JP2018085537A - 加工装置のセッティング方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】複数のチャックにそれぞれ保持されたウェハを均一に研削する加工装置のセッティング方法を提供する。【解決手段】保持手段2の上方に固設されたコラム4に粗研削手段5及び精研削手段6を設けた加工装置1による研削加工の実施前に、精研削砥石61でチャック22のチャック面を平坦、且つ、チャック22の回転軸に対して垂直に形成し、精研削砥石6の回転軸に対してチャック22の回転軸が所定範囲内に収まるように、第1の傾斜手段でチャック22の回転軸を傾斜させ、チャック22の回転軸に対して粗研削砥石51の回転軸が所定範囲内に収まるように、第2の傾斜手段9で粗研削砥石51の回転軸を傾斜させる.【選択図】図1

Description

本発明は、ウェハに粗研削加工及び精研削加工を行う加工装置のセッティング方法に関する。
半導体製造分野では、シリコンウェハ等の半導体ウェハ(以下、「ウェハ」という)を薄膜に形成するために、ウェハの裏面を研削する裏面研削が行われている。
ウェハの裏面研削を行う加工装置として、特許文献1には、カセット収納ステージ、アライメントステージ、粗研削ステージ、精研削ステージ、研磨ステージ、研磨布洗浄ステージ、研磨布ドレッシングステージ、及びウェハ洗浄ステージが設けられ、インデックステーブルがウェハを各ステージに移動させる平面加工装置が開示されている。このような平面加工装置では、粗研削加工及び精研削加工において、ウェハは同一のチャックに吸着保持されている。
特開2003−7661号公報
しかしながら、上述したような特許文献1記載の平面加工装置では、チャック毎に表面の平坦度が異なったり、一部のチャックの回転軸が傾斜している等してチャック間で加工条件が異なる場合、チャック毎のウェハの面内平坦度(TTV)にばらつきが生じる虞があるという問題があった。
そこで、複数のチャックにそれぞれ保持されたウェハを均一に研削するという解決すべき技術的課題が生じてくるのであり、本発明は、この課題を解決することを目的とする。
本発明は上記目的を達成するために提案されたものであり、請求項1記載の発明は、保持手段の上方にコラムを跨設し、該コラムに粗研削手段及び精研削手段を設け、前記保持手段に保持されたウェハを前記粗研削手段及び精研削手段で研削加工する加工装置を用いて研削加工を実施する前に行う加工装置のセッティング方法であって、前記保持手段は、前記ウェハを保持する複数のチャックと、前記チャックを傾斜させる第1の傾斜手段と、を備え、前記粗研削手段は、前記ウェハを研削する粗研削砥石と、前記粗研削砥石を傾斜させる第2の傾斜手段と、を備え、前記精研削手段の精研削砥石で前記チャックのチャック面を平坦且つ前記チャックの回転軸に対して垂直に形成し、前記精研削砥石の回転軸に対して前記チャックの回転軸が所定範囲内に収まるように、前記第1の傾斜手段で前記チャックの回転軸を傾斜させ、前記チャックの回転軸に対して前記粗研削砥石の回転軸が所定範囲内に収まるように、前記第2の傾斜手段で前記粗研削砥石の回転軸を傾斜させる加工装置のセッティング方法を提供する。
この構成によれば、精研削手段の回転軸を基準にして複数のチャックの回転軸の傾きが設定された後に、チャックの回転軸を基準に粗研削砥石の回転軸の傾きが設定されることにより、複数のチャック間でのウェハの面内平坦度のばらつきを抑制することができる。
本発明は、精研削手段の回転軸を基準にして複数のチャックの回転軸の傾きが設定された後に、チャックの回転軸を基準に粗研削砥石の回転軸の傾きが設定されることにより、複数のチャック間でのウェハの面内平坦度のばらつきを抑制することができる。
本発明の一実施例に係る加工装置を示す斜視図。 図1に示す加工装置の正面図。 図1に示す加工装置の一部を省略した平面図。 図2のA−A線断面図。 図4中のB部を示す部分拡大図。 図1に示す粗研削手段を下方から視た斜視図。 図6に示す第2の傾斜手段の縦断面拡大図。 図4中のC部を示す部分拡大図。 加工装置のセッティング方法の手順を示すフローチャート。
本発明に係る加工装置のセッティング方法は、複数のチャックにそれぞれ保持されたウェハを均一に研削するという目的を達成するために、保持手段の上方にコラムを跨設し、コラムに粗研削手段及び精研削手段を設け、保持手段に保持されたウェハを粗研削手段及び精研削手段で研削加工する加工装置を用いて研削加工を実施する前に行う加工装置のセッティング方法であって、保持手段は、ウェハを保持する複数のチャックと、チャックを傾斜させる第1の傾斜手段と、を備え、粗研削手段は、ウェハを研削する粗研削砥石と、粗研削砥石を傾斜させる第2の傾斜手段と、を備え、精研削手段の精研削砥石でチャックのチャック面を平坦且つチャックの回転軸に対して垂直に形成し、精研削砥石の回転軸に対してチャックの回転軸が所定範囲内に収まるように、第1の傾斜手段でチャックの回転軸を傾斜させ、チャックの回転軸に対して粗研削砥石の回転軸が所定範囲内に収まるように、第2の傾斜手段で粗研削砥石の回転軸を傾斜させることにより実現する。
