JP2018157179A - 圧電素子およびその製造方法、ならびに液体吐出ヘッド - Google Patents
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Description
本発明に係る圧電素子は、第一の圧電層と、前記第一の圧電層上の第二の圧電層と、前記第二の圧電層上の電極層と、を有する。ここで、前記第一の圧電層および前記第二の圧電層は空孔を有する。また、前記第二の圧電層の空孔率は、前記第一の圧電層の前記第二の圧電層側界面近傍の空孔率よりも低い。
基板の材料は特に限定されないが、圧電層形成時の焼成工程において、変形、溶融しない材料が好ましい。また、本発明に係る圧電素子を用いて液体吐出ヘッドを製造する場合には、基板が圧力室を形成するための圧力室基板または振動板を兼ねていてもよい。該基板としては、例えば、シリコン(Si)やタングステン(W)などからなる半導体基板、耐熱ステンレス(SUS)からなる基板が好ましい。また、基板の材料として、ジルコニア、アルミナ、シリカなどのセラミックを用いてもよい。基板の材料は一種を用いてもよく、二種以上を併用してもよい。また、基板は、前記材料を複数積層して多層構成としてもよい。
電極層(図1に示される圧電素子では上部電極5に相当)の材料は特に限定されず、圧電素子の電極に通常用いられている材料から適宜選択される。例えば、Ti、Pt、Ta、Ir、Sr、In、Sn、Au、Al、Fe、Cr、Niなどの金属およびこれらの酸化物が挙げられる。これらの材料は一種を用いてもよく、二種以上を併用してもよい。また、電極層は、前記材料を複数積層して多層構成としてもよい。電極層の厚みは特に限定されないが、例えば5〜2000nmとすることができる。なお、図1に示される圧電素子では上部電極5が本発明における電極層に相当するが、下部電極2についても該電極層と同様の構成とすることができる。
第一の圧電層および第二の圧電層は空孔を有する。本発明では、第二の圧電層の空孔率は、第一の圧電層の第二の圧電層側界面近傍の空孔率よりも低い。第二の圧電層の空孔率が第一の圧電層の第二の圧電層側界面近傍の空孔率よりも低いことにより、電極層の材料の圧電層への浸透を抑制でき、電気的なリークを抑制できる。第二の圧電層の空孔率は、第一の圧電層の第二の圧電層側界面近傍の空孔率よりも3%以上低いことが好ましく、5%以上低いことがより好ましい。
本発明に係る圧電素子は、前述した層以外にも、例えば基板と下部電極との間に接着性向上のために配置される中間層、配向制御や濡れ性を向上させるためのシード層、バリア層等を有していてもよい。
本発明に係る圧電素子の製造方法は、前記第一の圧電層の前駆体塗工液(以下、塗工液とも示す)を基板上に塗工して乾燥し、焼成する工程と、前記第二の圧電層の前駆体塗工液を前記第一の圧電層上に塗工して乾燥し、焼成する工程と、前記第二の圧電層上に電極層を形成する工程と、を含む。前記方法によれば、本発明に係る圧電素子を容易に製造することができる。
本発明に係る液体吐出ヘッドは、本発明に係る圧電素子を有する圧電アクチュエータを備え、前記圧電アクチュエータが駆動されて液体を吐出する。本発明に係る液体吐出ヘッドは、液体の吐出に用いられる圧電アクチュエータが本発明に係る圧電素子を有するため、電極間における電気的なリークが抑制され、圧電素子が良好な圧電特性を示し、液体の吐出を安定して精度良く行うことができる。本発明に係る液体吐出ヘッドの代表的な適用例としては、インクを吐出して記録を行うインクジェット装置に適用されるインクジェット記録ヘッドが挙げられる。しかしながら、この用途に限定されず、プリンタ、複写機、通信システムを有するファクシミリ、プリンタ部を有するワードプロセッサなどの装置、さらには各種処理装置と複合的に組み合わせた産業記録装置に適用可能である。例えば、バイオチップ作製や電子回路印刷や半導体基板作製などの用途としても用いることができる。
(第一の圧電層の塗工液の調製)
