JP2018080250A - フッ素含有シルセスキオキサン、フッ素含有シルセスキオキサンの製造方法、及び重合体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】式(I)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサン。
(式中、Rfはフッ化アルキルを示し、X及びYは特定の官能基を示す。)
【選択図】なし
Description
[1]式(I)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサン。
X及びYは、同一又は異なって、水素、水酸基、アルケニル、またはハロゲン、アルコキシ、フェノキシ、ポリアルキレンオキシ、−COOH、アセチル、2−オキサプロパン−1,3−ジオイル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、オキシラニル、3,4−エポキシシクロヘキシル、オキセタニル、オキセタニレン、−NH−、−NH2、−CN、−NCO、アルケニル、アルキニル、シクロアルケニル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ウレタンアクリロイル、ウレタンメタクリロイル、−SH、アルキレンを介した前記水素から前記−SHまでのいずれかの基、又は重合性官能基を示す。)
[2]式(II)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを含有する溶液に、塩基を添加し、式(III)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを生成すること、及び
を含む式(I)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンの製造方法。
X及びYは、同一又は異なって、水素、水酸基、アルケニル、またはハロゲン、アルコキシ、フェノキシ、ポリアルキレンオキシ、−COOH、アセチル、2−オキサプロパン−1,3−ジオイル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、オキシラニル、3,4−エポキシシクロヘキシル、オキセタニル、オキセタニレン、−NH−、−NH2、−CN、−NCO、アルケニル、アルキニル、シクロアルケニル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ウレタンアクリロイル、ウレタンメタクリロイル、−SH又はアルキレンを介した前記水素から前記−SHまでのいずれかの基、又は重合性官能基を示す。)
[3]式(IV)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンからなる構成単位を含む重合体。
Zは、−W1SiR1R2−O−(SiR3R4−O)m−SiW2− 又は −R5−S−R6−S−R7− であり、
式中、W1、W2は同一又は異なってアルキレン、R1及びR2は同一又は異なってアルキル又はアリール、R3及びR4は同一又は異なってアルキル又はアリールを示す、mは0以上の整数であり、R5及びR7は同一又は異なってアルキレン、R6はアルキレン又はアリールを示す。)
[4]対角の位置関係にある2つのSiに結合された重合性官能基を介してフッ素含有シルセスキオキサン単量体が重合されてなるフッ素含有シルセスキオキサン重合体を含む光学的透明材料。
好ましくは、Rfはパーフルオロアルキル(Rfの炭素に結合する官能基がすべてフッ素)である。−CF3、−CF2CF3、−CF2CF2CF3、−CF(CF3) 2、−CF2CF2CF2CF3、− CF2CF(CF3)2、−C(CF3)3、−(CF2)4CF3、−(CF2)2CF(CF3)2、−CF2C(CF3)3、−CF(CF3)CF2CF2CF3、−(CF2)5CF3、−(CF2)3CF(CF3)2、−(CF2)4CF(CF3)2、−(CF2)7CF3、−(CF2)5CF(CF3)2、−(CF2 )6CF(CF3)2、−(CF2)9CF3等が挙げられる。
式(II)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを含有する溶液に、塩基を添加し、式(III)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを生成すること(第1工程)、及び
を含む。
X及びYは、同一又は異なって、水素、水酸基、アルケニル、またはハロゲン、アルコキシ、フェノキシ、ポリアルキレンオキシ、−COOH、アセチル、2−オキサプロパン−1,3−ジオイル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、オキシラニル、3,4−エポキシシクロヘキシル、オキセタニル、オキセタニレン、−NH−、−NH2、−CN、−NCO、アルケニル、アルキニル、シクロアルケニル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ウレタンアクリロイル、ウレタンメタクリロイル、−SH、アルキレンを介した前記水素から前記−SHまでのいずれかの基、又は重合性官能基を示す。
