JP2018037520A - 半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上する。【解決手段】半導体装置は、第1電極を有するプリント基板と、前記プリント基板側を向いた第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板と、前記第3電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、樹脂及び導電性粒子を含む導電性部材と、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第1電極及び前記第2電極に接合された半田バンプと、を備え、前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第1面の前記第1部分に接触している。【選択図】図1
Description
本発明は、半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法に関する。
半導体チップ(半導体素子)の高速化、高集積化に伴い、半導体チップを搭載したサーバなどでは、半導体チップ間を微細配線で接続すると共に、半導体チップ間の伝送速度も高速化してきている。半導体チップに貫通ビア(Through Silicon Via:TSV)などを
形成し、半導体チップを積層して微細なバンプで半導体チップを接続することで、高速伝送を実現する3次元実装技術が開発されている。3次元実装技術では、半導体チップにTSVを形成するため、半導体チップの高コスト化やプロセス上の課題も多く、3次元実装技術は、メモリなどの一部の用途に限定されている。また、半導体チップとプリント基板との間に中間基板としてシリコンインターポーザ等を配置し、シリコンインターポーザを介して高速伝送する2.5次元実装技術も開発されている。
形成し、半導体チップを積層して微細なバンプで半導体チップを接続することで、高速伝送を実現する3次元実装技術が開発されている。3次元実装技術では、半導体チップにTSVを形成するため、半導体チップの高コスト化やプロセス上の課題も多く、3次元実装技術は、メモリなどの一部の用途に限定されている。また、半導体チップとプリント基板との間に中間基板としてシリコンインターポーザ等を配置し、シリコンインターポーザを介して高速伝送する2.5次元実装技術も開発されている。
2.5次元実装技術においても、シリコンインターポーザにTSVを形成するため、シリコンインターポーザが高コストになる。これに対して、低コスト化を実現するため、ガラスインターポーザも開発されているが、実用化には至っていない。また、低コスト化を実現するため、樹脂インターポーザ(樹脂基板)を用いることが検討されている。
図11は、樹脂インターポーザを用いた実装技術の工程図である。樹脂インターポーザを用いた実装技術では、図11の(A)に示すように、プリント基板101上に半田バンプ111を形成する。その後、図11の(B)に示すように、フリップチップボンダで樹脂インターポーザ102をプリント基板101に実装し、図11の(C)に示すように、樹脂インターポーザ102上に半導体チップ103を実装する。半導体チップ103には、例えば、高さ25μm、Φ25μm、45μmピッチのマイクロバンプ131が形成されており、樹脂インターポーザ102と半導体チップ103とがマイクロバンプ131を介して接合されている。マイクロバンプ131のサイズは小さいため、樹脂インターポーザ102の表面121の反りやうねりに対する許容値が小さい。したがって、樹脂インターポーザ102の表面121が平坦であることが好ましい。
樹脂インターポーザ102の材料は樹脂である。そのため、樹脂インターポーザ102をプリント基板101に実装した際、樹脂インターポーザ102は、樹脂インターポーザ102を支持する部材の剛性の影響を受ける。図11の(B)及び(C)に示すように、プリント基板101と樹脂インターポーザ102との間に半田バンプ110及びソルダーレジスト111が形成され、半田バンプ110及びソルダーレジスト111によって樹脂インターポーザ102が支持されている。半田パンプ110の剛性の大きさとソルダーレジスト111の剛性の大きさとの差異から、樹脂インターポーザ102の形状が半田パンプ110の形状に追従することにより樹脂インターポーザ102にうねりが発生する。そのため、樹脂インターポーザ102の表面121に凹凸が発生する。樹脂インターポーザ
102が薄くなるほど、樹脂インターポーザ102の表面121の凹凸が大きくなる。例えば、樹脂インターポーザ102の厚さが25μmであり、半田バンプ110の高さが90μmである場合、樹脂インターポーザ102の表面の凹凸の高低差は50〜60μmとなる。そのため、例えば、高さ25μmのマイクロバンプ131を介して、半導体チップ103を樹脂インターポーザ102に実装することは困難である。
102が薄くなるほど、樹脂インターポーザ102の表面121の凹凸が大きくなる。例えば、樹脂インターポーザ102の厚さが25μmであり、半田バンプ110の高さが90μmである場合、樹脂インターポーザ102の表面の凹凸の高低差は50〜60μmとなる。そのため、例えば、高さ25μmのマイクロバンプ131を介して、半導体チップ103を樹脂インターポーザ102に実装することは困難である。
本願は、プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上する技術を提供することを目的とする。
本願の一観点によれば、第1電極を有するプリント基板と、前記プリント基板側を向いた第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板と、前記第3電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、樹脂及び導電性粒子を含む導電性部材と、前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第1電極及び前記第2電極に接合された半田バンプと、を備え、前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第1面の前記第1部分に接触している、半導体装置が提供される。
