JP2018006487A - 支持体分離方法、および基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明に係る支持体分離方法は、基板と、光を透過する支持体とを、光を吸収することにより変質する分離層を介して積層してなる積層体から、当該支持体を分離する支持体分離方法に関する。本発明に係る支持体分離方法は、上記積層体を、上記支持体側の面を上にして保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら、上記支持体を介して上記分離層に光を照射する光照射工程と、光照射工程後の上記基板を、上記保持治具を用いて搬送する搬送工程と、を包含している。
まず、クランプ3のクランプアーム31を開いて、クランプバー32を、パネル型積層体5に重ならない位置(位置A)に、移動させる。ここで、上記「パネル型積層体5に重ならない位置」とは、パネル型積層体5の上面側から見たときに、パネル型積層体5とクランプバー32とが重なって見えない位置(例えば、図1の(a)に示す位置)をいう。そして、パネル型積層体5を、パネル(支持体)51側の面を上にして、トレイ4を介して保持台1に載置する(図1の(a))。トレイ4は、吸着部2を囲うように保持台1に載置される。ここで、「吸着部2を囲うように」とは、保持台1にトレイ4を載置した状態で、トレイ4の上面側から見たときに、吸着部2が見えない状態をいう。
次に、クランプアーム31を閉じて、クランプバー32を、パネル型積層体5の上面(すなわち、パネル型積層体5の支持体側の面)に接する位置(位置B)に移動して、パネル型積層体5のパネル側の面を保持台1に向かって押圧する(図1の(b))。
クランプバー32がパネル型積層体5を押圧した状態を維持しながら、保持面1aに設けられた開口部(図示しない)に接続した吸引部22から気体を排気することにより、パネル型積層体5を、トレイ4の開口部(図示しない)を介して吸引する。これによって、パネル型積層体5が保持台1に吸着保持される(図1の(b))。尚、パネル型積層体5が保持台1に吸着保持された状態は、パネル型積層体5からパネル51が分離されるまで維持される。
次に、クランプ3のクランプアーム31を開いて、クランプバー32によるパネル型積層体5の押圧状態を解除する。さらに、クランプバー32を、パネル型積層体5に重ならない位置(位置A)に移動させる。そして、光照射部7から、パネル型積層体5の分離層の種類に応じて選択されたレーザ光Lを、パネル51を介して分離層52の全面に照射する(図1の(c))。これにより、分離層52を変質させて、パネル51と封止体基板54とを容易に分離可能な状態とすることができる。レーザ光の照射条件(レーザ出力、レーザ光の繰り返し周波数、レーザ光の走査速度等)は、分離層52の種類、分離層52の厚さ、および封止体基板54の種類等の条件に応じて適宜調整することができる。
次いで、クランプバー32を、パネル型積層体5に重ならない位置(位置A)に移動させた状態で、支持体保持部6を、吸着部61がパネル型積層体5の上面に当接する位置まで降下させて、パネル51を吸着保持する。そして、支持体保持部6を、鉛直方向(図1の(d)に示した矢印の方向)に上昇させることによって、パネル51を鉛直方向に引き上げる。これにより、パネル型積層体5からパネル51が分離される(図1の(d))。
パネル51が分離された封止体基板54は、トレイ4に載置された状態で支持体分離装置から搬出される。
以下に、支持体分離装置100の各構成について詳細に説明する。
図3は、支持体分離装置100が備えている保持台1に積層体5を保持した状態を説明する図であり、図3の(a)は、斜視図であり、図3の(b)は、側面図であり、図3の(c)は(b)の拡大図である。尚、説明の便宜上、図3では、保持台1以外の支持体分離装置100の構成についてはその図示を省略している。
保持台1の保持面1aには、積層体5を吸着するための吸着部2が設けられている。吸着部2は、保持面1aにおける積層体5の吸着に寄与する領域が意図される。上記「吸着に寄与する領域」とは、具体的には、積層体5を保持面1aに対して吸着させる力が及ぶ保持面1a上の領域をいう。例えば、積層体5と保持面1aとの間の気体(空気)を保持面1aに向かって吸引することによって、積層体5を保持面1aに対して吸着させる力を発生させることができ、この場合は、積層体5と保持面1aとの間で陰圧になっている領域が、上記「吸着に寄与する領域」となり、吸着部2に相当する。
支持体分離装置100は、押圧部として、一対のクランプ3を、保持台1の保持面1aに備えている。図3の(c)に示すように、クランプ3は、クランプアーム31と、クランプアーム31の先端に設けたクランプバー32とを有している。クランプ3は、保持台1に対して回動可能に設けられている。
図4の(a)に示すように、トレイ(保持治具)4は、積層体を吸引するための貫通孔である開口部41を備えている。トレイ4は、積層体の基板における素子が形成されていない領域に対応する位置に、開口部41を複数有していることが好ましい。これにより、積層体の基板における素子が形成されていない領域を吸着して積層体を保持することができるので、素子を損傷する、素子に吸着痕が残る等の不具合が生じない。
支持体分離装置100は、光照射部としてのレーザ照射部7を備えている。図1の(c)に示すように、レーザ照射部7は、光を照射する前における積層体5の分離層52に支持体51を介して光を照射し、分離層52を変質させる。
支持体保持部6は、光を照射した後の積層体5における支持体51を保持して分離するためのものである。支持体保持部6は、減圧部(図示しない)に連通している複数の吸着部61を備えており、吸着部61を介して支持体51を保持する。支持体保持部6は、支持体51の周縁部分を吸着するように構成されている。尚、支持体保持部6は、昇降部(図示しない)によって保持台1における積層体5を載置する面に対して垂直に昇降させることができる。
本発明の一実施形態に係る支持体分離方法を実行するための支持体分離装置としては、分離層に光を照射する光照射部を備えていなくてもよい。この場合、支持体分離装置の外部に設けた光照射装置を用いて積層体の分離層を変質させた後に、支持体分離装置にこの積層体を搬送して、積層体から支持体を分離してもよい。
本発明に係る支持体分離方法によって支持体を分離する対象となる積層体の一例として、PLP技術の一例である、ファンアウト型PLP技術によって製造されたパネル型の積層体(パネル型積層体)の構成の一例を、図5を参照して説明する。図5の(b)に示すように、パネル型積層体5は、支持体としてのパネル51上に、光を吸収することにより変質する分離層52と、接着層53と、封止体基板54とが、この順に形成されている。
支持体としてのパネル51は、封止体基板54をパネル51上に形成する場合、封止体基板54を搬送する場合等に、封止体基板54の各構成要素の破損または変形を防ぐために必要な強度を有していればよい。また、パネル51は、パネル51上に形成された分離層52を変質させることができる波長の光を透過させる材料によって形成されていればよい。
分離層52は、パネル51を介して照射される光を吸収することにより変質する層である。分離層52は、光を吸収する構造を有する材料のみから形成されていることが好ましいが、分離層の本質的な特性を損なわない範囲において、光を吸収する構造を有していない材料を添加して、分離層52を形成してもよい。
接着層53は、封止体基板54をパネル51上に固定するために用いられる。接着層53は、例えば、スピンコート、ディッピング、ローラーブレード、スプレー塗布、スリット塗布等の方法によって、分離層52上に接着剤を塗布することによって形成することができる。
封止体基板(基板)54は、素子55と、素子55を封止している封止材57と、素子55上に形成された再配線層56とを備えている。封止体基板54は、複数の素子55を備えており、このような封止体基板54をダイシングすることにより、複数の電子部品を得ることができる。
本発明に係る支持体分離方法によって支持体を分離する対象となる積層体は、基板と、光を透過する支持体とを、光を吸収することにより変質する分離層を介して積層してなる積層体であればよい。従って、図5に示した積層体のように、分離層52と基板54との間に接着層53を有している積層体のみならず、分離層と基板との間に接着層を有していない積層体もこのような積層体の範疇に含まれる。例えば、接着層を有していない積層体には、接着性を有している分離層を介して、基板と支持体とを貼り付けてなる積層体を挙げることができる。ここで、接着性を有している分離層には、例えば、硬化型樹脂または熱可塑性樹脂であって光吸収性を備えている樹脂を用いて形成される分離層、および、接着性を有している樹脂に光を吸収する材料を配合してなる分離層等を挙げることができる。硬化型樹脂または熱可塑性樹脂であって光吸収性を備えている樹脂を用いて形成される分離層には、例えば、ポリイミド樹脂を用いて形成される分離層を挙げることができる。また、接着性を有している樹脂に光を吸収する材料を配合してなる分離層には、例えば、アクリル系紫外線硬化型樹脂にカーボンブラック等を配合してなる分離層、および粘着性樹脂にグラスバブルスの赤外線吸収材料等を配合してなる分離層等を挙げることができる。尚、これら分離層も、接着性の有無によらず、光を吸収することで変質する分離層の範疇である。
本発明に係る基板処理方法は、上述した本発明に係る支持体分離方法によって積層体から分離した基板を、保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら洗浄する洗浄工程を包含している。
洗浄工程では、支持体が分離された基板を保持治具に載置した状態で、当該基板に残留している接着層と分離層とを除去する。例えば、有機溶剤を含んでいる洗浄液等によって接着層および分離層の残渣を除去する洗浄工程を行う。洗浄液としては、例えば、接着剤の希釈溶剤や、アルカリ性を示す溶剤(特に、アミン系化合物)等を用いることができるが、これに限定されない。これにより、単離された基板を得ることができる。洗浄工程では、基板の洗浄対象面の裏面への洗浄液の回り込みが無いように、支持体が分離された基板を、保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら洗浄することが好ましい。
ダイシング工程では、洗浄工程後の単離された基板を保持治具に載置した状態で、当該基板をダイシングする。
本発明を以下のように表現することもできる。
1a 保持面
2 吸着部
21 Oリング(吸着部材)
22 吸引部
3 クランプ(押圧部)
31 クランプアーム
32 クランプバー
4 保持治具
41 開口部
42 凸部
43 凹部
5 パネル型積層体(積層体)
51 パネル(支持体)
52 分離層
53 接着層
54 封止体基板(基板)
55 素子
56 再配線層
57 封止材
58 素子形成領域
6 支持体保持部
61 吸着部
7 レーザ照射部(光照射部)
100 支持体分離装置
Claims (10)
- 基板と、光を透過する支持体とを、光を吸収することにより変質する分離層を介して積層してなる積層体から、当該支持体を分離する支持体分離方法であって、
上記積層体を、上記支持体側の面を上にして保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら、上記支持体を介して上記分離層に光を照射する光照射工程と、
光照射工程後の上記基板を、上記保持治具を用いて搬送する搬送工程と、を包含していることを特徴とする、支持体分離方法。 - 上記光照射工程後の上記積層体を、上記支持体側の面を上にして保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら、当該積層体から上記支持体を分離する分離工程を包含しており、
上記搬送工程は、上記支持体が分離された後の基板を、上記保持治具を用いて搬送する工程であることを特徴とする、請求項1に記載の支持体分離方法。 - 上記積層体を、上記支持体側の面を上にして上記保持治具に載置する載置工程と、
上記保持治具に向かって上記積層体を押圧する押圧工程と、
上記積層体を、上記保持治具の開口部を介して吸引することで上記保持治具に吸着させる吸着工程と、をさらに包含していることを特徴とする、請求項1または2に記載の支持体分離方法。 - 上記基板の厚さが0.5μm以下であることを特徴とする、請求項1から3のいずれか1項に記載の支持体分離方法。
- 上記保持治具が、上記基板における素子が形成されていない領域に対応する位置に、上記開口部を複数有していることを特徴とする、請求項1から4のいずれか1項に記載の支持体分離方法。
- 上記保持治具の上記開口部が格子状に配置されていることを特徴とする、請求項5に記載の支持体分離方法。
- 上記保持治具が、上記基板における素子が形成されている領域に対応する位置に、凹部を有していることを特徴とする、請求項1から6のいずれか1項に記載の支持体分離方法。
- 上記保持治具における少なくとも一部の面がアルマイト処理されていることを特徴とする、請求項1から7のいずれか1項に記載の支持体分離方法。
- 請求項1から8のいずれか1項に記載の支持体分離方法によって積層体から分離した基板を、保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながら洗浄する洗浄工程を包含していることを特徴とする、基板処理方法。
- 上記洗浄工程後の基板を、保持治具の開口部を介して吸引することで保持しながらダイシングするダイシング工程をさらに包含していることを特徴とする、請求項9に記載の基板処理方法。
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