JP2018085472A - レーザアニール装置 - Google Patents
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Abstract
Description
<第1の実施の形態>
図1は第1の実施の形態に係るレーザアニール装置1の概略を示す正面斜視図である。レーザアニール装置1は、マイクロレンズアレイによりレーザ光を集光して基板Wに照射し、基板Wにおける薄膜トランジスタ(以下、「TFT」という)形成領域のアモルファスシリコン膜をポリシリコン化(レーザアニール処理)するものである。
まず、ロボット等により基板Wが搬送ステージ11Aの上に載置される(図1点線参照)。制御部により搬送部12が制御されることで、搬送部12は、基板Wを搬送ステージ11Aから浮上させ、かつ搬送方向Fに沿って搬送する。
第1の実施の形態は、不活性ガスが上部ガス吹出部40から下向きに(−z方向に)吹き出すものであるが、第1の実施の形態の変形例1は、上部ガス吹出部から斜め下向き(搬送方向Fにおける上流側)に不活性ガスが吹き出す形態である。以下、第1の実施の形態の変形例1に係るレーザアニール装置1Aについて説明する。なお、第1の実施の形態に係るレーザアニール装置1と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
第1の実施の形態は、不活性ガスが上部ガス吹出部40から下向きに(−z方向に)吹き出すものであるが、第1の実施の形態の変形例2は、上部ガス吹出部から斜め下向き(搬送方向Fにおける下流側)に不活性ガスが吹き出す形態である。以下、第1の実施の形態の変形例2に係るレーザアニール装置1Bについて説明する。なお、第1の実施の形態に係るレーザアニール装置1と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
第1の実施の形態は、マスクユニット30に隣接して上部ガス吹出部40を設けたが、上部ガス吹出部の形態はこれに限られない。
第1の実施の形態は、上部ガス吹出部40がマスクユニット30の搬送方向Fにおける上流側に設けられたが、上部ガス吹出部の配置形態はこれに限られない。
第1の実施の形態は、上部ガス吹出部40をマスクユニット30に隣接して設けたが、マスクユニット30は必須ではない。
10 :搬送機構
11、11A、11B、11C :搬送ステージ
11a :上面
11b :下面
12 :搬送部
13 :正圧溝
14 :供給管
15 :負圧孔
16 :排気管
17 :バルブ
18 :圧力センサ
20、20A :レーザ光照射部
21、21A :レーザ発振器
22 :光学装置
23 :落射ミラー
24、24A :レーザ光
25 :TFT
30、30A、30B :マスクユニット
31 :マスク
32、32A :マイクロレンズアレイ
33、33A :カバーガラス
33a :孔
34 :マイクロレンズ
35、35A :保持枠
35a :開口部
36 :シリンドリカルレンズ
37 :パイプ
40、41、42、43、44、45、46:上部ガス吹出部
40a、40b、40c :孔
50 :シリンドリカルレンズ組立体
51 :シリンドリカルレンズ
52 :カバーガラス
53 :保持部材
121 :送気ブロワ
122 :吸気ブロワ
123 :圧力調整ユニット
Claims (4)
- 基板の表面にレーザ光を照射する光照射部と、
吹出孔及び吸引孔がそれぞれ複数形成された板状の搬送ステージと、
平面視において前記レーザ光が前記基板に照射される領域を含む大きさで形成された板状部材であって、前記搬送ステージの上面との間に前記基板が通過可能な間隔をあけて前記搬送ステージの上面と略平行に設けられた板状部材と、
前記吹出孔のうちの平面視において前記板状部材と重なる領域を含む第1領域に存在する吹出孔から不活性ガスを吹き出し、前記吹出孔のうちの前記第1領域以外の第2領域に存在する吹出孔から空気を吹き出す吹出部と、前記吸引孔を介して前記搬送ステージの上面側にある気体を前記搬送ステージの下面に向けて吸引する吸引部と、を有し、前記搬送ステージの上面から前記基板を浮上させて搬送方向に沿って前記基板を搬送させる搬送部と、
を備えたことを特徴とするレーザアニール装置。 - 前記板状部材に隣接して設けられ、不活性ガスを上側から前記搬送ステージに向けて吹き出す第1上部吹出部であって、前記搬送方向における上流側に設けられた第1上部吹出部を備えたことを特徴とする請求項1に記載のレーザアニール装置。
- 前記板状部材に隣接して設けられ、不活性ガスを上側から前記搬送ステージに向けて吹き出す第2上部吹出部を備え、
前記板状部材は平面視略矩形形状であり、
前記第2上部吹出部は、前記板状部材の4辺のそれぞれに隣接して設けられる
ことを特徴とする請求項1に記載のレーザアニール装置。 - 前記板状部材は、集光レンズが前記搬送方向と略直交する方向に沿って配置されたレンズアレイと、前記レンズアレイの下側に設けられた板状のカバーガラスと、前記レンズアレイの上側に設けられたマスクと、を有するマスクユニットである
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載のレーザアニール装置。
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