本願の一観点によれば、プリント基板の上面に形成された第1電極上に半田バンプを形成する工程と、前記プリント基板の前記上面に樹脂及び導電性粒子を含む導電性ペーストを形成する工程と、第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板の前記第1面の前記第1部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、第1加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第1電極及び前記第2電極に接合する工程と、第2加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、半導体チップが有する接続端子を前記第3電極に接触させて、前記半導体チップを前記樹脂基板に搭載する工程と、第3加熱処理を行うことにより、前記接続端子を前記第3電極に接合する工程と、を備える半導体装置の製造方法が提供される。
本願の一観点によれば、プリント基板に樹脂基板を実装した後の樹脂基板の平坦性を向上することができる。
以下、図面を参照して実施形態に係る半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法について説明する。以下に示す半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法の構成は例示であり、本願は、実施形態に係る半導体装置、電子装置、半導体装置の製造方法及び電子装置の製造方法の構成に限定されない。
〈半導体装置1の構成〉
図1は、半導体装置1の断面図である。半導体装置1は、プリント基板2と、プリント基板2に実装された樹脂インターポーザ3と、樹脂インターポーザ3に実装された半導体チップ4とを備える。樹脂インターポーザ3は、樹脂基板の一例である。プリント基板2は、樹脂層(図示せず)と、樹脂層の内部に形成された配線層(図示せず)とを有する。プリント基板2は、金属パッド5A,5Bを有する。金属パッド5A,5Bは、プリント基板2の上面21に形成されている。金属パッド5Aは、第1電極の一例である。
図1は、半導体装置1の断面図である。半導体装置1は、プリント基板2と、プリント基板2に実装された樹脂インターポーザ3と、樹脂インターポーザ3に実装された半導体チップ4とを備える。樹脂インターポーザ3は、樹脂基板の一例である。プリント基板2は、樹脂層(図示せず)と、樹脂層の内部に形成された配線層(図示せず)とを有する。プリント基板2は、金属パッド5A,5Bを有する。金属パッド5A,5Bは、プリント基板2の上面21に形成されている。金属パッド5Aは、第1電極の一例である。
樹脂インターポーザ3は、プリント基板2側を向いた第1面(下面)31と、第1面31の反対側の第2面(上面)32とを有する。プリント基板2の上面21と樹脂インターポーザ3の第1面31とが向かい合っている。樹脂インターポーザ3は、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6A,6Bと、樹脂インターポーザ3の第2面32に形成された金属パッド7と、を有する。金属パッド6Aは、第2電極の一例である。金属パッド7は、第3電極の一例である。金属パッド5A,5B,6A,6B,7として、例えば、銅(Cu)又は表面にニッケル(Ni)、金(Au)などがメッキされた銅を用いてもよい。
金属パッド6Aは、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分を囲む外周部分に形成され、金属パッド6Bは、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に形成されている。樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分は、第1面の第1部分の一例である。樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分を囲む外周部分は、第1面の第1部分を囲む第2部分の一例である。金属パッド7は、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分に形成されている。樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分は、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分と平面視で重なっている。例えば、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の外縁(外周)が、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分の外縁(外周)と平面視で一致又は略一致していてもよい。樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分は、第2面の第3部分の一例である。樹脂インターポーザ3は、樹脂インターポーザ3の内部に形成された配線層8を有する。配線層8は、配線及びビアを有する。配線層8を介して、金属パッド6Aと金属パッド7とが電気的に接続され、金属パッド6Bと金属パッド7とが電気的に接続されている。
プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に、導電性部材11、半田バンプ12及びソルダーレジスト13が形成されている。導電性部材11は、導電性粒子及び樹脂を含む混合物である。導電性部材11は、導電性ペーストを硬化することにより形成される。導電性部材11に含まれる導電性粒子として、例えば、錫(Sn)、銀(Ag)、銅(Cu)、金(Au)、鉛(Pb)、パラジウム(Pd)及びニッケル(Ni)などから選択される少なくとも1種の金属又はこれらの合金或いはカーボン(C)を用いてもよい。導電性部材11に含まれる樹脂として、例えば、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、シリコーン樹脂などの高耐熱性樹脂を用いてもよい。半田バンプ12として、例えば、錫又は錫を含む合金を用いてもよい。ソルダーレジスト13は、例えば、感光性の絶縁樹脂である。ソルダーレジスト13は、半田バンプ12の周囲に形成されている。