第一の圧電層を形成するための塗工液として、含まれる金属の組成比がBa/Ca/Ti/Zr=0.95/0.05/0.95/0.05(モル比)で表される塗工液をゾルゲル法により調製した。具体的には、バリウムジイソプロポキシド0.0095mol、カルシウムジイソブトキシド0.0005mol、チタンテトライソブトキシド0.0095mol、およびジルコニウムテトライソブトキシド0.0005molを、2−メトキシエタノール20mlおよび3−メトキシ−3−メチルブタノール20mlと混合した。これを3時間加熱して還流し、第一の圧電層の塗工液を調製した。
第二の圧電層の塗工液として、BaTiO3を含むMODコート液であるBT−06(商品名、株式会社高純度化学研究所製)を用いた。
基板として、直径6インチ(15cm)のシリコン基板の表面に、熱酸化により厚さ500nmのシリカ(SiO2)層を設けた基板を用意した。前記基板の前記シリカ層上に、前記基板を加熱せずにTiをスパッタリング法で成膜し、厚さ10nmの中間層を形成した。続いて、前記中間層上に、前記基板を加熱せずにPtをスパッタリング法にて成膜し、厚さ150nmの下部電極を形成した。
前記圧電素子の下部電極と上部電極との間に、電界を電界強度20kV/cmで加え、リーク電流を測定した。結果を表2に示す。
第二の圧電層の塗工液として、BT−06の代わりに、前記第一の圧電層の塗工液1mlに2−メトキシエタノール4mlを添加し希釈した塗工液を用い、厚さ100nmの第二の圧電層を形成した以外は、実施例1と同様に圧電素子を製造し、評価した。結果を表2に示す。
第二の圧電層を設けなかったこと以外は、実施例1と同様に圧電素子を製造し、評価した。結果を表2に示す。
2 下部電極
3 第一の圧電層
4 第二の圧電層
5 上部電極
Claims (11)
- 第一の圧電層と、前記第一の圧電層上の第二の圧電層と、前記第二の圧電層上の電極層と、を有する圧電素子であって、
前記第一の圧電層および前記第二の圧電層が空孔を有し、
前記第二の圧電層の空孔率が、前記第一の圧電層の前記第二の圧電層側界面近傍の空孔率よりも低いことを特徴とする圧電素子。 - 前記第二の圧電層の空孔率が40%以下であり、前記第一の圧電層の前記第二の圧電層側界面近傍の空孔率が30〜50%である請求項1に記載の圧電素子。
- 前記第二の圧電層の空孔径が、前記第一の圧電層の前記第二の圧電層側界面近傍の空孔径よりも小さい請求項1または2に記載の圧電素子。
- 前記第二の圧電層の空孔径が5〜40nmであり、前記第一の圧電層の前記第二の圧電層側界面近傍の空孔径が100〜200nmである請求項1から3のいずれか1項に記載の圧電素子。
- 前記第一の圧電層および前記第二の圧電層の少なくとも一方が、複数の層からなる請求項1から4のいずれか1項に記載の圧電素子。
- 前記第一の圧電層と前記第二の圧電層の合計の厚みが、200〜4000nmである請求項1から5のいずれか1項に記載の圧電素子。
- 前記第一の圧電層および前記第二の圧電層が、少なくともチタンおよびバリウムを含む請求項1から6のいずれか1項に記載の圧電素子。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の圧電素子の製造方法であって、
前記第一の圧電層の前駆体塗工液を基板上に塗工して乾燥し、焼成する工程と、
前記第二の圧電層の前駆体塗工液を前記第一の圧電層上に塗工して乾燥し、焼成する工程と、
前記第二の圧電層上に電極層を形成する工程と、
を含むことを特徴とする圧電素子の製造方法。 - ゾルゲル法により前記第一の圧電層を形成する工程を含む請求項8に記載の圧電素子の製造方法。
- 有機金属分解法により前記第二の圧電層を形成する工程を含む請求項8または9に記載の圧電素子の製造方法。
- 請求項1から7のいずれか1項に記載の圧電素子を有する圧電アクチュエータを備え、前記圧電アクチュエータが駆動されて液体を吐出することを特徴とする液体吐出ヘッド。
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