Zは、−W1SiR1R2−O−(SiR3R4−O)m−SiW2− 又は −R5−S−R6−S−R7− であり、
式中、W1、W2は同一又は異なってアルキレン、R1及びR2は同一又は異なってアルキル又はアリール、R3及びR4は同一又は異なってアルキル又はアリールを示す、mは0以上の整数であり、R5及びR7は同一又は異なってアルキレン、R6はアルキレン又はアリールを示す。)
W1及びW2はメチレン、エチレン、プロピレン、n−ブチレン、イソブチレン、ヘキシレン、ヘプチレン、オクチレン、ドデシレン等であってよい。W1及びW2の炭素数は1〜10であることが好ましく、1〜6であることがより好ましい。
窒素雰囲気下において、Chem. Lett.,2014, 43, 1532を参考に合成したPOSS7F3Na(化合物1) (4.0 g, 3.52 mmol)とアリルトリクロロシラン(0.76 ml, 5.28 mmol)をTHF (60 ml)に溶解させ、氷浴につけた後トリエチルアミン(0.49 ml, 3.52 mmol)を加えて、氷浴で1時間、室温で3時間攪拌させた。反応後、濾過して塩を取り除いた後減圧下で溶媒を留去し、MeOHで洗浄して化合物2を収率52%で得た。化合物2について1H- NMR、29Si-NMRの測定を行った(図1,図4)。
1H NMR (Acetone-D6, 400 MHz): 5.87-5.80 (m, 1H, Si-CH2-CH-CH2), 5.06-4.94 (m, 2H, Si-CH2-CH-CH2), 2.34-2.29 (m, 14H, Si-CH2-CH2-CF3), 1.79-1.77 (w, 2H, Si-CH2-CH-CH2), 1.03-0.99 (m, 14H, Si-CH2-CH2-CF3) ppm.
29Si NMR (Acetone-D6, 79 MHz): -70.18 (-CH2-SiO1.5), -67.51, -67.48 and -67.33 (CF3-CH2-CH2-SiO1.5) ppm.
化合物2 (0.50 g, 0.44 mmol)を酢酸エチル(7.8 mL)中に溶解させ、化合物1と等モル量の25%テトラメチルアンモニウム(TMAOH)水溶液(0.19 ml, 0.44 mmol)を加えたのち室温で4時間撹拌させた。撹拌終了後、1M-HCl を滴下してpH 試験紙によって中性となったことが確認できるまで加えた。その後、少量の硫酸マグネシウムを加えた。硫酸マグネシウムをろ過で取り除いた後、減圧下で溶媒を留去した。得られた固体にメタノールを加えて不溶成分としてろ過で取り除き、ろ液を減圧下で溶媒を留去後、析出した粘性の固体を減圧下で乾燥した。化合物2の対角が加水分解されたものが主成分と考えられる生成物(化合物3)を0.30g 得た。収率は66%であった。化合物3について1H-、 29Si-NMRの測定を行った(図2,図4)。29Si-NMR測定よりSi-OHに相当するシグナルが-59 ppmに観測された。
1H-NMR (Acetone-d6, 400 MHz): δ5.88-5.83 (m, 1H, Si-CH2-CH-CH2), 5.05-4.97 (m, 2H, Si-CH2-CH-CH2), 2.32-2.31 (m, 12H, Si-CH2-CH2-CF3), 1.81-1.78 (w, 2H, Si-CH2-CH-CH2), 1.02-1.01(m, 12H, Si-CH2-CH2-CF3) ppm.
29Si NMR (Acetone-d6, 79 MHz): -71.55, -67.25 and -59.23 ppm.
窒素雰囲気下において、化合物3 (0.30 g, 0.29 mmol)とアリルトリクロロシラン(0.05 ml, 0.35 mmol))をTHF (5 ml)に溶解させ、氷浴につけた後トリエチルアミン(0.04 ml, 0.29 mmol)を加えて、氷浴で1時間、室温で3時間攪拌させた。反応後、濾過して塩を取り除いた後減圧下で溶媒を留去し、MeOHで洗浄して生成物(化合物4)を0.16 g 得た。収率は52%であった。化合物4について1H-NMR, 29Si-NMR測定および高分解能質量分析測定によって確認した(図3,4,5)。29Si-NMR 測定において2本のシグナルが観測されたことから対角二頂点に重合性官能基が修飾された化合物4 の構造であることが支持された(図4)。
1H NMR (Acetone-d6, 400 MHz): 5.85-5.83 (m, 2H, Si-CH2-CH-CH2), 4.97-4.95 (m, 4H, Si-CH2-CH-CH2), 2.34-2.28 (m, 12H, Si-CH2-CH2-CF3), 1.79-1.63 (w, 4H, Si-CH2-CH-CH2), 1.03-1.01 (m, 12H, Si-CH2-CH2-CF3) ppm.