導電性部材11に含まれる導電性粒子の粒径は、半田バンプ12の高さよりも小さい。導電性部材11に含まれる導電性粒子の粒径が、半田バンプ12の高さよりも大きい場合、樹脂インターポーザ3の中央部分と外周部分との間で段差が発生する可能性がある。導電性部材11に含まれる導電性粒子の粒径が、半田バンプ12の高さよりも小さいことにより、樹脂インターポーザ3の平坦性が向上する。導電性部材11に含まれる導電性粒子の粒径は、1μm以上25μm以下であることが好ましい。
導電性部材11は、プリント基板2の上面21に接触すると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触している。導電性部材11は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に形成された金属パッド6Bに電気的に接続されている。導電性部材11は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに接合されていてもよい。導電性部材11は、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに接合されていてもよい。半田バンプ12は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Aに接合されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分を囲む外周部分に形成された金属パッド6Aに接合されている。
半導体チップ4の材料として、例えば、シリコン、窒化ガリウム(GaN)、ガリウムヒ素(GaAs)及び炭化ケイ素(SiC)を用いてもよい。半導体チップ4の下面41に接続端子14が形成されている。半導体チップ4の下面41は、回路が形成された回路面であってもよい。樹脂インターポーザ3の第2面32と半導体チップ4の下面41とが向かい合っている。接続端子14は、半導体チップ4の下面41に形成された電極(図示せず)に電気的に接続されている。接続端子14は、金属ポストであってもよい。金属ポストは、銅、銀、錫及び金などから選択される少なくとも1種の金属又はこれらの合金を用いて形成される。接続端子14は、半田バンプであってもよい。樹脂インターポーザ3と半導体チップ4との間にアンダーフィル15が形成されている。接続端子14は、マイクロバンプとも呼ばれる。
導電性部材11は、プリント基板2と半導体チップ4との間に形成された電源経路の一部であってもよい。導電性部材11が電源線又はグラウンド線であってもよい。導電性部材11を電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に電源線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。導電性部材11をグラインド線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分にグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板2に対する樹脂インターポーザ3の実装エリアの拡大を抑制することができる。また、複数の半田バンプ12の一つが、プリント基板2と半導体チップ4との間に形成された電源経路の一部であってもよい。複数の半田バンプ12の一つが電源線又はグラウンド線であってもよい。
半田バンプ12を介して、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間で信号伝送が行われてもよい。樹脂インターポーザ3及び半田バンプ12を介して、プリント基板2と半導体チップ4との間で信号伝送が行われてもよい。半田バンプ12が、プリント基板2と半導体チップ4との間に形成された信号経路の一部であってもよい。半田バンプ12が、信号線であってもよい。
導電性部材11は、プリント基板2の上面21に接触すると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触している。導電性部材11に含まれる導電性粒子と導電性粒子との間の隙間が小さいため、導電性部材11の剛性が大きい。導電性部材11が樹
脂インターポーザ3の中央部分を支持することにより、樹脂インターポーザ3をプリント基板2に実装した際、樹脂インターポーザ3の中央部分の変形が抑制される。したがって、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の凹凸が抑制され、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上する。これにより、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分に半導体チップ4を実装した際、樹脂インターポーザ3と接続端子14との接合が確保されると共に、半導体チップ4と接続端子14との接合が確保される。樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上しているため、接続端子14として微細なマイクロバンプを用いて半導体チップ4を樹脂インターポーザ3に実装することができる。
脂インターポーザ3の中央部分を支持することにより、樹脂インターポーザ3をプリント基板2に実装した際、樹脂インターポーザ3の中央部分の変形が抑制される。したがって、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の凹凸が抑制され、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上する。これにより、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分に半導体チップ4を実装した際、樹脂インターポーザ3と接続端子14との接合が確保されると共に、半導体チップ4と接続端子14との接合が確保される。樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上しているため、接続端子14として微細なマイクロバンプを用いて半導体チップ4を樹脂インターポーザ3に実装することができる。