以下、本発明の一実施例に係る加工装置1について、図面に基づいて説明する。なお、以下の実施例において、構成要素の数、数値、量、範囲等に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合を除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも構わない。
また、構成要素等の形状、位置関係に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合等を除き、実質的にその形状等に近似又は類似するもの等を含む。
また、図面は、特徴を分かり易くするために特徴的な部分を拡大する等して誇張する場合があり、構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。また、断面図では、構成要素の断面構造を分かり易くするために、一部の構成要素のハッチングを省略することがある。
図1は、加工装置1の基本的構成を示す斜視図である。図2は、加工装置1の正面図である。図3(a)は、図1の第1のスピンドル52、第2のスピンドル62を省略した加工装置1を示す平面図である。図3(b)は、図3(a)のコラム4を省略した加工装置1の平面図である。図4は、図2のA−A線断面図である。図5は、図4中のB部を示す部分拡大図である。
加工装置1は、並列に並べられた2つの砥石でウェハを連続的に研削加する。加工装置1は、ウェハWを裏面研削して薄膜に形成する。加工装置1を用いて研削加工が施されるウェハWは、シリコンウェハ、シリコンカーバイドウェハ等の高硬度・高脆性を示すものが好適であるが、これらに限定されるものではない。加工装置1は、保持手段2と、保持手段2の上方に配置されたメインユニット3と、を備えている。
保持手段2は、図示しないモータに連結された回転軸2a回りに回転可能なインデックステーブル21と、インデックステーブル21上に載置された3つのチャック22と、を備えている。
チャック22は、回転軸2aを中心として円周上に120度の間隔を空けて配置されている。チャック22は、上面に埋設されたポーラス(多孔質)構造のセラミックから成る吸着体22aを備えている。チャック22内に形成された管路22bには、図示しない真空源に接続されており、チャック22上に載置されたウェハWを負圧で吸着する。チャック22は、図示しないモータに連結されており回転軸a1回りに回転可能である。チャック22の下方には、エアベアリング22cが設けられており、チャック22を滑らかに回転させることができる。
保持手段2は、アライメントステージS1、粗研削ステージS2、精研削ステージS3に区画されている。チャック22の間には仕切板23が配置されており、各ステージで使用する加工液が隣接するステージに飛散することを抑制する。
アライメントステージS1は、図示しない搬送装置等によってウェハWをチャック22上に搬送し、ウェハWを所定の位置に位置合わせするステージである。チャック22上に吸着保持されたウェハWは、粗研削ステージS2に送られる。
粗研削ステージS2は、ウェハWが粗研削加工されステージである。粗研削加工されたウェハWは、精研削ステージS3に送られる。
精研削ステージS3は、ウェハWが精研削加工されるステージである。精研削加工されたウェハWは、アライメントステージS1に送られ、図示しない搬送装置等によってチャック22から図示しないラック等に収容される。
メインユニット3は、インデックステーブル21を跨ぐように配置されたアーチ状のコラム4と、粗研削ステージS2の上方でコラム4に取り付けられた粗研削手段5と、精研削ステージS3の上方でコラム4に取り付けられた精研削手段6と、を備えている。
コラム4は、正面視でコ字状に形成された基部41と、基部41の中央から突設された中央柱部42と、を備え、平面視でE字状に形成されている。
基部41は、粗研削ステージS2及び精研削ステージS3を跨ぐように設けられている。これにより、平面視で、アライメントステージS1はコラム4の側方に露出している。したがって、ウェハWをチャック22に搬送したりチャック22から搬出したりする際に、搬送装置等が、コラム4に干渉されることなくチャック22にアクセスすることができる。基部41は、インデックステーブル21の外周に立設された2本の支柱41aを連結することで基部41の剛性が増大されている。
中央柱部42は、平面視で粗研削ステージS2と精研削ステージS3の間に配置されている。中央柱部42の下端は、インデックステーブル21の上方までに延伸されている。
