JP2018050135A - 弾性波デバイス及び弾性波デバイスの製造方法 - Google Patents
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- Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)
Abstract
Description
20 弾性波共振器
22〜22b 櫛形電極
24 電極指
26 バスバー
28、36、42 Ti層
30〜34 Al層
38、40 Cu層
44〜48 金属層
50、50a 絶縁膜
52、58 チャンバー
54 蒸着源
56 イオン銃
59 ターゲット
60 配線
62 パッド
64 バンプ
70 マスク層
72 開口
Claims (12)
- 圧電基板上に、開口を有し且つ前記開口における側面が逆テーパ形状をしたマスク層を形成する工程と、
前記マスク層をマスクに櫛形電極を構成する金属を堆積して第1金属層を形成する工程と、
前記第1金属層を形成するときよりも前記圧電基板の上面の法線に対して大きな角度で金属原子が前記圧電基板に入射するように前記マスク層をマスクに前記櫛形電極を構成する金属を堆積して前記第1金属層上に前記櫛形電極の上面を構成する第2金属層を形成する工程と、
前記マスク層をリフトオフ法によって除去する工程と、
前記マスク層を除去した後、前記圧電基板上に前記櫛形電極を覆う絶縁膜を形成する工程と、を備える弾性波デバイスの製造方法。 - 前記第1金属層を形成する工程は、真空蒸着法によって前記第1金属層を形成し、
前記第2金属層を形成する工程は、前記第1金属層を形成するときよりも低い真空度での真空蒸着法によって前記第2金属層を形成する、請求項1記載の弾性波デバイスの製造方法。 - 前記第2金属層を形成する工程の前に、前記第1金属層を形成するときよりも低く且つ前記第2金属層を形成するときよりも高い真空度での真空蒸着法によって前記第1金属層上に第3金属層を形成する工程を備える、請求項2記載の弾性波デバイスの製造方法。
- 前記第1金属層を形成する工程は、真空蒸着法によって前記第1金属層を形成し、
前記第2金属層を形成する工程は、スパッタリング法によって前記第2金属層を形成する、請求項1記載の弾性波デバイスの製造方法。 - 前記第1金属層を形成する工程は、スパッタリング法によって前記第1金属層を形成し、
前記第2金属層を形成する工程は、前記第1金属層を形成するときよりも前記圧電基板とターゲットとの距離を短くしたスパッタリング法によって前記第2金属層を形成する、請求項1記載の弾性波デバイスの製造方法。 - 前記第2金属層を形成する工程の前に、前記第1金属層を形成するときよりも前記圧電基板と前記ターゲットとの距離を短くし且つ前記第2金属層を形成するときよりも前記圧電基板と前記ターゲットとの距離を長くしたスパッタリング法によって前記第1金属層上に第3金属層を形成する工程を備える、請求項5記載の弾性波デバイスの製造方法。
- 前記第1金属層を形成する工程は、前記マスク層の前記側面に前記第1金属層が形成されないように前記第1金属層を形成する、請求項1から6のいずれか一項記載の弾性波デバイスの製造方法。
- 前記第1金属層を形成する工程は、前記第2金属層よりも厚い前記第1金属層を形成する、請求項1から7のいずれか一項記載の弾性波デバイスの製造方法。
- 前記絶縁膜を形成する工程は、前記櫛形電極よりも薄い前記絶縁膜を形成する、請求項1から8のいずれか一項記載の弾性波デバイスの製造方法。
- 前記絶縁膜を形成する工程は、前記櫛形電極よりも厚い前記絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜の上面を平坦化する工程を備える、請求項1から8のいずれか一項記載の弾性波デバイスの製造方法。 - 圧電基板と、
前記圧電基板上に設けられ、前記圧電基板の上面の法線に対して第1角度で傾いた側面を有する第1金属層と、前記第1金属層上に前記第1金属層に含まれる金属を含んで設けられ、前記圧電基板の上面の法線に対して前記第1角度よりも大きい第2角度で傾いた側面を有する第2金属層と、を有し、前記第2金属層が上面を構成する櫛形電極と、
前記櫛形電極を覆う絶縁膜と、を備える弾性波デバイス。 - 前記櫛形電極は、前記第1金属層と前記第2金属層との間に前記第1金属層及び前記第2金属層に含まれる金属を含んで設けられ、前記圧電基板の上面の法線に対して前記第1角度よりも大きく且つ前記第2角度よりも小さい第3角度で傾いた側面を有する第3金属層を有する、請求項11記載の弾性波デバイス。
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