JP2018016581A - チオフェン化合物 - Google Patents
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- SLBQQYMUWDROLH-UHFFFAOYSA-N CC1Oc2c[s]cc2OC1CO Chemical compound CC1Oc2c[s]cc2OC1CO SLBQQYMUWDROLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TUUDZQIBZVDKLC-UHFFFAOYSA-N OCC1Oc2c[s]cc2OC1CO Chemical compound OCC1Oc2c[s]cc2OC1CO TUUDZQIBZVDKLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Abstract
Description
[1] 下記式(1)
で表されるチオフェン化合物。
[2] mが2又は3である、[1]に記載のチオフェン化合物。
[3] R1がメチル基である、[1]又は[2]に記載のチオフェン化合物。
また、上記の反応において、用いる試薬の種類や量を変更することによって、本願発明のチオフェン化合物を製造することができる。
本発明のチオフェン化合物を原料とした導電性高分子の重量平均分子量は、特に限定するものではないが、ポリスチレンスルホン酸換算で通常1千〜100万の範囲であり、ポリマーから未反応のモノマーや低分子不純物及び無機塩を除去する観点から、より好ましくは1千〜20万の範囲である。
[NMR測定]
装置:VARIAN社製 VXR−300S
[GC−MS]
装置:日本電子社製 JMS−K9
[Q−TOF LC/MS]
装置:ブルカー・ダルトニクス社製 Compact
実施例1 2,3−ビス(ヒドロキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンの合成
原料の2,3−ビス(ヒドロキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンは、下記式(5)で表される製法で合成した。
窒素雰囲気下、500mlナス型フラスコに3,4−ジメトキシチオフェン 22.7g(157.2mmol)、1,4−ジクロロ−2,3−ブタンジオール 75.0g(471.7mmol)、パラトルエンスルホン酸一水和物 4.5g(23.6mmol)、及びトルエン 300gを仕込んだ後、95℃で24時間攪拌した。放冷後、7重量%の炭酸水素ナトリウム水溶液 57gを添加して撹拌し、次いでトルエンで抽出し、水洗を行った後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。引き続き、シリカゲルカラムクロマトグラフィ精製より、2,3−ビス(クロロメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンを21.3gの黄色油状物として得た。NMRから目的物であることを確認した。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm);6.38(s,2H),4.45(t,2H,J=3.8Hz),3.79(d,4H,J=3.8Hz)
13C−NMR(CDCl3)δ(ppm);42.27,72.98,101.13,139.88
b) 2,3−ビス(アセトキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンの合成
窒素雰囲気下、200mlナス型フラスコに2,3−ビス(クロロメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン 7.8g(32.7mmol)、酢酸カリウム 9.6g(98.1mmol)、ジメチルスルホキシド 119gを仕込んだ後、98℃で5.5時間攪拌した。放冷後、トルエンで抽出し、水洗を行い、無水硫酸ナトリウムで脱水した。引き続き、シリカゲルカラムクロマトグラフィ精製より、2,3−ビス(アセトキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンを6.2gの黄色固体として得た。NMR、GC−MSから目的物であることを確認した。
1H−NMR(CDCl3)δ(ppm);6.40(s,2H),4.29−4.38(m,6H),2.10(s,6H)
13C−NMR(CDCl3)δ(ppm);20.94,62.70,72.23,100.67,140.49,170.72
GC−MS(EI、PCI):Mw=286が検出され、2,3−ビス(アセトキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン(C12H14O6S)に帰属可能であった。
窒素雰囲気下、200mlナス型フラスコに2,3−ビス(アセトキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン 8.0g(28.0mmol)、水酸化ナトリウム 5.7g(139.9mmol)、トルエン 5g、メタノール 78gを仕込んだ後、65℃で4時間攪拌した。法令し、溶媒留去して濃縮した後、ジクロロメタンを加えてから、10重量%塩酸で中和した。引き続き、ジクロロメタンで抽出、水洗を行い、硫酸ナトリウムで脱水した。さらに、シリカゲルカラムクロマトグラフィ精製より、2,3−ビス(ヒドロキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシンを2.3gの黄色固体として得た。NMR、GC−MSから目的物であることを確認した。
1H−NMR(CD3OD)δ(ppm);6.40(s,2H),4.10−4.12(m,2H),3.86−3.93(m,4H),3.34(s,2H)
13C−NMR(CD3OD)δ(ppm);60.74,75.27,99.08,141.70
GC−MS(EI):Mw=202が検出され、2,3−ビス(ヒドロキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン(C8H10O4S)に帰属可能であった。
窒素雰囲気下、200mlナス型フラスコに60%水酸化ナトリウム 1.1g(27.2mmol)、テトラヒドロフラン 10mlを仕込んだ後、2,3−ビス(ヒドロキシメチル)−2,3−ジヒドロ−チエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン 2.2g(10.9mmol)とテトラヒドロフラン 20mlからなる混合液を添加した。その後、反応液を還流温度に昇温させ、同温度で1時間攪拌した。その後、2,4−ブタンスルトン 3.4g(25.0mmol)とテトラヒドロフラン 20mlからなる混合液を滴下し、同温度で3.5時間攪拌した。冷却後、得られた反応液をアセトンに滴下し再沈を行った。得られた粉末を濾過及び真空乾燥させることで、3,3’−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン−2,3−ジイル)ジメトキシ]−ビス(1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム)を3.9gの薄黄色固体として得た。NMR、LC−MSから目的物であることを確認した。
1H−NMR(D2O)δ(ppm);6.46(s,2H),4.25−4.29(m,2H),3.62−3.73(m,8H),2.87−2.91(m,2H)2.13−2.15(m,2H),1.58−1.60(m,2H),1.20(d,6H,J=5.7Hz)