29Si NMR (Acetone-d6, 79 MHz): -69.75 and -98.93 ppm.
HR-FAB-MS (m/z): calcd for C28H60O12Si8 [M+Ag]+, 1186.8959; obs,1186.9088.
化合物4 (0.20 g, 0.24 mmol)と1,1,3,3-テトラメチルジシロキサン (0.043 ml, 0.24 mmol)をTHF(0.83 ml)に溶解させ、Pt(dvs) (0.1 M in xylene, 0.01 ml, 1.0×10-3 mmol)を加え50 °Cで24時間撹拌させることで重合を行った(スキーム4)。得られた重合溶液を分取GPCを用いて低分子量成分を除くことで重合体5a(m=0)を得た。重合体5aのGPC測定を行ったところ、ポリスチレン換算で数平均分子量(Mn)および分子量分布(Mw/Mn)がそれぞれ7.7×103および1.45 に相当するポリマーであることが分かった (図6)。なお、重合体5aをガラス基板にドロップキャストし、ガラス状の透明材料とした例を図7に示す。
重合体5aおよび 5bのTHF溶液(10 mg/mL)をガラス基板にスピンコートし、ガラス基板のみをバックグラウンドとし、紫外可視分光光度計にて透過率を測定した(図8)。その結果、透過率は波長依存的であることがわかった。
実施例6.フッ素含有シルセスキオキサン重合体の屈折率測定
重合体5aおよび 5bのTHF溶液をシリコン基板にスピンコートして、サンプルを作製し、分光エリプソメーターにて膜厚と屈折率を測定した(表1)。
Claims (4)
- 式(I)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサン。
X及びYは、同一又は異なって、水素、水酸基、アルケニル、またはハロゲン、アルコキシ、フェノキシ、ポリアルキレンオキシ、−COOH、アセチル、2−オキサプロパン−1,3−ジオイル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、オキシラニル、3,4−エポキシシクロヘキシル、オキセタニル、オキセタニレン、−NH−、−NH2、−CN、−NCO、アルケニル、アルキニル、シクロアルケニル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ウレタンアクリロイル、ウレタンメタクリロイル、−SH、アルキレンを介した前記水素から前記−SHまでのいずれかの基、又は重合性官能基を示す。) - 式(II)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを含有する溶液に、塩基を添加し、式(III)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンを生成すること、及び
を含む式(I)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンの製造方法。
X及びYは、同一又は異なって、水素、水酸基、アルケニル、またはハロゲン、アルコキシ、フェノキシ、ポリアルキレンオキシ、−COOH、アセチル、2−オキサプロパン−1,3−ジオイル、アルコキシカルボニル、アルケニルオキシカルボニル、オキシラニル、3,4−エポキシシクロヘキシル、オキセタニル、オキセタニレン、−NH−、−NH2、−CN、−NCO、アルケニル、アルキニル、シクロアルケニル、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ、ウレタンアクリロイル、ウレタンメタクリロイル、−SH又はアルキレンを介した前記水素から前記−SHまでのいずれかの基、又は重合性官能基を示す。) - 式(IV)で表わされるフッ素含有シルセスキオキサンからなる構成単位を含む重合体。
Zは、−W1SiR1R2−O−(SiR3R4−O)m−SiW2− 又は −R5−S−R6−S−R7− であり、
式中、W1、W2は同一又は異なってアルキレン、R1及びR2は同一又は異なってアルキル又はアリール、R3及びR4は同一又は異なってアルキル又はアリールを示す、mは0以上の整数であり、R5及びR7は同一又は異なってアルキレン、R6はアルキレン又はアリールを示す。) - 対角の位置関係にある2つのSiに結合された重合性官能基を介してフッ素含有シルセスキオキサン単量体が重合されてなるフッ素含有シルセスキオキサン重合体を含む光学的透明材料。
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