置される表面側と裏面側とを有するプレートを準備する工程と、
熱交換器及び流路部を個別に又は一括して準備する工程と、
前記プレート、前記熱交換器、及び前記流路部を有するステージを作成する工程と、
を有し、
前記熱交換器は、
前記プレートの前記裏面側に向けて上方に延び、前記裏面側に対面する第1の開口端と該第1の開口端の反対側に設けられた第2の開口端を提供する複数の第1の管であり、前記プレートの下方において分布された、該複数の第1の管と、
前記複数の第1の管をそれぞれ囲む複数の空間を画成する隔壁と、
前記複数の空間にそれぞれ連通するよう前記隔壁に接続する複数の第2の管であり、各々が熱交換媒体を排出するための第3の開口端を提供する、該複数の第2の管と、
を有し、
前記流路部は、上面を有するブロック体であり、前記複数の第1の管にそれぞれ接続する一端部と他端部とを有する複数の第1の流路、及び、前記複数の第2の管にそれぞれ接続する一端部と他端部とを有する複数の第2の流路を有し、
前記複数の第1の流路の前記一端部の各々は、上下方向から見て、前記複数の第1の管のうち対応する第1の管の前記第1の開口端に対して重なる位置において、前記上面に開口し、
前記複数の第2の流路の前記一端部の各々は、上下方向から見て、前記複数の第2の管のうち対応する前記第3の開口端に対して重なる位置において、前記上面に開口し、
少なくとも前記流路部は、3Dプリンタを用いて形成されている、
ステージの製造方法。 - 前記熱交換器及び流路部を個別に又は一括して準備する工程は、
反転模型を準備する工程であり、該反転模型が、前記複数の第1の流路及び前記複数の第2の流路の反転形状を有する複数の中実ケーブルと、前記複数の中実ケーブルの素材とは異なる素材からなり、前記複数の中実ケーブルが互いに非接触となるように該複数の中実ケーブルを個別に被覆する複数の分離チューブとを含む、該工程と、
前記反転模型をコンピュータ断層撮影し、前記複数の中実ケーブルと複数の分離チューブとの素材の違いに基づいて、撮影された断層画像から前記複数の中実ケーブルの3次元データを抽出し、該3次元データの反転パターンに基づいて3Dプリンタ用のモデルデータを生成する工程と、
前記3Dプリンタ及び前記モデルデータを用いて、前記流路部を形成する工程と、
を含む、請求項9に記載のステージの製造方法。 - 前記反転模型が、前記複数の中実ケーブルの端部を束ねる結束チューブを更に含む、請求項10に記載のステージの製造方法。
- 前記熱交換器及び流路部を個別に又は一括して準備する工程は、前記複数の第1の流路及び前記複数の第2の流路に相当する部分の径、屈曲率又は長さが調整されるように、前記モデルデータを修正する工程を更に含む、請求項10又は11に記載のステージの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013265774 | 2013-12-24 | ||
JP2013265774 | 2013-12-24 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014228943A Division JP6374301B2 (ja) | 2013-12-24 | 2014-11-11 | ステージ、ステージの製造方法、熱交換器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018157234A true JP2018157234A (ja) | 2018-10-04 |
JP6545330B2 JP6545330B2 (ja) | 2019-07-17 |
Family
ID=63715839
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018128280A Active JP6545330B2 (ja) | 2013-12-24 | 2018-07-05 | ステージ、ステージの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6545330B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023036572A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | ウォニク アイピーエス カンパニー リミテッド | 基板処理装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10284382A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-10-23 | Komatsu Ltd | 温度制御装置 |
JP2001185492A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP2004083338A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Nippon Soda Co Ltd | 一酸化炭素発生炉の冷却構造 |
-
2018
- 2018-07-05 JP JP2018128280A patent/JP6545330B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10284382A (ja) * | 1997-04-07 | 1998-10-23 | Komatsu Ltd | 温度制御装置 |
JP2001185492A (ja) * | 1999-12-24 | 2001-07-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 半導体製造装置 |
JP2004083338A (ja) * | 2002-08-27 | 2004-03-18 | Nippon Soda Co Ltd | 一酸化炭素発生炉の冷却構造 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2023036572A (ja) * | 2021-09-02 | 2023-03-14 | ウォニク アイピーエス カンパニー リミテッド | 基板処理装置 |
JP7441905B2 (ja) | 2021-09-02 | 2024-03-01 | ウォニク アイピーエス カンパニー リミテッド | 基板処理装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6545330B2 (ja) | 2019-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6374301B2 (ja) | ステージ、ステージの製造方法、熱交換器 | |
JP6018606B2 (ja) | 温度制御可能なステージを含むシステム、半導体製造装置及びステージの温度制御方法 | |
JP6226746B2 (ja) | 対称給電構造を有する基板サポート | |
JP5970040B2 (ja) | 温度制御システム及び温度制御方法 | |
TWI645443B (zh) | Plasma processing device and plasma processing method | |
JP2010526986A (ja) | 熱交換器、冷却装置及び冷却方法 | |
JP6936884B2 (ja) | 改良されたフロー均一性/ガスコンダクタンスを備えた可変処理容積に対処するための対称チャンバ本体設計アーキテクチャ | |
JP6545330B2 (ja) | ステージ、ステージの製造方法 | |
US8310132B2 (en) | Insonification device having an internal cooling chamber | |
TW201411688A (zh) | 電漿處理裝置及電漿處理方法 | |
KR102592865B1 (ko) | 플라스마 처리 장치 및 플라스마 처리 방법 | |
JP7374016B2 (ja) | 基板処理装置 | |
KR20140090182A (ko) | 플라즈마 처리 방법 및 플라즈마 처리 장치 | |
JP6807217B2 (ja) | ステージ及び基板処理装置 | |
JP2022530213A (ja) | 空間的に調節可能なウエハへのrf結合を有する静電チャック | |
JP6529512B2 (ja) | ステージ及び基板処理装置 | |
US11004664B2 (en) | Heat transfer medium supply system and substrate processing apparatus | |
WO2022168673A1 (ja) | 基板処理装置、基板支持器、及び基板処理方法 | |
KR102442257B1 (ko) | 기판을 처리하는 장치 및 스테이지를 클리닝하는 방법 | |
JP2009278001A (ja) | 荷電ビーム描画装置 | |
JP2023123190A (ja) | 基板処理装置 | |
Liu et al. | Modeling of the particle fluxes of a helium plasma jet onto water surface |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180705 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190312 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190314 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190328 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190521 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190618 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6545330 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |