JP2018016577A - エステル化合物の製造方法 - Google Patents
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Landscapes
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Abstract
【課題】本発明の課題は、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができるエステル化合物の製造方法を提供することである。
【解決手段】所定の置換基を有するヒドロキシ化合物と、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物とを用いて、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法であって、
含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程と、
アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程とを有する、エステル化合物の製造方法。
【選択図】なし
【解決手段】所定の置換基を有するヒドロキシ化合物と、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物とを用いて、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法であって、
含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程と、
アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程とを有する、エステル化合物の製造方法。
【選択図】なし
Description
本発明は、エステル化合物の製造方法に関する。
エステル化合物は、機能性材料（例えば、液晶材料、電子輸送材料など）、染料、医薬、農薬および写真用薬品ならびにこれらの中間体として有用であることが知られている。
また、エステル化合物は、カルボキシ基を有する化合物を、酸ハロゲン化物、活性エステルおよび酸無水物などの活性誘導体に変換した後に、ヒドロキシ基またはアミノ基を有する化合物と反応させる方法が一般的である。
しかしながら、この方法では、アクリロイル基などの被求核付加構造を有するカルボン酸をハロゲン化剤と反応させる段階、または、その後のエステル化の段階において、求核剤の付加を受けることがあり、目的物の純度が低下する問題があった。
また、エステル化合物は、カルボキシ基を有する化合物を、酸ハロゲン化物、活性エステルおよび酸無水物などの活性誘導体に変換した後に、ヒドロキシ基またはアミノ基を有する化合物と反応させる方法が一般的である。
しかしながら、この方法では、アクリロイル基などの被求核付加構造を有するカルボン酸をハロゲン化剤と反応させる段階、または、その後のエステル化の段階において、求核剤の付加を受けることがあり、目的物の純度が低下する問題があった。
このような問題に対して、例えば、特許文献１では、アクリロイル基またはアクリロイル基を有するカルボン酸ハライドを、高い純度で、工業的に有利に製造する方法が記載されている（［０００５］）。
本発明者らは、特許文献１に記載された製造法について検討したところ、アクリロイル基などの被求核付加構造を有するカルボン酸ハライド化合物に対して、立体障害を有するヒドロキシ化合物を反応させてエステル化した場合には、エステル化の前後において、ハロゲン化剤やアシル化触媒に由来する副生成物が多く生成され、目的物の収率が低下する問題があることを明らかとした。
そこで、本発明は、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができるエステル化合物の製造方法を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、互いの共役酸のｐＫａが所定の関係を満たすアシル化触媒と塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させることにより、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
［１］ 置換基を有するヒドロキシ化合物と、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物とを用いて、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法であって、
含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程と、
アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程とを有する、エステル化合物の製造方法。
ただし、ヒドロキシ化合物が有する置換基は、下記条件１または２を満たす。
条件１：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７以下となる置換基を１個有する
条件２：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を２個以上有する
［２］ 置換基を有するヒドロキシ化合物が、芳香環と芳香環を構成する炭素原子に結合したヒドロキシ基とを有する芳香族ヒドロキシ化合物である、［１］に記載のエステル化合物の製造方法。
［３］ 置換基を有するヒドロキシ化合物が、フェノール化合物である、［１］または［２］に記載のエステル化合物の製造方法。
［４］ エステル化工程において、置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量が０．５〜３．０である、［１］〜［３］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［５］ カルボン酸化合物が有する被求核付加構造が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、［１］〜［４］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［６］ ハロゲン化剤が塩化チオニルである、［１］〜［５］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［７］ 含窒素溶媒がアミド系溶媒である、［１］〜［６］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［８］ 塩基が、トリエチルアミンおよび／またはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンであり、かつ、アシル化触媒が、Ｎ−メチルイミダゾールである、［１］〜［７］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程と、
アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程とを有する、エステル化合物の製造方法。
ただし、ヒドロキシ化合物が有する置換基は、下記条件１または２を満たす。
条件１：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７以下となる置換基を１個有する
条件２：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を２個以上有する
［２］ 置換基を有するヒドロキシ化合物が、芳香環と芳香環を構成する炭素原子に結合したヒドロキシ基とを有する芳香族ヒドロキシ化合物である、［１］に記載のエステル化合物の製造方法。
［３］ 置換基を有するヒドロキシ化合物が、フェノール化合物である、［１］または［２］に記載のエステル化合物の製造方法。
［４］ エステル化工程において、置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量が０．５〜３．０である、［１］〜［３］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［５］ カルボン酸化合物が有する被求核付加構造が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、［１］〜［４］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［６］ ハロゲン化剤が塩化チオニルである、［１］〜［５］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［７］ 含窒素溶媒がアミド系溶媒である、［１］〜［６］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
［８］ 塩基が、トリエチルアミンおよび／またはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンであり、かつ、アシル化触媒が、Ｎ−メチルイミダゾールである、［１］〜［７］のいずれかに記載のエステル化合物の製造方法。
本発明によれば、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができるエステル化合物の製造方法を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明のエステル化合物の製造方法（以下、単に「本発明の製造方法」と略す。）は、後述する条件１または２を満たす置換基を有するヒドロキシ化合物と、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物とを用いて、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法である。