コラム4の前面4aには、鉛直方向Vに亘って凹設された溝4b、4cが並んで配置されている。溝4bには、粗研削手段5が収容されている。また、溝4cには、精研削手段6が収容されている。
粗研削手段5は、粗研削砥石51と、粗研削砥石51が下端に取り付けられた第1のスピンドル52と、第1のスピンドル52を鉛直方向Vに昇降させる第1のスピンドル送り機構53と、を備えている。
粗研削砥石51は、周方向に複数のカップ型砥石を下端に配置して構成されている。
第1のスピンドル52は、粗研削砥石51を下端に取り付けたサドル52aと、サドル52a内に設けられて粗研削砥石51を回転させる図示しないモータと、を備えている。
第1のスピンドル送り機構53は、サドル52aと後述する後方ガイド72とを連結し、第1のスピンドル52を鉛直方向Vに送る。なお、第1のスピンドル送り機構53には、第1のスピンドル52を送る昇降手段が省略されているが、昇降手段としては、例えば、モータ駆動のボールネジ等が考えられる。
メインユニット3には、ウェハWの厚みを計測する図示しないインプロセスゲージが設けられている。インプロセスゲージが計測したウェハWの厚みが所望の値に達すると、第1のスピンドル送り機構53が駆動してサドル52aを上昇させることで、ウェハWと粗研削砥石51とが離間する。
精研削手段6は、精研削砥石61と、精研削砥石61が下端に取り付けられた第2のスピンドル62と、第2のスピンドル62を鉛直方向Vに昇降させる第2のスピンドル送り機構63と、を備えている。なお、精研削手段6の基本的な構成は、粗研削手段5の基本的構成に対応するため、重複する説明を省略する。
精研削砥石61は、周方向に複数のカップ型砥石を下端に配置して構成されている。
第2のスピンドル62は、精研削砥石61を下端に取り付けたサドル62aと、サドル62a内に設けられて精研削砥石61を回転させる図示しないモータと、を備えている。
第2のスピンドル送り機構63は、第1のスピンドル送り機構53と同様の構成であり、サドル62aと後述する後方ガイド82とを連結し、第2のスピンドル62を鉛直方向Vに送る。第2のスピンドル送り機構63の運転は、上述したインプロセスゲージが計測した膜厚に基づいて制御される。
加工装置1には、第1のスピンドル52を鉛直方向Vに摺動可能に支持する第1のガイド7と、第2のスピンドル62を鉛直方向Vに摺動可能に支持する第2のガイド8と、が設けられている。
第1のガイド7は、基部41及び中央柱部42の前面にそれぞれ1つずつ配置された前方ガイド71と、溝4bに配置された1つの後方ガイド72と、で構成される。前方ガイド71及び後方ガイド72は、例えば、リニアガイドである。前方ガイド71のスライダ71aには、サドル52aが直接取り付けられている。また、後方ガイド72には、第1のスピンドル送り機構53を介してサドル52aが取り付けられている。
前方ガイド71及び後方ガイド72は、鉛直方向Vに沿って互いに平行に設けられている。これにより、前方ガイド71及び後方ガイド72は、サドル52aを鉛直方向Vに沿って移動するように規制する。
第2のガイド8は、基部41及び中央柱部42の前面にそれぞれ1つずつ配置された前方ガイド81と、溝4bに配置された1つの後方ガイド82と、で構成される。前方ガイド81及び後方ガイド82は、例えば、リニアガイドである。前方ガイド81には、サドル62aが直接取り付けられている。また、後方ガイド82には、第2のスピンドル送り機構63を介してサドル62aが取り付けられている。
前方ガイド81と後方ガイド82とは、鉛直方向Vに沿って互いに平行に設けられている。これにより、前方ガイド81及び後方ガイド82は、サドル62aを鉛直方向Vに沿って移動するように規制する。
加工装置1の動作は、図示しない制御ユニットによって制御される。制御ユニットは、加工装置1を構成する構成要素をそれぞれ制御するものである。制御ユニットは、例えば、CPU、メモリ等により構成される。なお、制御ユニットの機能は、ソフトウェアを用いて制御することにより実現されても良く、ハードウェアを用いて動作することにより実現されても良い。
このように、加工装置1は、アライメントステージS1のチャック22に吸着保持されたウェハWを同一のチャック22に載置した状態で、粗研削ステージS2、精研削ステージS3の順に連続して送る。また、ウェハWを吸着保持するチャック22は、ベルトコンベヤ等の他のウェハ保持装置に比べて、高剛性に形成可能である。これにより、研削加工のスループットが向上すると共に、ウェハWを高品位に研削加工することができる。
また、コラム4がインデックステーブル21より広径で高剛性に形成可能なため、ウェハWの研削加工中に生じた垂直抗力に起因する粗研削手段5及び精研削手段6の共振及び軸倒れが抑制され、ウェハWを高品位で研削加工することができる。