導電性部材11の外形サイズが大きくなるにつれて、樹脂インターポーザ3の第2面32における平坦部分が大きくなるが、樹脂インターポーザ3の外形サイズも大きくなる。プリント基板2に対する樹脂インターポーザ3の実装エリアの拡大を抑制するため、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4の実装領域のサイズと、導電性部材11の外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4の実装領域は、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分である。したがって、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分のサイズと、導電性部材11の外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。金属パッド7、半導体チップ4及び接続端子14が、平面視で導電性部材11と重なっていてもよい。金属パッド7、半導体チップ4及び接続端子14が、平面視で導電性部材11と重なることにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4の実装領域の平坦性が向上する。
図2に示すように、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に導電性部材11A,11Bを形成してもよい。図2は、半導体装置1の断面図である。図2に示す半導体チップ4A,4B、金属パッド7A,7B、導電性部材11A,11B及び接続端子14A,14Bの各構成は、図1に示す半導体チップ4、金属パッド7、導電性部材11及び接続端子14の各構成と同様である。例えば、導電性部材11Aが電源線であり、導電性部材11Bがグラウンド線であってもよい。また、例えば、導電性部材11Aがグラウンド線であり、導電性部材11Bが電源線であってもよい。
導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに電気的に接続されている。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに電気的に接続されている。導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに接合されていてもよい。導電性部材11Aは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに接合されていてもよい。金属パッド5C,6Cの各構成は、金属パッド5B,6Bの各構成と同様である。
導電性部材11Aを電源線として用い、導電性部材11Bをグラウンド線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。導電性部材11Aをグラウンド線として用い、導電性部材11Bを電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板2に対する樹脂インター
ポーザ3の実装エリアの拡大を抑制することができる。
ポーザ3の実装エリアの拡大を抑制することができる。
樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Aの実装領域のサイズと、導電性部材11Aの外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Bの実装領域のサイズと、導電性部材11Bの外形サイズとが一致又は略一致していることが好ましい。金属パッド7A、半導体チップ4A及び接続端子14Aが、平面視で導電性部材11Aと重なっていてもよい。金属パッド7A、半導体チップ4A及び接続端子14Aが、平面視で導電性部材11Aと重なることにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Aの実装領域における平坦性が向上する。金属パッド7B、半導体チップ4B及び接続端子14Bが、平面視で導電性部材11Bと重なっていてもよい。金属パッド7B、半導体チップ4B及び接続端子14Bが、平面視で導電性部材11Bと重なることにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Bの実装領域の平坦性が向上する。
〈半導体装置1の製造方法〉
図3から図8Cを参照して、半導体装置1の製造方法の一例を説明する。図3に示すように、プリント基板2を配置した後、プリント基板2の上面21に半田バンプ12を形成する。この場合、プリント基板2の上面21に金属パッド5Aが形成されているので、半田バンプ12は、金属パッド5A上に形成される。例えば、メタルマスクを用いて半田ペーストを印刷した後、リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成してもよい。また、例えば、半田ボールを金属パッド5A上に載置することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成してもよい。次に、プリント基板2の上面21にソルダーレジスト13を形成する。ソルダーレジスト13は、半田バンプ12を覆っている。半田バンプ12の頭頂部分は、ソルダーレジスト13から露出している。感光性のソルダーレジスト13を用いてもよい。感光性のソルダーレジスト13を用いる場合、露光及び現像を行うことにより、ソルダーレジスト13のパターニングが行われる。
