JP2018124488A - 光デバイス及び光デバイスの製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】光導波路部品間の高精度な光結合を実現する光デバイスを提供する。
【解決手段】光デバイス1は、基板10を有する。基板は、第1の光導波路21を有する第1の光導波路部品11と、側面間の間隔が第1の光導波路の光軸に沿った方向に変化する一対の第1の突起12、13と、第1のパターン14とを有する。光デバイスは、第2の光導波路部品30を有する。第2の光導波路部品は、第2の光導波路31と、少なくとも一対の第2の突起33、34と、第2のパターン34とを有する。第2のパターンと第1のパターンとが半田接続され、少なくとも一対の第2の突起の側面が一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接する。
【選択図】図1A

Description

本発明は、光デバイス及び光デバイスの製造方法に関する。
近年、光伝送分野においては、光導波路を有する複数の部品を1つの基板に実装するハイブリッド実装方式が注目されている。このようなハイブリッド実装方式を採用する光デバイスでは、半田の表面張力を利用して光導波路間を光結合するセルフアライン方式と呼ばれる方式が用いられることがある。
すなわち、セルフアライン方式では、光導波路を有する第1の光導波路部品が実装された基板と、光導波路を有する第2の光導波路部品とを用意し、基板の電極パターンと第2の光導波路部品の電極パターンとを対向させ、対向する電極パターンを半田で接続する。対向する電極パターンの間の半田が溶融されると、対向する電極パターンの間の半田から第2の光導波路部品の電極パターンへ半田の表面張力に基づく力が付与され、電極パターンに付与される力に応じて第2の光導波路部品が基板上を移動する。その結果、第2の光導波路部品の光導波路の端面が第1の光導波路部品の光導波路の端面に接近し、第2の光導波路部品の光導波路が第1の光導波路部品の光導波路に光結合される。
このようなセルフアライン方式では、光導波路間の相対的な位置がずれていると、光結合の精度が低下し、結合損が大きくなるので、半田接続時に基板上を移動する部品(つまり、第2の光導波路部品)を正確に位置決めすることが望ましい。そこで、半田接続に伴って2つの光導波路が光結合される際に、第2の光導波路部品に設けた突起の側面を基板に設けた突起の側面に当接させ、第2の光導波路部品を基板上の適切な位置に合わせることが検討されている。
米国特許出願公開第2002/0044745号明細書
しかしながら、単に突起の側面どうしを当接させる場合、突起の作製精度によっては、突起のサイズに個体差が生じるため、第2の光導波路部品が適切な位置からずれてしまうことがある。第2の光導波路部品が適切な位置からずれると、第2の光導波路部品の光導波路と第1の光導波路部品の光導波路との相対的な位置がずれてしまい、結果として、光結合の精度が低下してしまう恐れがある。
開示の技術は、上記に鑑みてなされたものであって、高精度な光結合を実現することができる光デバイス及び光デバイスの製造方法を提供することを目的とする。
本願の開示する光デバイスは、一つの態様において、第1の光導波路を有する第1の光導波路部品と、側面間の間隔が前記第1の光導波路の光軸に沿った方向に変化する一対の第1の突起と、第1のパターンとを有する基板と、第2の光導波路と、少なくとも一対の第2の突起と、第2のパターンとを有し、前記第2のパターンと前記第1のパターンとが半田接続され、前記少なくとも一対の第2の突起の側面が前記一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接する第2の光導波路部品とを有する。
本願の開示する光デバイスの一つの態様によれば、高精度な光結合を実現することができるという効果を奏する。
図1Aは、本実施例に係る光デバイスの構成を示す斜視図である。 図1Bは、本実施例に係る光デバイスの分解斜視図である。 図2は、本実施例における二対の突起の側面と一対の突起の側面との当接態様を示す図である。 図3は、突起の作製精度に応じた光導波路部品の位置ずれの影響を説明するための図である。 図4Aは、電極パターンの設置位置を説明するための図である。 図4Bは、電極パターンの設置位置を説明するための図である。 図5は、本実施例に係る光デバイスの製造方法を説明するための図である。 図6は、変形例に係る二対の突起と一対の突起とを示す図である。 図7は、適用例に係る光デバイスの構成を示す図である。
以下に、本願の開示する光デバイス及び光デバイスの製造方法の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施例により開示技術が限定されるものではない。
まず、本実施例に係る光デバイスの構成を説明する。図1Aは、本実施例に係る光デバイス1の構成を示す斜視図である。図1Bは、本実施例に係る光デバイス1の分解斜視図である。図1A及び図1Bに示すように、光デバイス1は、基板10と、光導波路部品30とを有する。なお、図1Bでは、光導波路部品30を基板10から分離した状態が示されている。
基板10は、光導波路部品11と、一対の突起12,13と、電極パターン14とを有する。光導波路部品11は、光導波路21を有する。光導波路21の一端面は、光導波路部品30に対向し、光導波路部品30から信号光の入力を受ける入力側端面となる。また、光導波路21の他端面は、図示しない他の光学部品に接続され、他の光学部品に信号光を出力する出力側端面となる。
一対の突起12,13は、半田接続に伴って基板10上を移動する光導波路部品30を所定の位置に合わせるための位置合わせ用の突起であり、基板10の表面に沿って延在する様に基板10上に形成される。一対の突起12,13の側面間の間隔は、光導波路21の光軸に沿った方向に変化する。
電極パターン14は、光導波路部品30との半田接続用に島状に形成されたパターンである。電極パターン14の数は、任意であるが、図1A及び図1Bでは、一例として、2つの電極パターン14が設けられている。
光導波路部品30は、電気信号に応じた信号光を光導波路から出力する発光素子であり、セルフアライン方式によって基板10上に実装される。光導波路部品30は、光導波路31と、二対の突起32,33と、電極パターン34とを有する。光導波路31の一端面は、光導波路部品11に対向し、光導波路部品11に信号光を出力する出力側端面となる。光導波路31は、出力側端面における光の反射を抑制するために、出力側端面に対して傾斜している。
二対の突起32,33は、半田接続に伴って基板10上を移動する光導波路部品30を所定の位置に合わせるための位置合わせ用の突起である。突起32,33の対の数は、2つに限らず任意であり、少なくとも一対の突起32,33が光導波路部品30に設けられれば良い。
電極パターン34は、基板10との半田接続用に島状に形成されたパターンである。電極パターン34の数は、任意であるが、図1A及び図1Bでは、一例として、2つの電極パターン14に対応して2つの電極パターン34が設けられている。電極パターン34は、基板10の電極パターン14と半田S1により接続される。
図1A及び図1Bに示した形態では、電極パターン34と、電極パターン14とが半田S1により接続される際に、対向する電極パターン14,34の間の半田S1が溶融されると、半田S1から電極パターン34へ半田S1の表面張力に基づく力が付与される。そして、電極パターン34に付与される力に応じて光導波路部品30が基板10上を移動する。その結果、光導波路部品30の光導波路31の出力側端面が光導波路部品11の光導波路21の入力側端面に接近し、光導波路31が光導波路21に光結合される。しかしながら、電極パターン34と、電極パターン14との半田接続に伴って光導波路31の出力側端面が光導波路21の入力側端面に接近する際に、光導波路31と光導波路21との相対的な位置がずれると、光結合の精度が低下する。そこで、半田接続時に基板10上を移動する光導波路部品30を正確に位置決めすることが重要となる。
本実施例に係る光デバイス1は、半田接続により光導波路31と光導波路21を光結合する際に、二対の突起32,33の側面を一対の突起12,13の側面にそれぞれ当接させて、光導波路部品30を基板10上の適切な位置に合わせ、光結合の精度を向上する。
図2は、本実施例における二対の突起32,33の側面と一対の突起12,13の側面との当接態様を示す図である。図2に示すように、一対の突起12,13の内側面12a,13a間の間隔は、間隔g1から徐々に間隔g2となる様に、光導波路21の光軸21aに沿った方向において、光導波路部品11に近づくほど、連続的に狭くなる。二対の突起32,33の側面は、一対の突起12,13の内側面12a,13aにそれぞれ当接する。これにより、光導波路部品30が基板10上の適切な位置に整合される。その結果、突起(つまり、二対の突起32,33及び一対の突起12,13)の作製精度によらず、光導波路部品30の光導波路31と、基板10上の光導波路部品11の光導波路21との相対的な位置ずれが抑制され、光結合の精度が向上する。
また、一対の突起12,13は、基板10において、光導波路21の光軸21aに対して対称な位置に設けられる。これにより、二対の突起32,33の側面が、一対の突起12,13の内側面12a,13aにそれぞれ当接する際に、光導波路部品30が光導波路21の光軸21aに沿った方向に適切に誘導される。その結果、突起(つまり、二対の突起32,33及び一対の突起12,13)の作製精度によらず、光導波路部品30の光導波路31と、基板10上の光導波路部品11の光導波路21との相対的な位置ずれがより一層抑制され、光結合の精度が更に向上する。
図3は、突起の作製精度に応じた光導波路部品30の位置ずれの影響を説明するための図である。図3の左側には、二対の突起32,33及び一対の突起12,13が相対的に大きいサイズで作製された場合に、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面にそれぞれ当接した様子が示される。図3の右側には、二対の突起32,33及び一対の突起12,13が相対的に小さいサイズで作製された場合に、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面にそれぞれ当接した様子が示される。図3において、破線は、二対の突起32,33及び一対の突起12,13が相対的に大きいサイズで作製された場合の各突起の輪郭を示し、実線は、二対の突起32,33及び一対の突起12,13が相対的に小さいサイズで作製された場合の各突起の輪郭を示す。また、図3において、光導波路21の光軸21aに沿った方向にy軸が定義され、光導波路21の光軸21aに直交する方向にx軸が定義される。
図3に示すように、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接する位置は、突起のサイズが小さいほど、光導波路21の光軸21aに沿った方向(つまり、y軸方向)にΔyずれる。これにより、光導波路部品30は、突起のサイズが小さいほど、光導波路21の光軸21aに沿った方向(つまり、y軸方向)にΔyずれる。一方で、一対の突起12,13の内側面12a,13aの間隔は、y軸方向において、光導波路部品11に近づくほど、狭くなり、かつ、二対の突起32,33の側面は、一対の突起12,13の内側面12a,13aにそれぞれ当接する。これにより、光導波路部品30が半田接続に伴って基板10上を移動する際に、光導波路21の光軸21aに直交する方向(つまり、x軸方向)の動きが規制され、x軸方向における光導波路部品30の位置ずれが最小化される。
図4A及び図4Bは、電極パターン34の設置位置を説明するための図である。図4Aは、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接する前の電極パターン34と電極パターン14との位置関係を示している。これに対し、図4Bは、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接した後の電極パターン34と電極パターン14との位置関係を示している。
上述したように、電極パターン34と電極パターン14との半田接続に伴って電極パターン34と電極パターン14との間の半田S1から電極パターン34へ半田S1の表面張力に基づく力が付与される。半田S1から電極パターン34へ付与される力は、図4Aに示すように、光導波路21の光軸21aに垂直な方向(つまり、x軸方向)に付与される力T1と、光導波路21の光軸21aに平行な方向(つまり、y軸方向)に付与される力T2とを含む。電極パターン34は、図4Bに示すように、光導波路部品30において、y軸方向に付与される力T2が、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接した状態で、残存する位置に設けられる。例えば、電極パターン34は、電極パターン34の縁部と電極パターン14の縁部とが、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接した状態で、y軸方向に互いにオフセットする位置に設けられる。これにより、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接した状態で、力T2に応じて光導波路部品30がy軸方向に沿って光導波路部品11に引き寄せられる。このため、光導波路部品30が基板10上の適切な位置に整合され、光導波路部品30の光導波路31と、基板10上の光導波路部品11の光導波路21との相対的な位置ずれが抑制される。結果として、光結合の精度がより向上する。
次に、本実施例に係る光デバイス1の製造方法について説明する。図5は、本実施例に係る光デバイス1の製造方法を説明するための図である。製造方法は、基板10の一対の突起12,13に光導波路部品30を載置することによって、基板10の電極パターン14と、光導波路部品30の電極パターン34とを対向させる(ステップS11)。
続いて、製造方法は、電極パターン34と電極パターン14との間の半田S1を溶融することによって、光導波路31の出力側端面を光導波路21の入力側端面に接近させる(ステップS12)。
続いて、製造方法は、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面に当接するまで待機する(ステップS13)。これにより、図1Aに示した光デバイス1が得られる。
以上説明したように、光デバイス1は、基板10と光導波路部品30とを有する。基板10は、光導波路21を有する光導波路部品11と、側面間の間隔が光導波路21の光軸21aに沿った方向に変化する一対の突起12,13と、電極パターン14とを有する。光導波路部品30は、光導波路31と、二対の突起32,33と、電極パターン34とを有する。光導波路部品30において、二対の突起32,33の側面は、電極パターン34と電極パターン14とが半田接続され、かつ、前記光導波路31の出力側端面が光導波路21の入力側端面に接近した状態で、一対の突起12,13の側面にそれぞれ当接する。すなわち、光導波路部品30は、電極パターン34と電極パターン14との半田接続に伴って光導波路31の出力側端面が光導波路21の入力側端面に接近する際に、二対の突起32,33の側面が一対の突起12,13の側面にそれぞれ当接する様に形成される。
この光デバイス1の構成により、光導波路部品30が基板10上の適切な位置に整合される。その結果、突起(つまり、二対の突起32,33及び一対の突起12,13)の作製精度によらず、光導波路部品30の光導波路31と、基板10上の光導波路部品11の光導波路21との相対的な位置ずれが抑制され、高精度な光結合が実現される。
(変形例)
なお、上記実施例では、一対の突起12,13の側面(例えば、内側面12a,13a)間の間隔が、テーパ状に変化する例を示したが、変化の仕方はこれに限定されない。変化の仕方は、例えば、曲線状等、光結合を実現可能な範囲内で任意である。