次に、保持手段2について詳しく説明する。保持手段2は、図3(b)に示すように、チャック22の周囲に配置された2つの第1の可動支持部24及び1つの第1の固定支持部25を備えている。第1の可動支持部24及び第2の固定支持部25は、第1の傾斜手段を構成している。第1の可動支持部24は、チャック22に対してインデックステーブル21の径方向の外周側に配置されている。第1の固定支持部25は、チャック22に対してインデックステーブル21の径方向の内周側に配置されている。
図5に示すように、第1の可動支持部24は、スライドブロック24aと、固定ブロック24bと、調整ネジ24cと、を備えている差動ネジ機構である。
スライドブロック24aは、インデックステーブル21に接合されている。スライドブロック24aは、中心にネジ部24dが穿設されており、ネジ部24dのピッチは、例えば1.25mmに設定されている。
固定ブロック24bは、チャック22を載置するチルトテーブル26に接合されている。固定ブロック24bは、中心にネジ部24eが穿設されており、ネジ部24eのピッチは、ネジ部24dより小さく、例えば1.00mmに設定されている。
調整ネジ24cは、スライドブロック24aのネジ部25d及び固定ブロック24bのネジ部25eに螺入されている。調整ネジ24cは、図示しない駆動モータによって正転又は逆転する。調整ネジ24cが1回転すると、スライドブロック24aと固定ブロック24bのピッチ差(0.25mm)だけチャック22が昇降する。
第1の固定支持部25は、チルトテーブル26をインデックステーブル21に締結するボルトである。
このようにして、第1の可動支持部24がチルトテーブル26を昇降させると共に第1の固定支持部25がチルトテーブル26を鉛直方向Vに固定するため、2つの第1の可動支持部24の各伸縮量に応じて、チャック22の回転軸a1が粗研削砥石51の回転軸a2又は精研削砥石61の回転軸a3となす角度を制御することができる。
次に、粗研削砥石51を傾斜させる第2の傾斜手段9について、図6〜8に基づいて説明する。図6は、粗研削砥石51を省略した粗研削手段5を下方から視た斜視図である。図7は、第2の傾斜手段9の縦断面拡大図である。図8は、図4中のC部を示す部分拡大図である。
第2の傾斜手段9は、図6に示すように、粗研削砥石51の周囲に配置された2つの第2の可動支持部91及び1つの第2の固定支持部92を備えている。第2の可動支持部91は、粗研削砥石51に対して手前側に配置されている。第2の固定支持部92は、粗研削砥石51を挟んで第2の可動支持部91の反対側に配置されている。
図7に示すように、第2の可動支持部91は、スライドブロック91aと、固定ブロック91bと、調整ネジ91cと、を備えている差動ネジ機構である。
スライドブロック91aは、前方ガイド71のスライダ71aに接合されている。スライドブロック91aは、中心にネジ部91dが穿設されており、ネジ部91dのピッチは、例えば1.25mmに設定されている。
固定ブロック91bは、チルトテーブル93に接合されている。固定ブロック91bは、中心にネジ部91eが穿設されており、ネジ部91eのピッチは、ネジ部91dより小さく、例えば1.00mmに設定されている。
調整ネジ91cは、スライドブロック91aのネジ部91d及び固定ブロック91bのネジ部91eに螺入されている。調整ネジ91cは、図示しない駆動モータによって正転又は逆転する。調整ネジ91cが1回転すると、スライドブロック91aと固定ブロック91bのピッチ差(0.25mm)だけチルトテーブル93が昇降する。
第2の固定支持部92は、図8に示すように、チルトテーブル93を第1のスピンドル送り機構53に締結するボルトである。なお、図8中の符号53aは、第1のスピンドル52を送る昇降手段としてのボールネジの下端である。
このようにして、第2の可動支持部91がチルトテーブル93を昇降させると共に第2の固定支持部92がチルトテーブル93を鉛直方向Vに固定するため、2つの第2の可動支持部91の各伸縮量に応じて、粗研削砥石51の回転軸a2がチャック22の回転軸a1となす角度を制御することができる。
次に、上述した加工装置1が研削加工を行う前に実施する加工装置1のセッティング方法の手順について、図9に基づいて説明する。図9は、加工装置1のセッティング方法の手順を示すフローチャートである。
まず、精研削砥石61で3つのチャック22の表面(チャック面)22aをそれぞれ研削する(S1)。研削後のチャック面22aは、チャック22の回転軸a1に対して垂直になるように形成される。
次に、各チャック22のチャック面22aの平坦度を計測し、第1の可動支持部24を駆動して、チャック22をそれぞれ傾斜させる(S2)。チャック面22aの平坦度は公知の計測手段によって測定される。制御ユニットには、チャック22と精研削砥石61との当接状態に応じた研削量とこの研削量に対応する第1の可動支持部24の伸縮量が予め記憶されており、チャック面22aの表面形状等に基づいて、チャック22を最適な角度で傾ける。