図3から図8Cを参照して、半導体装置1の製造方法の一例を説明する。図3に示すように、プリント基板2を配置した後、プリント基板2の上面21に半田バンプ12を形成する。この場合、プリント基板2の上面21に金属パッド5Aが形成されているので、半田バンプ12は、金属パッド5A上に形成される。例えば、メタルマスクを用いて半田ペーストを印刷した後、リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成してもよい。また、例えば、半田ボールを金属パッド5A上に載置することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成してもよい。次に、プリント基板2の上面21にソルダーレジスト13を形成する。ソルダーレジスト13は、半田バンプ12を覆っている。半田バンプ12の頭頂部分は、ソルダーレジスト13から露出している。感光性のソルダーレジスト13を用いてもよい。感光性のソルダーレジスト13を用いる場合、露光及び現像を行うことにより、ソルダーレジスト13のパターニングが行われる。
図4に示すように、プリント基板2の上面21に導電性ペースト51を形成する。導電性ペースト51は、導電性粒子及び樹脂を含む。導電性ペースト51に含まれる導電性粒子は分散している。例えば、メタルマスクを用いて導電性ペースト51を印刷することによりプリント基板2の上面21に導電性ペースト51を形成する。導電性ペースト51は、金属パッド5Bを覆っている。図5Aは、プリント基板2の平面図である。図5Aに示すプリント基板2の一例では、ソルダーレジスト13の図示が省略されている。図5Aに示すように、複数の半田バンプ12によって囲まれた領域内に導電性ペースト51が形成されている。
図4及び図5Aに示す例に限らず、プリント基板2の上面21に複数の導電性ペースト51を形成してもよい。例えば、図5Bに示すように、プリント基板2の上面21に導電性ペースト51A,51Bを形成してもよい。図5Bは、プリント基板2の平面図である。図5Bに示すプリント基板2の一例では、ソルダーレジスト13の図示が省略されている。図5Bに示すように、複数の半田バンプ12によって囲まれた領域内に導電性ペースト51A,51Bが形成されている。例えば、図5Cに示すように、プリント基板2の上面21に導電性ペースト51A〜51Dを形成してもよい。図5Cは、プリント基板2の平面図である。図5Cに示すプリント基板2の一例では、ソルダーレジスト13の図示が省略されている。図5Cに示すように、複数の半田バンプ12によって囲まれた領域内に導電性ペースト51A〜51Dが形成されている。導電性ペースト51A〜51Dの各構成は、導電性ペースト51の構成と同様である。
図6に示すように、プリント基板2に樹脂インターポーザ3を実装する。樹脂インター
ポーザ3の実装を以下のように行ってもよい。フリップチップボンダやマウンターを用いて、樹脂インターポーザ3の位置合わせを行った後、プリント基板2に樹脂インターポーザ3を搭載する。この場合、導電性ペースト51が樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触し、半田バンプ12が樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に形成されている金属パッド6Aに接触する。このように、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分を導電性ペースト51に接触させ、かつ、金属パッド6Aを半田バンプ12に接触させて、樹脂インターポーザ3をプリント基板2に搭載する。
ポーザ3の実装を以下のように行ってもよい。フリップチップボンダやマウンターを用いて、樹脂インターポーザ3の位置合わせを行った後、プリント基板2に樹脂インターポーザ3を搭載する。この場合、導電性ペースト51が樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触し、半田バンプ12が樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に形成されている金属パッド6Aに接触する。このように、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分を導電性ペースト51に接触させ、かつ、金属パッド6Aを半田バンプ12に接触させて、樹脂インターポーザ3をプリント基板2に搭載する。
次に、リフロー加熱処理を行うことにより、金属パッド5Aに半田バンプ12を接合する共に、金属パッド6Aに半田バンプ12を接合する。リフロー加熱処理を行うことで、半田バンプ12が溶融し、半田バンプ12が金属パッド5A,6Aに接合する。半田バンプ12を金属パッド5A,5Bに接合するときのリフロー加熱処理は、第1加熱処理の一例である。
次いで、加熱処理を行い、導電性ペースト51を硬化することにより導電性部材11を形成する。加熱処理を行うことで、導電性ペースト51に含まれる樹脂が硬化することにより、導電性ペースト51が硬化する。加熱処理を行うことにより、導電性ペースト51に含まれる導電性粒子を溶融させてもよい。半田バンプ12が溶融するのに要する時間は短く、導電性ペースト51が硬化するのに要する時間は長いので、半田バンプ12を金属パッド5A,5Bに接合するときのリフロー加熱処理の処理時間は、導電性ペースト51を硬化するときの加熱処理の処理時間よりも短い。導電性ペースト51を硬化するときの加熱処理は、第2加熱処理の一例である。
図7に示すように、樹脂インターポーザ3に半導体チップ4を実装する。半導体チップ4の実装を以下のように行ってもよい。フリップチップボンダやマウンターを用いて、半導体チップ4の位置合わせを行った後、樹脂インターポーザ3に半導体チップ4を搭載する。この場合、半導体チップ4の接続端子14が樹脂インターポーザ3の金属パッド7に接触する。このように、半導体チップ4が有する接続端子14を樹脂インターポーザ3の金属パッド7に接触させて、半導体チップ4を樹脂インターポーザ3に搭載する。
次いで、リフロー加熱処理を行うことにより、金属パッド7に接続端子14を接合する。リフロー加熱処理を行うことで、接続端子14が溶融し、接続端子14が金属パッド7に接合する。接続端子14を金属パッド7に接合するときのリフロー加熱処理は、第3加熱処理の一例である。次に、樹脂インターポーザ3と半導体チップ4との間にアンダーフィル15を流し込んだ後、キュア(加熱処理)を行うことにより、アンダーフィル15を硬化する。図3、図4、図6及び図7に示す工程が行われることにより、半導体装置1が製造される。