また、本発明の製造方法は、含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程を有する。
また、本発明の製造方法は、ハライド工程後に、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程を有する。
また、本発明の製造方法は、含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程を有する。
また、本発明の製造方法は、ハライド工程後に、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程を有する。
本発明の製造方法は、上述した通り、ハライド工程後に、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物とを反応させるエステル化工程を有することにより、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を用いてエステル化する場合には、置換基の立体障害により反応速度が遅くなり、ハロゲン化剤に由来する副生成物の生成が顕著となる。
また、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を用いてエステル化する場合、反応速度を上げるため、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンなどのアシル化触媒を多量に投入するなどの手法を取ることが一般的である。しかしながら、アクリロイル基などの被求核付加構造を有するカルボン酸ハライド化合物に対して、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を反応させてエステル化する場合には、アシル化触媒を多量に投入すると、被求核付加構造に対してアシル化触媒が求核攻撃し、副生成物が生成することが分かった。
そのため、本発明の製造方法においては、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを併用することにより、被求核付加構造に対するアシル化触媒の求核攻撃を抑制しつつ、カルボン酸ハライド化合物に対する触媒活性を向上させることができるため、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができたと考えられる。
これは、詳細には明らかではないが、本発明者らは以下のように推測している。
まず、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を用いてエステル化する場合には、置換基の立体障害により反応速度が遅くなり、ハロゲン化剤に由来する副生成物の生成が顕著となる。
また、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を用いてエステル化する場合、反応速度を上げるため、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジンなどのアシル化触媒を多量に投入するなどの手法を取ることが一般的である。しかしながら、アクリロイル基などの被求核付加構造を有するカルボン酸ハライド化合物に対して、立体障害の大きい置換基を有するヒドロキシ化合物を反応させてエステル化する場合には、アシル化触媒を多量に投入すると、被求核付加構造に対してアシル化触媒が求核攻撃し、副生成物が生成することが分かった。
そのため、本発明の製造方法においては、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを併用することにより、被求核付加構造に対するアシル化触媒の求核攻撃を抑制しつつ、カルボン酸ハライド化合物に対する触媒活性を向上させることができるため、副生成物の生成を抑制し、高収率でエステル化合物を得ることができたと考えられる。
以下に、本発明の製造方法で用いる置換基を有するヒドロキシ化合物および分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物、ならびに、ハライド工程およびエステル化工程について、詳述する。
〔ヒドロキシ化合物〕
本発明の製造方法で用いるヒドロキシ化合物は、ヒドロキシ基と、下記条件１または２を満たす置換基とを有するものであれば特に限定されない。
条件１：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７以下となる置換基を１個有する
条件２：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を２個以上有する
本発明の製造方法で用いるヒドロキシ化合物は、ヒドロキシ基と、下記条件１または２を満たす置換基とを有するものであれば特に限定されない。
条件１：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７以下となる置換基を１個有する
条件２：ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を２個以上有する
ここで、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値とは、置換カルボン酸の酸性下エステル化反応速度におけるメチル基を基準にした相対速度であり、下記式（Ａ）で表される｛Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．３４，３５５３〜３５６２頁参照｝。
Ｅｓ＝ｌｏｇ（ｋ／ｋ０） ・・・（Ａ）
（ｋは、特定条件下での置換カルボン酸の酸性下エステル化反応速度であり、ｋ０は、同一条件下でのメチル基置換カルボン酸の酸性下エステル化反応速度である。）
Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値は、置換基の立体的嵩高さを表す一般的な指標であり、本発明では、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．３４，３５５３〜３５６２頁に記載の表１に記載されているＥｓ（Ｔａｆｔ）値であり、これに準拠した方法で測定された値をも含む。この値は、メチル基の値が０．０であり、例えば、水素原子が１．２４、エチル基が−０．０７、ｎ−プロピル基が−０．０７、イソプロピル基が−０．４７、ｎ−ブチル基が−０．３９、ｓｅｃ−ブチル基が−１．１３、ｉ−ブチル基が−０．９３、ｔ−ブチル基が−１．５４、シクロペンチル基が−０．５１、シクロヘキシル基が−０．７９である。また、Ｅｓ（Ｔａｆｔ）値の実測値がない場合でも、上記文献に記載のＥｓ’値でエチル基よりも立体的な嵩高さが高いと推定できる場合も含む。
Ｅｓ＝ｌｏｇ（ｋ／ｋ０） ・・・（Ａ）
（ｋは、特定条件下での置換カルボン酸の酸性下エステル化反応速度であり、ｋ０は、同一条件下でのメチル基置換カルボン酸の酸性下エステル化反応速度である。）
Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値は、置換基の立体的嵩高さを表す一般的な指標であり、本発明では、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ，Ｖｏｌ．３４，３５５３〜３５６２頁に記載の表１に記載されているＥｓ（Ｔａｆｔ）値であり、これに準拠した方法で測定された値をも含む。この値は、メチル基の値が０．０であり、例えば、水素原子が１．２４、エチル基が−０．０７、ｎ−プロピル基が−０．０７、イソプロピル基が−０．４７、ｎ−ブチル基が−０．３９、ｓｅｃ−ブチル基が−１．１３、ｉ−ブチル基が−０．９３、ｔ−ブチル基が−１．５４、シクロペンチル基が−０．５１、シクロヘキシル基が−０．７９である。また、Ｅｓ（Ｔａｆｔ）値の実測値がない場合でも、上記文献に記載のＥｓ’値でエチル基よりも立体的な嵩高さが高いと推定できる場合も含む。
本発明においては、条件１を満たす置換基を有している場合、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７〜−３．００の置換基であることが好ましく、−０．３〜−１．５０の置換基であることがより好ましい。
同様に、条件２を満たす置換基を有している場合、各置換基は、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０〜−３．００の置換基であることが好ましく、０〜−１．００の置換基であることがより好ましい。
同様に、条件２を満たす置換基を有している場合、各置換基は、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０〜−３．００の置換基であることが好ましく、０〜−１．００の置換基であることがより好ましい。
＜置換基＞
Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基としては、例えば、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6、および、−ＳＲ5（ただし、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）などが挙げられる。
Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基としては、例えば、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6、および、−ＳＲ5（ただし、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。）などが挙げられる。
炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基としては、炭素数１〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる。
炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基、メチルシクロヘキシル基、エチルシクロヘキシル基等の単環式飽和炭化水素基；シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロオクタジエニル基、シクロデカジエン等の単環式不飽和炭化水素基；ビシクロ［２．２．１］ヘプチル基、ビシクロ［２．２．２］オクチル基、トリシクロ［５．２．１．０２，６］デシル基、トリシクロ［３．３．１．１３，７］デシル基、テトラシクロ［６．２．１．１３，６．０２，７］ドデシル基、アダマンチル基等の多環式飽和炭化水素基；等が挙げられる。
炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基（特にフェニル基）が好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子、臭素原子であるのが好ましい。
一方、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基などが挙げられる。
これらの置換基のうち、原料入手の観点から、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基であることが好ましい。
なお、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基のうち、上述した条件１を満たす観点においては、炭素数２〜２０の１価の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数２〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数２〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
なお、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基のうち、上述した条件１を満たす観点においては、炭素数２〜２０の１価の脂肪族炭化水素基であることが好ましく、炭素数２〜１５のアルキル基が好ましく、炭素数２〜８のアルキル基がより好ましく、具体的には、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基（１，１−ジメチルプロピル基）、ｔｅｒｔ−ブチル基、１，１−ジメチル−３，３−ジメチル−ブチル基が更に好ましく、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基が特に好ましい。
本発明においては、上述した置換基を有するヒドロキシ化合物が、芳香環と芳香環を構成する炭素原子に結合したヒドロキシ基とを有する芳香族ヒドロキシ化合物であることが好ましい。
ここで、芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；等が挙げられる。
ここで、芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；等が挙げられる。
また、本発明においては、上述した置換基を有するヒドロキシ化合物が、フェノール化合物であることがより好ましい。
上記フェノール化合物としては、具体的には、例えば、上述した条件２を満たす置換基を有する下記式（Ｐｈ−１）〜（Ｐｈ−４）で表される化合物が挙げられる。
ここで、上記式（Ｐｈ−１）〜（Ｐｈ−４）中、上述した置換基としてのＸ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4は、それぞれ独立に、炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＣＯ2Ｒ4、−ＮＲ5Ｒ6またはＳＲ5を表し、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4としては、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基として上述したものが挙げられる。
なお、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3およびＸ4としては、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基として上述したものが挙げられる。
また、上記フェノール化合物の他の具体例としては、下記式（Ｐｈ−５）〜（Ｐｈ−８）で表される化合物が挙げられる。
上記式（Ｐｈ−５）〜（Ｐｈ−８）中、Ｑ１は、ＮまたはＣＨを表し、Ｑ２は、−Ｓ−、−Ｏ−、または−ＮＲ１１−を表し、Ｒ１１は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。なお、上記芳香族炭化水素基および上記芳香族複素環基は置換基を有していてもよい。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３または−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。なお、上記式（Ｐｈ−５）および（Ｐｈ−６）中、Ｚ１およびＺ２は、いずれか１つ以上が水素原子以外の置換基を表し、上記式（Ｐｈ−７）および（Ｐｈ−８）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、いずれか１つ以上が水素原子以外の置換基を表し、これらの具体例としては、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基として上述したものから、上述した条件１または２を満たすように適宜選択したものが挙げられる。
Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表し、
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子（好ましくは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が挙げられる（ここでＲ’は置換基を表す））を表し、
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、好ましくは、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基が挙げられ、
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、この有機基の好適態様は、上記Ａｘの有機基の好適態様と同じであり、
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
Ｙ１は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２の芳香族複素環基を表す。なお、上記芳香族炭化水素基および上記芳香族複素環基は置換基を有していてもよい。
Ｚ１、Ｚ２およびＺ３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ１２Ｒ１３または−ＳＲ１２を表し、Ｚ１およびＺ２は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ１２およびＲ１３はそれぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。なお、上記式（Ｐｈ−５）および（Ｐｈ−６）中、Ｚ１およびＺ２は、いずれか１つ以上が水素原子以外の置換基を表し、上記式（Ｐｈ−７）および（Ｐｈ−８）中、Ｚ１、Ｚ２およびＺ３は、いずれか１つ以上が水素原子以外の置換基を表し、これらの具体例としては、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基として上述したものから、上述した条件１または２を満たすように適宜選択したものが挙げられる。
Ａ１およびＡ２はそれぞれ独立に、−Ｏ−、−ＮＲ２１−、−Ｓ−および−ＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ２１は、水素原子または置換基を表し、
Ｘは、水素原子または置換基が結合していてもよい第１４族〜第１６族の非金属原子（好ましくは、＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’、＝Ｃ(Ｒ’)Ｒ’が挙げられる（ここでＲ’は置換基を表す））を表し、
Ａｘは、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、好ましくは、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルキル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基；芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜２０のアルケニル基が挙げられ、
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、この有機基の好適態様は、上記Ａｘの有機基の好適態様と同じであり、
ＡｘおよびＡｙにおける芳香環はそれぞれ、置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ３は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