次に、精研削砥石61が、チャック面22aを平坦に研削する(S3)。これにより、チャック面22aは、平坦且つチャック22の回転軸a1に対して垂直に形成される。
次に、チャック22の回転軸a1と精研削砥石61の回転軸a3とがなす角度を計測し(S4)、チャック22の回転軸a1と精研削砥石61の回転軸a3とがなす角度を所定範囲(例えば、0.06°以内)に収まるように、第1の可動支持部24を伸縮させてチャック22を傾斜させる(S5)。
次に、チャック22の回転軸a1と粗研削砥石51の回転軸a2とがなす角度を計測し(S6)、チャック22の回転軸a1と粗研削砥石51の回転軸a2とがなす角度が所定範囲(例えば、0.06°以内)に収まるように、第2の可動支持部91を伸縮させて粗研削砥石51を傾斜させる(S7)。
このようにして、上述した加工装置1は、第1の可動支持部24と第1の固定支持部25とが、各チャック22を囲むように配置されることにより、第1の可動支持部24が伸縮すると、各チャック22が第1の固定支持部25を基準に傾斜して、各チャック22のチルト角を個別に調整可能なため、複数のチャック22間でのウェハWの面内平坦度のばらつきを抑制することができる
なお、第1の可動支持部24及び第2の可動支持部91は、上述した差動ネジ機構に限定されるものではなく、如何なる構成であっても構わない。
なお、本発明は、本発明の精神を逸脱しない限り種々の改変をなすことができ、そして、本発明が該改変されたものにも及ぶことは当然である。
1 ・・・ 加工装置
2 ・・・ 保持手段
2a・・・ 回転軸
21・・・ インデックステーブル
22・・・ チャック
22a・・・チャック面
23・・・ 仕切板
24・・・ 第1の可動支持部(第1の傾斜手段)
24a・・・スライドブロック
24b・・・固定ブロック
24c・・・調整ネジ
25・・・ 第1の固定支持部(第1の傾斜手段)
3 ・・・ メインユニット
4 ・・・ コラム
4a・・・ 前面
4b・・・ (粗研削手段を収容する)溝
4c・・・ (精研削手段を収容する)溝
41・・・ 基部
41a・・・支柱
42・・・ 中央柱部
5 ・・・ 粗研削手段
51・・・ 粗研削砥石
52・・・ 第1のスピンドル
53・・・ 第1のスピンドル送り機構
6 ・・・ 精研削手段
61・・・ 精研削砥石
62・・・ 第2のスピンドル
63・・・ 第2のスピンドル送り機構
7 ・・・ 第1のガイド
71・・・ 前方ガイド
71a・・・スライダ
72・・・ 後方ガイド
8 ・・・ 第2のガイド
81・・・ 前方ガイド
82・・・ 後方ガイド
9 ・・・ 第2の傾斜手段
91・・・ 第2の可動支持部
91a・・・スライドブロック
91b・・・固定ブロック
91c・・・調整ネジ
92・・・ 第2の固定支持部
93・・・ チルトテーブル
H ・・・ 水平方向
S1・・・ アライメントステージ
S2・・・ 粗研削ステージ
S3・・・ 精研削ステージ
V ・・・ 鉛直方向
W ・・・ ウェハ

Claims (1)

  1. 保持手段の上方にコラムを跨設し、該コラムに粗研削手段及び精研削手段を設け、前記保持手段に保持されたウェハを前記粗研削手段及び精研削手段で研削加工する加工装置を用いて研削加工を実施する前に行う加工装置のセッティング方法であって、
    前記保持手段は、前記ウェハを保持する複数のチャックと、前記チャックを傾斜させる第1の傾斜手段と、を備え、
    前記粗研削手段は、前記ウェハを研削する粗研削砥石と、前記粗研削砥石を傾斜させる第2の傾斜手段と、を備え、
    前記精研削手段の精研削砥石で前記チャックのチャック面を平坦且つ前記チャックの回転軸に対して垂直に形成し、
    前記精研削砥石の回転軸に対して前記チャックの回転軸が所定範囲内に収まるように、前記第1の傾斜手段で前記チャックの回転軸を傾斜させ、
    前記チャックの回転軸に対して前記粗研削砥石の回転軸が所定範囲内に収まるように、前記第2の傾斜手段で前記粗研削砥石の回転軸を傾斜させることを特徴とする加工装置のセッティング方法。
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Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001022484A1 (fr) * 1999-09-20 2001-03-29 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Procede de fabrication d'une tranche de semi-conducteur