また、上記実施例では、二対の突起32,33の側面が、互いに対向する一対の突起12,13の内側面12a,13aにそれぞれ当接する例を示したが、開示技術はこれに限定されない。例えば、二対の突起32,33の側面は、図6に示すように、互いに対向しない一対の突起12,13の外側面12b,13bにそれぞれ当接するものとしても良い。この場合、一対の突起12,13の外側面12b,13b間の間隔は、間隔g3から徐々に間隔g4となる様に、光導波路21の光軸21aに沿った方向において、光導波路部品11に近づくほど、連続的に広くなる。なお、図6は、変形例に係る二対の突起32,33と一対の突起12,13とを示す図である。
(適用例)
上述した光デバイス1は、高精度な光結合を実現し得ることから、例えば、波長可変光源等の光デバイスへの適用が有効である。図7は、適用例に係る光デバイス101の構成を示す図である。図7に示す光デバイス101は、波長可変光源であり、外部共振器111が形成された基板110と、基板110上に実装された半導体光増幅器(SOA)130とを有する。外部共振器111は、光導波路121を有する。SOA130は、図示しない光導波路を有する。図7において、基板110は、図1Aに示した基板10に対応する。また、外部共振器111は、図1Aに示した光導波路部品11に対応する。また、SOA130は、図1Aに示した光導波路部品30に対応する。
1 光デバイス
10 基板
11 光導波路部品
12,13 突起
12a,13a 内側面
12b,13b 外側面
14 電極パターン
21 光導波路
21a 光軸
30 光導波路部品
31 光導波路
32,33 突起
34 電極パターン

Claims (6)

  1. 第1の光導波路を有する第1の光導波路部品と、側面間の間隔が前記第1の光導波路の光軸に沿った方向に変化する一対の第1の突起と、第1のパターンとを有する基板と、
    第2の光導波路と、少なくとも一対の第2の突起と、第2のパターンとを有し、前記第2のパターンと前記第1のパターンとが半田接続され、前記少なくとも一対の第2の突起の側面が前記一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接する第2の光導波路部品と
    を有することを特徴とする光デバイス。
  2. 前記一対の第1の突起の内側面間の間隔は、前記第1の光導波路の光軸に沿った方向において、前記第1の光導波路部品に近づくほど、狭くなり、
    前記少なくとも一対の第2の突起の側面は、前記一対の第1の突起の内側面にそれぞれ当接することを特徴とする請求項1に記載の光デバイス。
  3. 前記一対の第1の突起の外側面間の間隔は、前記第1の光導波路の光軸に沿った方向において、前記第1の光導波路部品に近づくほど、広くなり、
    前記少なくとも一対の第2の突起の側面は、前記一対の第1の突起の外側面にそれぞれ当接することを特徴とする請求項1に記載の光デバイス。
  4. 前記一対の第1の突起は、前記基板において、前記第1の光導波路の光軸に対して対称な位置に設けられることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一つに記載の光デバイス。
  5. 前記第2のパターンと前記第1のパターンとの半田接続に伴って前記第2のパターンと前記第1のパターンとの間の半田から前記第2のパターンへ前記半田の表面張力に基づく力が付与され、
    前記第2のパターンは、前記第2の光導波路部品において、前記第1の光導波路の光軸に平行な方向に付与される前記力が、前記少なくとも一対の第2の突起の側面が前記一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接した状態で、残存する位置に設けられることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載の光デバイス。
  6. 第1の光導波路を有する第1の光導波路部品と、側面間の間隔が前記第1の光導波路の光軸に沿って変化する一対の第1の突起と、第1のパターンとを有する基板と、
    第2の光導波路と、少なくとも一対の第2の突起と、第2のパターンとを有し、前記第2のパターンと前記第1のパターンとの半田接続に伴って前記第2の光導波路の端面が前記第1の光導波路の端面に接近する際に、前記少なくとも一対の第2の突起の側面が前記一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接する様に形成された第2の光導波路部品と
    を有する光デバイスの製造方法であって、
    前記基板の前記一対の第1の突起に前記第2の光導波路部品を載置することによって、前記基板の前記第1のパターンと、前記第2の光導波路部品の前記第2のパターンとを対向させ、
    前記第2のパターンと前記第1のパターンとの間の半田を溶融することによって、前記第2の光導波路の端面を前記第1の光導波路の端面に接近させ、
    前記少なくとも一対の第2の突起の側面が前記一対の第1の突起の側面にそれぞれ当接するまで待機する
    ことを特徴とする光デバイスの製造方法。
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