図8Aから図8Cは、半導体装置1の平面図である。図8Aから図8Cに示す半導体装置1の各例では、樹脂インターポーザ3の外形部分が点線で示されており、ソルダーレジスト13の図示が省略されている。図8Aに示す半導体装置1は、一つの半導体チップ4を備える。図8Bに示す半導体装置1は、2つの半導体チップ4を備える。図8Cに示す半導体装置1は、4つの半導体チップ4を備える。
〈電子装置10の構成〉
図9は、電子装置10の断面図である。電子装置10は、プリント基板2と、プリント基板2に実装された樹脂インターポーザ3とを備える。樹脂インターポーザ3は、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6A,6Bと、樹脂インターポーザ3の第2面32に形成された金属パッド7と、を有する。樹脂インターポーザ3に半導体チップ4が実装される際、樹脂インターポーザ3の金属パッド7に半導体チップ4の接続
端子14が接合される。
図9は、電子装置10の断面図である。電子装置10は、プリント基板2と、プリント基板2に実装された樹脂インターポーザ3とを備える。樹脂インターポーザ3は、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6A,6Bと、樹脂インターポーザ3の第2面32に形成された金属パッド7と、を有する。樹脂インターポーザ3に半導体チップ4が実装される際、樹脂インターポーザ3の金属パッド7に半導体チップ4の接続
端子14が接合される。
プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間には導電性部材11、半田バンプ12及びソルダーレジスト13が形成されている。導電性部材11は、プリント基板2の上面21に接触すると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触している。導電性部材11は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に形成された金属パッド6Bに電気的に接続されている。導電性部材11は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに接合されていてもよい。導電性部材11は、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに接合されていてもよい。半田バンプ12は、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Aに接合されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31であって中央部分を囲む外周部分に形成された金属パッド6Aに接合されている。
導電性部材11は、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に形成された電源経路の一部であってもよい。導電性部材11が電源線又はグラウンド線であってもよい。複数の半田バンプ12の一つが、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に形成された電源経路の一部であってもよい。複数の半田バンプ12の一つが電源線又はグラウンド線であってもよい。
半田バンプ12を介して、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間で信号伝送が行われてもよい。半田バンプ12が、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に形成された信号経路の一部であってもよい。半田バンプ12が、信号線であってもよい。
導電性部材11は、プリント基板2の上面21に接触すると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31の中央部分に接触している。導電性部材11に含まれる導電性粒子と導電性粒子との間の隙間が小さいため、導電性部材11の剛性が大きい。導電性部材11が樹脂インターポーザ3の中央部分を支持することにより、樹脂インターポーザ3の中央部分の変形が抑制される。したがって、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の凹凸が抑制され、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上する。これにより、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分に半導体チップ4を実装した際、樹脂インターポーザ3と接続端子14との接合が確保されると共に、半導体チップ4と接続端子14との接合が確保される。樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分の平坦性が向上しているため、接続端子14として微細なマイクロバンプを用いて半導体チップ4を樹脂インターポーザ3に実装することができる。
金属パッド7、半導体チップ4及び接続端子14が、平面視で導電性部材11と重なっていてもよい。金属パッド7、半導体チップ4及び接続端子14が、平面視で導電性部材11と重なることにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4の実装領域の平坦性が向上する。
図10に示すように、プリント基板2と樹脂インターポーザ3との間に導電性部材11A,11Bを形成してもよい。図10は、電子装置10の断面図である。樹脂インターポーザ3に半導体チップ4が実装される際、樹脂インターポーザ3の金属パッド7Aに半導体チップ4Aの接続端子14Aが接合される。樹脂インターポーザ3に半導体チップ4Bが実装される際、樹脂インターポーザ3の金属パッド7Bに半導体チップ4Bの接続端子14Bが接合される。