なお、置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基、またはこれらを組み合わせた基等が挙げられる。
〔カルボン酸化合物〕
本発明の製造方法で用いるカルボン酸化合物は、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物である。
ここで、「被求核付加構造」とは、求核剤の付加反応または置換反応を受けて、新たな共有結合を生成し得る構造をいう。
被求核付加構造としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基などのα，β−不飽和カルボニル基；ハロゲン化アルキル；スルホン酸エステル；等が挙げられる。
本発明の製造方法で用いるカルボン酸化合物は、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物である。
ここで、「被求核付加構造」とは、求核剤の付加反応または置換反応を受けて、新たな共有結合を生成し得る構造をいう。
被求核付加構造としては、具体的には、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基などのα，β−不飽和カルボニル基；ハロゲン化アルキル；スルホン酸エステル；等が挙げられる。
本発明においては、カルボン酸化合物が有する被求核付加構造が、アクリロイル基またはメタクリロイル基（以下、「（メタ）アクリロイル基」とも略す。）であることが好ましい。
（メタ）アクリロイル基を有するカルボン酸化合物としては、例えば、下記式（Ｉａ）で表される化合物が挙げられる。なお、下記式（Ｉａ）中、Ｒ1が（メタ）アクリロイル基を表す。
ここで、上記式（Ｉａ）中、ｍは、０〜２の整数を表す。なお、ｍの数によって複数となるＺ1およびＬ1は、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、ｍは１であるのが好ましい。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、ｍは１であるのが好ましい。
また、上記式（Ｉａ）中、Ｚ1は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表し、中でも、置換基を有していてもよいアリーレン基または置換基を有していてもよいヘテロアリーレン基を表すことが好ましい。
上記アリーレン基は、炭素数６〜２０のアリーレン基であるのが好ましく、炭素数６〜１０のアリーレン基であるのがより好ましい。このようなアリーレン基としては、具体的には、例えば、１，４−フェニレン基、ナフタレン−２，６−ジイル基、テトラヒドロナフタレン−２，６−ジイル基などが挙げられ、中でも、１，４−フェニレン基が好ましい。
また、上記ヘテロアリーレン基は、炭素数２〜９のヘテロアリーレン基であるのが好ましい。このようなヘテロアリーレン基としては、具体的には、例えば、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、チオフェン環、フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、および、これらが縮環して形成される縮環からなる群から選択されるいずれかの環構造を構成する２個の炭素原子から水素をそれぞれ１個ずつ除いて得られる基などが挙げられる。
また、上記ヘテロアリーレン基は、炭素数２〜９のヘテロアリーレン基であるのが好ましい。このようなヘテロアリーレン基としては、具体的には、例えば、ピリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ピリミジン環、ピラジン環、チオフェン環、フラン環、オキサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、オキサジアゾール環、チアジアゾール環、トリアゾール環、および、これらが縮環して形成される縮環からなる群から選択されるいずれかの環構造を構成する２個の炭素原子から水素をそれぞれ１個ずつ除いて得られる基などが挙げられる。
また、Ｚ1が示すトランス−１，４−シクロヘキシレン基、アリーレン基またはヘテロアリーレン基が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などが挙げられる。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、メチル基またはエチル基であるのが更に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが更に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
アルキル基としては、例えば、炭素数１〜１８の直鎖状、分岐鎖状または環状のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等）がより好ましく、メチル基またはエチル基であるのが更に好ましい。
アルコキシ基としては、例えば、炭素数１〜１８のアルコキシ基が好ましく、炭素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−ブトキシ基、メトキシエトキシ基等）がより好ましく、メトキシ基またはエトキシ基であるのが更に好ましい。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、中でも、フッ素原子、塩素原子であるのが好ましい。
本発明においては、ハライド化し、上述したヒロドキシ化合物と反応（エステル化）した後に液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉａ）中のＺ1が、置換基を有していてもよいアリーレン基であるのが好ましく、いずれも置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基であるのがより好ましい。
また、上記式（Ｉａ）中、Ｌ1は、単結合、−Ｏ−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−（ＣＨ2）2ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ2）2−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（Ｒ3）−、−Ｎ（Ｒ3）Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＳＣ（＝Ｏ）−、−ＣＨ2Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、および、−Ｎ＝Ｎ−からなる群から選択されるいずれか連結基を表し、Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、または、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
Ｒ3が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ3が示すアリール基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基が好ましい。
Ｒ3が示すアルキル基としては、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられ、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましく、炭素数１〜８のアルキル基がより好ましい。
また、Ｒ3が示すアリール基としては、具体的には、例えば、フェニル基、２，６−ジエチルフェニル基、ナフチル基、ビフェニル基などが挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基が好ましい。
本発明においては、溶解性に優れ、製造適性が向上する理由から、上記式（Ｉａ）中のＬ1が、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）−であるのが好ましい。
また、上記式（Ｉａ）中、Ｓｐ1は、単結合、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基、および、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、からなる群から選択されるいずれか連結基を表す。
Ｓｐ1が示す炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基（置換前のアルキレン基も含む。）としては、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。
Ｓｐ1が示す炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基（置換前のアルキレン基も含む。）としては、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、具体的には、ペンチレン基、ヘキシレン基、オクチレン基、デシレン基等が挙げられる。
本発明においては、ハライド化し、上述したヒロドキシ化合物と反応（エステル化）した後に液晶性を発現する理由から、上記式（Ｉａ）中のＳｐ1が、炭素数１〜２０の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ3）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基（連結基）であるのがより好ましく、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個または２個が−ＯＣ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換され、かつ、炭素数５〜１５の直鎖状もしくは分岐鎖状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個が−Ｏ−で置換された基（連結基）であるのが更に好ましい。