13C−NMR(D2O)δ(ppm);14.55,30.87,52.84,68.92,69.15,73.58,100.85,140.04
Q−TOF LC/MS(ESI、ネガティブモード):m/z=473.061が検出され、3,3’−[(2,3−ジヒドロチエノ[3,4−b]−1,4−ジオキシン−2,3−ジイル)ジメトキシ]−ビス(1−メチル−1−プロパンスルホン酸ナトリウム)(C16H24Na2O10S3)からナトリウムが2つ外れ、水素が1つ付いた1価の陰イオン(C16H25O10S3)に帰属可能であった。
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Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09274280A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Konica Corp | 画像要素 |
JPH10308117A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性組成物およびその製造方法 |
WO2000045451A1 (en) * | 1999-02-01 | 2000-08-03 | Blue Sky Batteries, Inc. | Single component sulfur-based cathodes for lithium and lithium-ion batteries |
JP2006077229A (ja) * | 2004-05-21 | 2006-03-23 | Showa Denko Kk | 導電性組成物及びその用途 |
JP2007077384A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-03-29 | Hc Starck Gmbh | ポリエチレンジオキシチオフェンの製造方法 |
JP2007529094A (ja) * | 2004-03-11 | 2007-10-18 | バイエル・ベタイリグングスフェアヴァルトゥング・ゴスラー・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | ポリチオフェンに基づく光学用途のための機能層 |
JP2009524737A (ja) * | 2006-01-26 | 2009-07-02 | ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファンデーション インコーポレーティッド | ポリマーアルキレンジオキシ複素環の化学的脱官能化 |
JP2010195980A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Waseda Univ | ポリチオフェン又はチオフェン共重合体の溶液又は分散液並びにその製造方法 |
JP2010285622A (ja) * | 2003-07-14 | 2010-12-24 | Hc Starck Gmbh | ポリチオフェン、ポリチオフェンの分散液とその製造方法及びその使用 |
JP2012216450A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Konica Minolta Holdings Inc | 導電性組成物の製造方法及びその導電性組成物を用いた透明導電膜、有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2012243460A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルム |
JP2015063652A (ja) * | 2013-04-04 | 2015-04-09 | 東ソー株式会社 | 導電性高分子水溶液、及び導電性高分子膜 |
WO2016102129A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing functionalized polythiophenes |
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Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09274280A (ja) * | 1996-04-05 | 1997-10-21 | Konica Corp | 画像要素 |
JPH10308117A (ja) * | 1997-05-09 | 1998-11-17 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 導電性組成物およびその製造方法 |
WO2000045451A1 (en) * | 1999-02-01 | 2000-08-03 | Blue Sky Batteries, Inc. | Single component sulfur-based cathodes for lithium and lithium-ion batteries |
JP2010285622A (ja) * | 2003-07-14 | 2010-12-24 | Hc Starck Gmbh | ポリチオフェン、ポリチオフェンの分散液とその製造方法及びその使用 |
JP2007529094A (ja) * | 2004-03-11 | 2007-10-18 | バイエル・ベタイリグングスフェアヴァルトゥング・ゴスラー・ゲゼルシャフト・ミット・ベシュレンクテル・ハフツング | ポリチオフェンに基づく光学用途のための機能層 |
JP2006077229A (ja) * | 2004-05-21 | 2006-03-23 | Showa Denko Kk | 導電性組成物及びその用途 |
JP2007077384A (ja) * | 2005-07-05 | 2007-03-29 | Hc Starck Gmbh | ポリエチレンジオキシチオフェンの製造方法 |
JP2009524737A (ja) * | 2006-01-26 | 2009-07-02 | ユニバーシティ オブ フロリダ リサーチ ファンデーション インコーポレーティッド | ポリマーアルキレンジオキシ複素環の化学的脱官能化 |
JP2010195980A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Waseda Univ | ポリチオフェン又はチオフェン共重合体の溶液又は分散液並びにその製造方法 |
JP2012216450A (ja) * | 2011-04-01 | 2012-11-08 | Konica Minolta Holdings Inc | 導電性組成物の製造方法及びその導電性組成物を用いた透明導電膜、有機エレクトロルミネッセンス素子 |
JP2012243460A (ja) * | 2011-05-17 | 2012-12-10 | Teijin Dupont Films Japan Ltd | 導電性フィルム |
JP2015063652A (ja) * | 2013-04-04 | 2015-04-09 | 東ソー株式会社 | 導電性高分子水溶液、及び導電性高分子膜 |
WO2016102129A1 (en) * | 2014-12-23 | 2016-06-30 | Heraeus Deutschland GmbH & Co. KG | Process for producing functionalized polythiophenes |
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