例えば、導電性部材11Aが電源線であり、導電性部材11Bがグラウンド線であってもよい。また、例えば、導電性部材11Aがグラウンド線であり、導電性部材11Bが電
源線であってもよい。導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに電気的に接続されている。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに電気的に接続されている。導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに接合されていてもよい。導電性部材11Aは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに接合されていてもよい。
源線であってもよい。導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに電気的に接続されている。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに電気的に接続されていると共に、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに電気的に接続されている。導電性部材11Aは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Bに接合されていてもよい。導電性部材11Aは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Bに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、プリント基板2の上面21に形成された金属パッド5Cに接合されていてもよい。導電性部材11Bは、樹脂インターポーザ3の第1面31に形成された金属パッド6Cに接合されていてもよい。
導電性部材11Aを電源線として用い、導電性部材11Bをグラウンド線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。導電性部材11Aをグラウンド線として用い、導電性部材11Bを電源線として用いることにより、樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分に電源線及びグラウンド線を形成するためのスペースを設けなくてもよいため、樹脂インターポーザ3の大型化を抑制することができる。したがって、プリント基板2に対する樹脂インターポーザ3の実装エリアの拡大を抑制することができる。
金属パッド7Aが、平面視で導電性部材11Aと重なっていてもよい。金属パッド7A、半導体チップ4A及び接続端子14Aが、平面視で導電性部材11Aと重なことにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Aの実装領域における平坦性が向上する。金属パッド7Bが、平面視で導電性部材11Bと重なっていてもよい。金属パッド7B、半導体チップ4B及び接続端子14Bが、平面視で導電性部材11Bと重なることにより、樹脂インターポーザ3の第2面32における半導体チップ4Bの実装領域の平坦性が向上する。
〈電子装置10の製造方法〉
電子装置10は、半導体装置1の製造方法と同様の方法によって製造される。例えば、図3、図4及び図6に示す工程と同様の工程が行われることにより、電子装置10が製造される。
電子装置10は、半導体装置1の製造方法と同様の方法によって製造される。例えば、図3、図4及び図6に示す工程と同様の工程が行われることにより、電子装置10が製造される。
〈実施例1〉
以下、半導体装置1について、実施例を挙げて説明する。厚さ0.3mmのプリント基板2を用意し、Φ90μmの金属パッド5A上に鉛フリー半田ペースト(千住金属工業社製、型番:M705)を印刷により形成した。金属パッド5Aは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成した。半田バンプ12の直径はΦ90μmであり、半田バンプ12の高さは90μmである。銀ペースト(バンドー化学社製)を印刷することによりプリント基板2の上面21に銀ペーストを形成した。
以下、半導体装置1について、実施例を挙げて説明する。厚さ0.3mmのプリント基板2を用意し、Φ90μmの金属パッド5A上に鉛フリー半田ペースト(千住金属工業社製、型番:M705)を印刷により形成した。金属パッド5Aは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成した。半田バンプ12の直径はΦ90μmであり、半田バンプ12の高さは90μmである。銀ペースト(バンドー化学社製)を印刷することによりプリント基板2の上面21に銀ペーストを形成した。
樹脂インターポーザ3を用意し、フリップチップボンダを用いて樹脂インターポーザ3の位置合わせを行い、プリント基板2に樹脂インターポーザ3を搭載した。樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分にΦ90μmの金属パッド6Aが形成され、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分にΦ25μmの金属パッド7が形成されている。リフロー加熱処理を行い、金属パッド5Aに半田バンプ12を接合した。リフロー加熱処理の処理温度は260℃とし、リフロー加熱処理の処理時間は60秒とした。加熱処理を行い、銀ペーストを硬化することにより導電性部材11を形成した。
接続端子14を有する半導体チップ4を用意し、リフロー加熱処理を行い、半導体チップ7の接続端子14を金属パッド7に接合した。接続端子14は、Φ25μm、高さ20μmの銅ポストと、銅ポスト上に形成された高さ10μmのSnAg半田とを有する。樹脂インターポーザ3と半導体チップ4との間にアンダーフィル15を流し込んだ後、165℃のキュア(加熱処理)を行うことにより、アンダーフィル15を硬化して、半導体装置1を製造した。
〈実施例2〉