また、（メタ）アクリロイル基を有する他のカルボン酸化合物としては、例えば、下記式（ＩＩａ）で表される化合物が挙げられる。なお、下記式（ＩＩａ）中、Ｑが（メタ）アクリロイル基を表す。
ここで、上記式（ＩＩａ）中、Ｌ5は、単結合、−ＣＯＯ−、または、−ＯＣＯ−を表し、Ａは、炭素数６以上の芳香環、または、炭素数６以上のシクロアルキレン環を表す。
また、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表す。
また、ｒは、０〜２の整数を表し、ｒの数によって複数となるＡおよびＬ5は、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
また、Ｓｐ3は、単結合、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基、または、炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を構成する−ＣＨ2−の１個以上が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ）−、もしくは、−ＣＯ−に置換された２価の連結基を表す。
また、ｒは、０〜２の整数を表し、ｒの数によって複数となるＡおよびＬ5は、いずれも、互いに同一であっても異なっていてもよい。
上記式（ＩＩａ）中、Ａが示す炭素数６以上の芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナンスロリン環などの芳香族炭化水素環；フラン環、ピロール環、チオフェン環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環などの芳香族複素環；等が挙げられ、なかでも、ベンゼン環（例えば、１，４−フェニル基など）が好ましい。同様に、上記式（ＩＩａ）中、Ａが示す炭素数６以上のシクロアルキレン環としては、例えば、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環などが挙げられ、なかでも、シクロヘキサン環（例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基など）が好ましい。
また、上記式（ＩＩａ）中、Ｓｐ3が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が好適に挙げられる。
また、上記式（ＩＩａ）中、Ｓｐ3が示す炭素数１〜１２の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基等が好適に挙げられる。
〔ハライド工程〕
本発明の製造方法が有するハライド工程は、含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、上述したカルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換する工程である。
本発明の製造方法が有するハライド工程は、含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、上述したカルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換する工程である。
＜含窒素溶媒＞
含窒素溶媒は特に限定されず、従来公知の含窒素溶媒を用いることができる。
本発明においては、溶解性や安定性に優れる理由から、含窒素溶媒としてアミド系溶媒を用いることが好ましい。
アミド系溶媒としては、具体的には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピ口リドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、ヘキサメチルリン酸卜リアミド、および、ε−カプロラクタム等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
含窒素溶媒は特に限定されず、従来公知の含窒素溶媒を用いることができる。
本発明においては、溶解性や安定性に優れる理由から、含窒素溶媒としてアミド系溶媒を用いることが好ましい。
アミド系溶媒としては、具体的には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピ口リドン（ＮＭＰ）、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡＣ）、ヘキサメチルリン酸卜リアミド、および、ε−カプロラクタム等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
＜ハロゲン化剤＞
ハロゲン化剤としては、具体的には、例えば、塩化チオニル、塩化オキサリルおよびホスゲン等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明においては、取り扱い性に優れる理由から、ハロゲン化剤として塩化チオニルを用いることが好ましい。
ハロゲン化剤としては、具体的には、例えば、塩化チオニル、塩化オキサリルおよびホスゲン等が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明においては、取り扱い性に優れる理由から、ハロゲン化剤として塩化チオニルを用いることが好ましい。
ハライド工程において、ハロゲン化剤の添加量（複数種類を混合する場合はその総添加量）は、反応液中のカルボン酸化合物に対して、０．８〜２．２０モル等量であることが好ましく、０．９０〜１．５０モル等量であることがより好ましく、０．９５〜１．２０モル等量であることが更に好ましい。
ハライド工程におけるハロゲン化剤とカルボン酸化合物との反応は、上述した含窒素溶媒の存在下、−２０〜８０℃で行われることが好ましく、−１０〜６０℃で行われることがより好ましく、０〜４０℃で行われることが更に好ましい。
また、ハロゲン化剤とカルボン酸化合物との反応は、１分〜１０時間行われることが好ましく、１０分〜５時間行われることがより好ましく、２０分〜３時間行われることが更に好ましい。
また、ハロゲン化剤とカルボン酸化合物との反応は、撹拌しながら行われることが好ましい。
また、ハロゲン化剤とカルボン酸化合物との反応は、１分〜１０時間行われることが好ましく、１０分〜５時間行われることがより好ましく、２０分〜３時間行われることが更に好ましい。
また、ハロゲン化剤とカルボン酸化合物との反応は、撹拌しながら行われることが好ましい。
〔エステル化工程〕
本発明の製造方法が有するエステル化工程は、上述したハライド工程後に、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａ（酸解離定数）がアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、上述したハライド工程で生成したカルボン酸ハライド化合物と、上述したヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得る工程である。
ここで、ｐＫａとは、水溶液中でのｐＫａを意味し、例えば、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載のものであり、この値が低いほど酸強度が大きいことを示している。水溶液中でのｐＫａは、具体的には、無限希釈水溶液を用い、２５℃での酸解離定数を測定することにより実測することができ、また、下記ソフトウェアパッケージ１を用いて、ハメットの置換基定数及び公知文献値のデータベースに基づいた値を、計算により求めることもできる。本明細書中に記載したｐＫａの値は、全て、このソフトウェアパッケージを用いて計算により求めた値を示している。
＜ソフトウェアパッケージ１＞
Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V8.14 for Solaris (1994-2007 ACD/Labs)。
本発明の製造方法が有するエステル化工程は、上述したハライド工程後に、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａ（酸解離定数）がアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、上述したハライド工程で生成したカルボン酸ハライド化合物と、上述したヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得る工程である。
ここで、ｐＫａとは、水溶液中でのｐＫａを意味し、例えば、化学便覧（ＩＩ）（改訂４版、１９９３年、日本化学会編、丸善株式会社）に記載のものであり、この値が低いほど酸強度が大きいことを示している。水溶液中でのｐＫａは、具体的には、無限希釈水溶液を用い、２５℃での酸解離定数を測定することにより実測することができ、また、下記ソフトウェアパッケージ１を用いて、ハメットの置換基定数及び公知文献値のデータベースに基づいた値を、計算により求めることもできる。本明細書中に記載したｐＫａの値は、全て、このソフトウェアパッケージを用いて計算により求めた値を示している。
＜ソフトウェアパッケージ１＞
Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V8.14 for Solaris (1994-2007 ACD/Labs)。
＜アシル化触媒＞
アシル化触媒としては、具体的には、例えば、ピリジン〔ｐＫａ（共役酸）：５．２〕、２−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：６．０〕、３−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：５．５〕、４−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：５．９〕、２，４−ルチジン〔ｐＫａ（共役酸）：６．６〕、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）〔ｐＫａ（共役酸）：９．５〕、４−ピロリジノピリジン〔ｐＫａ（共役酸）：９．６〕、９−アザジュロリジン〔ｐＫａ（共役酸）：１０．１〕などのピリジン類；イミダゾール〔ｐＫａ（共役酸）：７．０〕、Ｎ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）〔ｐＫａ（共役酸）：７．０〕などのイミダゾール類；等が挙げられる。
これらのうち、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、および、Ｎ−メチルイミダゾールが好ましい。
アシル化触媒としては、具体的には、例えば、ピリジン〔ｐＫａ（共役酸）：５．２〕、２−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：６．０〕、３−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：５．５〕、４−ピコリン〔ｐＫａ（共役酸）：５．９〕、２，４−ルチジン〔ｐＫａ（共役酸）：６．６〕、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）〔ｐＫａ（共役酸）：９．５〕、４−ピロリジノピリジン〔ｐＫａ（共役酸）：９．６〕、９−アザジュロリジン〔ｐＫａ（共役酸）：１０．１〕などのピリジン類；イミダゾール〔ｐＫａ（共役酸）：７．０〕、Ｎ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）〔ｐＫａ（共役酸）：７．０〕などのイミダゾール類；等が挙げられる。
これらのうち、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン、および、Ｎ−メチルイミダゾールが好ましい。
＜塩基＞
塩基としては、具体的には、例えば、トリエチルアミン（ＴＥＡ）〔ｐＫａ（共役酸）：１０．６〕、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）〔ｐＫａ（共役酸）：１１．０〕、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）〔ｐＫａ（共役酸）：１２．５〕、Ｎ−メチルモルホリン〔ｐＫａ（共役酸）：７．４〕、トリブチルアミン〔ｐＫａ（共役酸）：１０．０〕、Ｎ−メチルピペリジン〔ｐＫａ（共役酸）：９．９〕、Ｎ−ブチルジメチルアミン〔ｐＫａ（共役酸）：９．８〕等が挙げられる。
塩基としては、具体的には、例えば、トリエチルアミン（ＴＥＡ）〔ｐＫａ（共役酸）：１０．６〕、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）〔ｐＫａ（共役酸）：１１．０〕、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）〔ｐＫａ（共役酸）：１２．５〕、Ｎ−メチルモルホリン〔ｐＫａ（共役酸）：７．４〕、トリブチルアミン〔ｐＫａ（共役酸）：１０．０〕、Ｎ−メチルピペリジン〔ｐＫａ（共役酸）：９．９〕、Ｎ−ブチルジメチルアミン〔ｐＫａ（共役酸）：９．８〕等が挙げられる。
本発明においては、上述したアシル化触媒および塩基の併用に関して、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを組み合わせて用いる。
これらの組み合わせとして、アシル化促進剤の求核力が弱すぎず、かつ、塩基が強すぎない理由から、塩基が、トリエチルアミンおよび／またはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンであり、かつ、アシル化触媒が、Ｎ−メチルイミダゾールである態様が好ましい。
これらの組み合わせとして、アシル化促進剤の求核力が弱すぎず、かつ、塩基が強すぎない理由から、塩基が、トリエチルアミンおよび／またはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンであり、かつ、アシル化触媒が、Ｎ−メチルイミダゾールである態様が好ましい。
エステル化工程において、アシル化触媒の添加量（複数種類を混合する場合はその総添加量）は、反応性を確保しつつ、製造コストをできるだけ抑える理由から、上述した置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量で０．５〜３．０となる量が好ましく、０．５〜２．５となる量がより好ましく、０．７〜２．０となる量が更に好ましい。
また、塩基の添加量（複数種類を混合する場合はその総添加量）は、反応性を確保しつつ、製造コストをできるだけ抑える理由から、カルボン酸ハライド化合物に対する塩基のモル等量で１．８〜４．０等量となる量が好ましく、２．０〜３．５等量となる量がより好ましく、２．０〜３．０等量となる量が更に好ましい。
エステル化工程におけるカルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物との反応は、−１０〜４０℃で行われることが好ましく、−５〜３０℃で行われることがより好ましく、０〜２０℃で行われることが更に好ましい。
また、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物との反応は、１０分〜２４時間行われることが好ましく、１時間〜１０時間行われることがより好ましく、１時間〜８時間行われることが更に好ましい。
また、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物との反応は、撹拌しながら行われることが好ましい。
また、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物との反応は、１０分〜２４時間行われることが好ましく、１時間〜１０時間行われることがより好ましく、１時間〜８時間行われることが更に好ましい。
また、カルボン酸ハライド化合物とヒドロキシ化合物との反応は、撹拌しながら行われることが好ましい。
本発明の製造方法で得られる被求核付加構造を有するエステル化合物としては、上述したヒドロキシ化合物およびカルボン酸化合物として記載した原料を適宜選択して用いて得られるものが挙げられるが、上述した式（Ｐｈ−１）〜（Ｐｈ−４）で表される化合物（ヒドロキシ化合物）と、上記式（Ｉａ）で表されるカルボン酸化合物とを用いた場合には、例えば、下記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１８）で表される化合物等が挙げられる。
ここで、上記式（Ｉ−１）〜（Ｉ−１８）で示すＲには、Ｒに隣接する炭素原子との結合を含めて表記している。そのため、例えば、上記式（Ｉ−１）で表される化合物の構造は以下の通りとなる。
また、本発明の製造方法で得られる被求核付加構造を有するエステル化合物の他の例としては、上述した式（Ｐｈ−５）〜（Ｐｈ−８）で表される化合物（ヒドロキシ化合物）と、上記式（ＩＩａ）で表されるカルボン酸化合物とを用いた場合には、例えば、下記式で表される液晶性化合物が挙げられる。なお、下記式中の１，４−シクロヘキシレン基は、いずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基であり、Ｚ１およびＺ２は、いずれか１つ以上が水素原子以外の置換基であってＴａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を表す。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
〔カルボン酸化合物Ａの合成〕
特開２０１６−０８１０３５号公報の［０１２２］〜［０１２６］段落に記載された方法に従って下記スキームの反応を行い、下記式（Ｉ−４Ｃ）で表されるカルボン酸化合物Ａを合成した。
特開２０１６−０８１０３５号公報の［０１２２］〜［０１２６］段落に記載された方法に従って下記スキームの反応を行い、下記式（Ｉ−４Ｃ）で表されるカルボン酸化合物Ａを合成した。
〔実施例１〕
被求核付加構造としてアクリロイル基を有するカルボン酸化合物Ａ（２０．３４ｇ，純度７３．７６％，２９．７ｍｍｏｌ）、酢酸エチル８４ｍＬ、アミド系溶媒としてのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２１ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール９０ｍｇを室温（２５℃）にて混合し、内温を５℃まで冷却した。
次いで、混合物に、ハロゲン化剤としての塩化チオニル（３．４６ｇ，２９．１ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、５℃で１時間撹拌することにより、カルボン酸化合物Ａのハライド化合物を調製した。
次いで、置換基を有するヒドロキシ化合物としてのトリメチルハイドロキノン（１．９２ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１５ｍＬ溶液を加え、アシル化触媒としてのＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（４６２ｍｇ，３．７８ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩基としてのジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）（８．８６ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、室温にて４時間撹拌することによりエステル化反応を行った。
その後、水６５０ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬを加えて反応を停止し、分液を行った。
分液で回収した有機層を高速液体クロマトグラフィー（high performance liquid chromatography：ＨＰＬＣ）〔東ソーＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ−８０ＴＳ、２５４ｎｍの吸収面積％〕にて分析を行い、原料フェノールの残存割合、ならびに、下記式（Ｉ−４）で表される目的物（ジエステル体）および副生成物（アシル化付加体、モノエステル体および亜硫酸エステル）の生成割合を確認した。結果を下記表１に示す。
なお、置換基を有するヒドロキシ化合物としてのトリメチルハイドロキノンは、２個のヒドロキシ基と、３個のメチル基（Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値：０．００）を有する化合物である。
被求核付加構造としてアクリロイル基を有するカルボン酸化合物Ａ（２０．３４ｇ，純度７３．７６％，２９．７ｍｍｏｌ）、酢酸エチル８４ｍＬ、アミド系溶媒としてのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２１ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール９０ｍｇを室温（２５℃）にて混合し、内温を５℃まで冷却した。
次いで、混合物に、ハロゲン化剤としての塩化チオニル（３．４６ｇ，２９．１ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、５℃で１時間撹拌することにより、カルボン酸化合物Ａのハライド化合物を調製した。
次いで、置換基を有するヒドロキシ化合物としてのトリメチルハイドロキノン（１．９２ｇ，１２．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１５ｍＬ溶液を加え、アシル化触媒としてのＮ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）（４６２ｍｇ，３．７８ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩基としてのジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）（８．８６ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、室温にて４時間撹拌することによりエステル化反応を行った。
その後、水６５０ｍＬ、酢酸エチル８００ｍＬを加えて反応を停止し、分液を行った。
分液で回収した有機層を高速液体クロマトグラフィー（high performance liquid chromatography：ＨＰＬＣ）〔東ソーＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ−８０ＴＳ、２５４ｎｍの吸収面積％〕にて分析を行い、原料フェノールの残存割合、ならびに、下記式（Ｉ−４）で表される目的物（ジエステル体）および副生成物（アシル化付加体、モノエステル体および亜硫酸エステル）の生成割合を確認した。結果を下記表１に示す。
なお、置換基を有するヒドロキシ化合物としてのトリメチルハイドロキノンは、２個のヒドロキシ基と、３個のメチル基（Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値：０．００）を有する化合物である。
〔実施例２〕
アシル化触媒として、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）に代えてＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）（３１０ｍｇ，３．７８ｍｍｏｌ）を用い、また、塩基として、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）に代えてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７．５２ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
アシル化触媒として、Ｎ，Ｎ−ジメチル−４−アミノピリジン（ＤＭＡＰ）に代えてＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）（３１０ｍｇ，３．７８ｍｍｏｌ）を用い、また、塩基として、ジアザビシクロウンデセン（ＤＢＵ）に代えてＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（７．５２ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
〔実施例３〕
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を１．０２ｇ（１２．６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を１．０２ｇ（１２．６ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
〔実施例４〕
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を１７５ｍｇ（２．１４ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を１７５ｍｇ（２．１４ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
〔実施例５〕
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を２．０７ｇ（２５．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）の添加量を２．０７ｇ（２５．２ｍｍｏｌ）に変更した以外は、実施例２と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
〔実施例６〕
塩基として、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）に代えてトリエチルアミン（５．８９ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例３と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
塩基として、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）に代えてトリエチルアミン（５．８９ｇ，５８．２ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例３と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
〔比較例１〜５〕
アシル化触媒の種類およびモル等量（置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量）、ならびに、塩基の種類を下記表１に示すものに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
アシル化触媒の種類およびモル等量（置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量）、ならびに、塩基の種類を下記表１に示すものに変更した以外は、実施例１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表１に示す。
表１に示す結果から、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５よりも小さい塩基とを用いてエステル化工程を行った場合は、目的物（ジエステル体）の生成割合が低く、副生成物（特に、アシル化触媒付加体または亜硫酸エステル）の生成割合が高くなることが分かった（比較例１〜４）。
また、アシル化触媒を用いなかった場合には、エステル化の反応が進行しないことが分かった（比較例５）。
これに対し、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いてエステル化工程を行った場合は、副生成物の生成割合を低く抑えることができ、目的物（ジエステル体）の生成割合が高くなることが分かった（実施例１〜６）。
特に、実施例２〜５の対比から、エステル化工程において、カルボン酸ハライド化合物に対するアシル化触媒のモル等量が０．５〜３．０であると、副生成物（特に、亜硫酸エステル）の生成割合を低く抑えることができることが分かった。
また、アシル化触媒を用いなかった場合には、エステル化の反応が進行しないことが分かった（比較例５）。
これに対し、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いてエステル化工程を行った場合は、副生成物の生成割合を低く抑えることができ、目的物（ジエステル体）の生成割合が高くなることが分かった（実施例１〜６）。