JP2002001653A (ja) * 2000-06-20 2002-01-08 Disco Abrasive Syst Ltd 微調整装置
JP2004082291A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
US20050136809A1 (en) * 2003-12-22 2005-06-23 Mu-Jung Wu Wafer grinding apparatus
JP2008044079A (ja) * 2006-08-18 2008-02-28 Nachi Fujikoshi Corp 傾き調整機構及びそれを用いた研削装置
JP2008087104A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工方法
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2009090389A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの研削加工装置
JP2009208212A (ja) * 2008-03-06 2009-09-17 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板の薄厚平坦化加工装置
JP2010172999A (ja) * 2009-01-28 2010-08-12 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2014069261A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2016132071A (ja) * 2015-01-21 2016-07-25 株式会社ディスコ 研削装置
JP2016155204A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社東京精密 研削加工装置

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001022484A1 (fr) * 1999-09-20 2001-03-29 Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. Procede de fabrication d'une tranche de semi-conducteur
JP2002001653A (ja) * 2000-06-20 2002-01-08 Disco Abrasive Syst Ltd 微調整装置
JP2004082291A (ja) * 2002-08-28 2004-03-18 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
US20050136809A1 (en) * 2003-12-22 2005-06-23 Mu-Jung Wu Wafer grinding apparatus
JP2008044079A (ja) * 2006-08-18 2008-02-28 Nachi Fujikoshi Corp 傾き調整機構及びそれを用いた研削装置
JP2008087104A (ja) * 2006-10-02 2008-04-17 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工方法
JP2008264913A (ja) * 2007-04-18 2008-11-06 Disco Abrasive Syst Ltd 研削加工装置
JP2009090389A (ja) * 2007-10-04 2009-04-30 Disco Abrasive Syst Ltd ウェーハの研削加工装置
JP2009208212A (ja) * 2008-03-06 2009-09-17 Okamoto Machine Tool Works Ltd 基板の薄厚平坦化加工装置
JP2010172999A (ja) * 2009-01-28 2010-08-12 Disco Abrasive Syst Ltd 加工装置
JP2014069261A (ja) * 2012-09-28 2014-04-21 Disco Abrasive Syst Ltd 研磨装置
JP2016132071A (ja) * 2015-01-21 2016-07-25 株式会社ディスコ 研削装置
JP2016155204A (ja) * 2015-02-26 2016-09-01 株式会社東京精密 研削加工装置

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