以下、電子装置10について、実施例を挙げて説明する。厚さ0.3mmのプリント基板2を用意し、Φ90μmの金属パッド5A上に鉛フリー半田ペースト(千住金属工業社製、型番:M705)を印刷により形成した。金属パッド5Aは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成した。半田バンプ12の直径はΦ90μmであり、半田バンプ12の高さは90μmである。銀ペースト(バンドー化学社製)を印刷することによりプリント基板2の上面21に銀ペーストを形成した。
以下、電子装置10について、実施例を挙げて説明する。厚さ0.3mmのプリント基板2を用意し、Φ90μmの金属パッド5A上に鉛フリー半田ペースト(千住金属工業社製、型番:M705)を印刷により形成した。金属パッド5Aは、銅、ニッケル及び金を有する。リフロー加熱処理を行い、半田ペーストをバンプ形状に成形することにより、金属パッド5A上に半田バンプ12を形成した。半田バンプ12の直径はΦ90μmであり、半田バンプ12の高さは90μmである。銀ペースト(バンドー化学社製)を印刷することによりプリント基板2の上面21に銀ペーストを形成した。
樹脂インターポーザ3を用意し、フリップチップボンダを用いて樹脂インターポーザ3の位置合わせを行い、プリント基板2に樹脂インターポーザ3を搭載した。樹脂インターポーザ3の第1面31の外周部分にΦ90μmの金属パッド6Aが形成され、樹脂インターポーザ3の第2面32の中央部分にΦ25μmの金属パッド7が形成されている。リフロー加熱処理を行い、金属パッド5Aに半田バンプ12を接合した。リフロー加熱処理の処理温度は260℃とし、リフロー加熱処理の処理時間は60秒とした。加熱処理を行い、銀ペーストを硬化することにより導電性部材11を形成して、電子装置10を製造した。
1 半導体装置
2 プリント基板
3 樹脂インターポーザ
4 半導体チップ
5A、5B、6A、6B、7、7A、7B 金属パッド
8 配線層
10 電子装置
11、11A、11B 導電性部材
12 半田バンプ
13 ソルダーレジスト
14、14A、14B 接続端子
15 アンダーフィル
51 導電性ペースト
2 プリント基板
3 樹脂インターポーザ
4 半導体チップ
5A、5B、6A、6B、7、7A、7B 金属パッド
8 配線層
10 電子装置
11、11A、11B 導電性部材
12 半田バンプ
13 ソルダーレジスト
14、14A、14B 接続端子
15 アンダーフィル
51 導電性ペースト
Claims (7)
- 第1電極を有するプリント基板と、
前記プリント基板側を向いた第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板と、
前記第3電極に接合された接続端子を有する半導体チップと、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、導電性粒子及び樹脂を含む導電性部材と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第1電極及び前記第2電極に接合された半田バンプと、
を備え、
前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第1面の前記第1部分に接触していることを特徴とする半導体装置。 - 前記導電性部材は、グラウンド線又は電源線であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記導電性粒子の粒径が、前記半田バンプの高さよりも小さいことを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体装置。
- 前記第3電極、前記半導体チップ及び前記接続端子が、平面視で前記導電性部材と重なっていることを特徴とする請求項1から3の何れか一項に記載の半導体装置。
- 第1電極を有するプリント基板と、
前記プリント基板側を向いた第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、導電性粒子及び樹脂を含む導電性部材と、
前記プリント基板と前記樹脂基板との間に形成され、前記第1電極及び前記第2電極に接合された半田バンプと、
を備え、
前記導電性部材が前記プリント基板に接触すると共に、前記樹脂基板の前記第1面の前記第1部分に接触していることを特徴とする電子装置。 - プリント基板の上面に形成された第1電極上に半田バンプを形成する工程と、
前記プリント基板の前記上面に導電性粒子及び樹脂を含む導電性ペーストを形成する工程と、
第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板の前記第1面の前記第1部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、
第1加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第1電極及び前記第2電極に接合する工程と、
第2加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、
半導体チップが有する接続端子を前記第3電極に接触させて、前記半導体チップを前記樹脂基板に搭載する工程と、
第3加熱処理を行うことにより、前記接続端子を前記第3電極に接合する工程と、
を備えることを特徴とする半導体装置の製造方法。 - プリント基板の上面に形成された第1電極上に半田バンプを形成する工程と、
前記プリント基板の前記上面に導電性粒子及び樹脂を含む導電性ペーストを形成する工程と、
第1面、前記第1面の第1部分を囲む第2部分に形成された第2電極、前記第1面の反対側の第2面及び前記第1部分と平面視で重なる前記第2面の第3部分に形成された第3電極を有する樹脂基板の前記第1面の前記第1部分を前記導電性ペーストに接触させて、前記樹脂基板を前記プリント基板に搭載する工程と、
第1加熱処理を行うことにより、前記半田バンプを前記第1電極及び前記第2電極に接合する工程と、
第2加熱処理を行うことにより、前記導電性ペーストを硬化する工程と、
を備えることを特徴とする電子装置の製造方法。
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