特に、実施例２〜５の対比から、エステル化工程において、カルボン酸ハライド化合物に対するアシル化触媒のモル等量が０．５〜３．０であると、副生成物（特に、亜硫酸エステル）の生成割合を低く抑えることができることが分かった。
〔カルボン酸化合物Ｂの合成〕
特許第４３９７５５０号の［００８５］〜［００８７］段落に記載された方法に従って、下記式で表されるカルボン酸化合物Ｂを合成した。
特許第４３９７５５０号の［００８５］〜［００８７］段落に記載された方法に従って、下記式で表されるカルボン酸化合物Ｂを合成した。
〔実施例１１〕
被求核付加構造としてアクリロイル基を有するカルボン酸化合物Ｂ（５．２３ｇ，１９．８ｍｍｏｌ）、酢酸エチル５６ｍＬ、アミド系溶媒としてのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１４ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６０ｍｇを室温（２５℃）にて混合し、内温を５℃まで冷却した。
次いで、混合物に、ハロゲン化剤としての塩化チオニル（２．３１ｇ，１９．４ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、５℃で１時間撹拌することにより、カルボン酸化合物Ｂのハライド化合物を調製した。
次いで、置換基を有するヒドロキシ化合物としての２，６−ジメチルフェノール（２．０５ｇ，１６．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１０ｍＬ溶液を加え、アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）（１．３８ｍｇ，１６．８ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩基としてのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５．０１ｇ，３８．７ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、室温にて４時間撹拌することによりエステル化反応を行った。
その後、水５０ｍＬ、酢酸エチル５０ｍＬを加えて反応を停止し、分液を行った。
分液で回収した有機層を高速液体クロマトグラフィー（東ソーＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ−８０ＴＳ、２５４ｎｍの吸収面積％）にて分析を行い、原料フェノールの残存割合、ならびに、下記式で表される目的物および副生成物（アシル化付加体および亜硫酸エステル）の生成割合を確認した。結果を下記表２に示す。
被求核付加構造としてアクリロイル基を有するカルボン酸化合物Ｂ（５．２３ｇ，１９．８ｍｍｏｌ）、酢酸エチル５６ｍＬ、アミド系溶媒としてのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１４ｍＬ、および、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール６０ｍｇを室温（２５℃）にて混合し、内温を５℃まで冷却した。
次いで、混合物に、ハロゲン化剤としての塩化チオニル（２．３１ｇ，１９．４ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、５℃で１時間撹拌することにより、カルボン酸化合物Ｂのハライド化合物を調製した。
次いで、置換基を有するヒドロキシ化合物としての２，６−ジメチルフェノール（２．０５ｇ，１６．８ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン１０ｍＬ溶液を加え、アシル化触媒としてのＮ−メチルイミダゾール（ＮＭＩ）（１．３８ｍｇ，１６．８ｍｍｏｌ）を加えた。その後、塩基としてのＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン（ＤＩＰＥＡ）（５．０１ｇ，３８．７ｍｍｏｌ）を内温が１０℃以上に上昇しないように滴下し、室温にて４時間撹拌することによりエステル化反応を行った。
その後、水５０ｍＬ、酢酸エチル５０ｍＬを加えて反応を停止し、分液を行った。
分液で回収した有機層を高速液体クロマトグラフィー（東ソーＴＳＫｇｅｌ ＯＤＳ−８０ＴＳ、２５４ｎｍの吸収面積％）にて分析を行い、原料フェノールの残存割合、ならびに、下記式で表される目的物および副生成物（アシル化付加体および亜硫酸エステル）の生成割合を確認した。結果を下記表２に示す。
〔実施例１２〜１６および参考例１７〕
ヒドロキシ化合物、カルボン酸化合物、アシル化触媒および塩基の種類を下記表２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表２に示す。
ヒドロキシ化合物、カルボン酸化合物、アシル化触媒および塩基の種類を下記表２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表２に示す。
〔比較例１１ＡおよびＢ、比較例１２〜１７〕
ヒドロキシ化合物、カルボン酸化合物、アシル化触媒の種類およびモル等量（置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量）を下記表２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表２に示す。
ヒドロキシ化合物、カルボン酸化合物、アシル化触媒の種類およびモル等量（置換基を有するヒドロキシ化合物に対するアシル化触媒のモル等量）を下記表２に示すものに変更した以外は、実施例１１と同様の方法で、エステル化合物を合成した。ＨＰＬＣの分析結果を下記表２に示す。
表２に示す結果から、同種のヒドロキシ化合物およびカルボン酸化合物を用いた実施例と比較例とを対比すると、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いてエステル化工程を行った場合には、いずれも目的物（ジエステル体）の生成割合が高くなり、かつ、副生成物（亜硫酸エステル）の生成割合が小さくなることが分かった。
また、このような効果は、参考例１７および比較例１７の結果、すなわち、ヒドロキシ化合物が有する置換基が上述した条件１および２を満たしていない２−メチルフェノールを用いた場合において、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５よりも小さい塩基とを用いてエステル化反応を行っても得られない効果であるため、意外な効果であると言える。
また、このような効果は、参考例１７および比較例１７の結果、すなわち、ヒドロキシ化合物が有する置換基が上述した条件１および２を満たしていない２−メチルフェノールを用いた場合において、アシル化触媒と、共役酸のｐＫａがアシル化触媒よりも１．５よりも小さい塩基とを用いてエステル化反応を行っても得られない効果であるため、意外な効果であると言える。
Claims (8)
- 置換基を有するヒドロキシ化合物と、分子内に１個以上の被求核付加構造を有するカルボン酸化合物とを用いて、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化合物の製造方法であって、
含窒素溶媒中、ハロゲン化剤を用いて、前記カルボン酸化合物をカルボン酸ハライド化合物に変換するハライド工程と、
アシル化触媒と、共役酸のｐＫａが前記アシル化触媒よりも１．５以上大きい塩基とを用いて、前記カルボン酸ハライド化合物と前記ヒドロキシ化合物とを反応させ、被求核付加構造を有するエステル化合物を得るエステル化工程とを有する、エステル化合物の製造方法。
ただし、前記ヒドロキシ化合物が有する前記置換基は、下記条件１または２を満たす。
条件１：前記ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が−０．０７以下となる置換基を１個有する
条件２：前記ヒドロキシ化合物が有しているヒドロキシ基が結合している炭素原子に隣接する炭素原子が、Ｔａｆｔの立体パラメーターＥｓ値が０．００以下の置換基を２個以上有する - 前記置換基を有するヒドロキシ化合物が、芳香環と前記芳香環を構成する炭素原子に結合したヒドロキシ基とを有する芳香族ヒドロキシ化合物である、請求項１に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記置換基を有するヒドロキシ化合物が、フェノール化合物である、請求項１または２に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記エステル化工程において、前記置換基を有するヒドロキシ化合物に対する前記アシル化触媒のモル等量が０．５〜３．０である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記カルボン酸化合物が有する前記被求核付加構造が、アクリロイル基またはメタクリロイル基である、請求項１〜４のいずれか１項に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記ハロゲン化剤が塩化チオニルである、請求項１〜５のいずれか１項に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記含窒素溶媒がアミド系溶媒である、請求項１〜６のいずれか１項に記載のエステル化合物の製造方法。
- 前記塩基が、トリエチルアミンおよび／またはＮ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミンであり、かつ、前記アシル化触媒が、Ｎ−メチルイミダゾールである、請求項１〜７のいずれか１項に記載のエステル化合物の製造方法。
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