JP2017531691A - オレフィン類の酸化方法、反応装置及び反応系 - Google Patents
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- B01J8/00—Chemical or physical processes in general, conducted in the presence of fluids and solid particles; Apparatus for such processes
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Abstract
Description
本発明はオレフィン類の酸化方法に関して、特にオレフィン類の接触酸化によるエポキシド化合物の製造方法に関する。本発明はさらにオレフィン類の酸化用固定床反応装置及び反応系に関する。
エポキシド化合物例えば酸化プロピレンは、重要な酸素含有有機化合物である。酸化プロピレンの製造方法として、触媒(特にチタニウム珪酸塩分子篩)の存在で、プロピレンを酸化し酸化プロピレンを製造する方法は工業的に適用されている。
上記の技術問題を鑑みて、本発明は、触媒の寿命、特に一回反応での触媒寿命を延長する同時に、副反応を長時間を亘って抑えるオレフィン類の接触酸化方法を提供することを目的とする。
反応ストリームが上記第1〜第nの触媒床の層を通す見かけ速度をそれぞれv1〜vnとして、mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足することを特徴とするオレフィン類の酸化方法。
ただし、Am−1が第m−1の触媒床の層の平均横断面積で、Amが第mの触媒床の層の平均横断面積である。
ただし、Tm−1は第m−1の触媒床の層での反応温度(℃)であり、Tmは第mの触媒床の層での反応温度(℃)である。
ただし、Am−1が第m−1の触媒床の層の平均横断面積で、Amが第mの触媒床の層の平均横断面積である。
本発明のオレフィン類の酸化方法によれば、触媒の寿命、特に一回反応での触媒寿命を有効的に延長し、触媒の再生頻度を抑えることができ、さらに、生産性を高める一方、酸化反応の運転安定性を高めて、触媒の総使用寿命を延長することができる。
図1乃至図6は、反応器内の部材の多数の形態を模式的に例示する概略図である。図7は、反応器の漸縮ゾーンの一つの形態を模式的に例示する概略図である。図8は、反応流出物の導入支管の一つの形態を模式的に例示する概略図である。図9は、排気流れの導入支管、溶媒の導入支管又は不活性気体の導入支管の一つの形態を模式的に例示する概略図である。
1:供給口
2:出口
I:第1の触媒床の層
II:第2の触媒床の層
III:第3の触媒床の層
異なる触媒床の層の間の的空白区域:隔離部
3:反応ゾーン
A:反応物フィード
B:反応流出物
B1〜B4:反応流出物の導入支管
C:排気流れ、溶媒或いは不活性気体
C1〜C4:排気流れの導入支管、溶媒の導入支管或いは不活性気体の導入支管
矢印付き破線:反応ストリームの流れ方向。
以降、具体的な実施態様を参照して本発明をより詳細に記載する。ただし、本発明の保護の範囲は、これらの具体的な実施態様に限定されると解されるべきではなく、むしろ添付された請求の範囲によって決められるべきであることに注意すべきである。
本発明によれば、前記酸化剤は、オレフィン類を酸化するできる常用の各種の物質である。好ましくは、前記酸化剤は、過酸化物である。前記過酸化物は、分子中に−O−O−結合を有する化合物で、過酸化水素、有機過酸化物及び過酸から選ばれるものである。前記有機過酸化物は、過酸化水素分子中の一つ又は二つの水素原子が有機基で置換された物質である。前記過酸は、分子中に−O−O−結合を有する有機オキソ酸である。前記過酸化物の具体例として、過酸化水素、t−ブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、シクロヘキシルヒドロペルオキシド、過酢酸及びペルオキシプロピオン酸が挙げられるが、これらに限定されない。分離コストをさらに削減することから、好ましくは、前記酸化剤は過酸化水素である。前記過酸化水素はこの分野で従来使用される各形式の過酸化水素である。前記酸化剤は一種のみで使っていもよいし、二つ以上を併用してもよい。
以下、実施例を参照しながら、本発明を説明するが、本発明はこれらの実施例に何ら限定されない。
酸化剤の有効利用率=(反応で生成したエポキシドのモール数/反応に消耗した酸化剤のモール数)×100%;
エポキシド化合物への選択性=(反応で生成したエポキシドのモール数/反応に消耗したオレフィン類のモール数)×100%;
ギ酸メチルへの選択性=(反応で生成したギ酸メチルのモール数/反応に消耗したオレフィン類のモール数)×1000000;
アセトンへの選択性=(反応で生成したアセトンのモール数/反応に消耗したオレフィン類のモール数)×1000000。
直列した二つの小型の固定床反応器で反応を行った。各反応器に円形横断面を有する等直径の触媒床の層を設置し、液体フィードの流れ方向に、上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の内径と下流にある第2反応器での第2の触媒床の層の内径との比が2:1であった。第1の触媒床の層に中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩を充填し、第2の触媒床の層に成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1を充填した。中空構造を有するチタニウム珪酸塩分子篩とチタニウム珪酸塩分子篩TS−1とは重量比で2:1であった。
第2の触媒床の層に充填した成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1を等量の中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩に変更する以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層に充填した中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩を等量の成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1に変更する以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第2の触媒床の層に充填した成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1を等量の成型チタニウム珪酸塩分子篩Ti−MCM−41に変更する以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層に充填した中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩を等量の成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1に変更する以外、実施例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1及び中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩の充填量が変化しないで、第1の触媒床の層に成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1を充填し、第2の触媒床の層に中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩を充填した。それ以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第2反応器での第2の触媒床の層に充填した成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1を等量の成型チタニウム珪酸塩分子篩Ti−Betaに変更する以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が50℃で、第2の触媒床の層の反応温度が35℃であった。それ以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が35℃で、第2の触媒床の層の反応温度が50℃であった。それ以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が50℃で、第2の触媒床の層の反応温度が65℃であった。それ以外、実施例1と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層に充填した触媒の種類と充填量が変化しないで、第2の触媒床の層の内径を増大し、第1の触媒床の層の内径と第2の触媒床の層の内径と比が1:1であった。それ以外、実施例3と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層に充填した触媒の種類と充填量が変化しないで、第2の触媒床の層の内径を増大し、第1の触媒床の層の内径と第2の触媒床の層の内径と比が1:2であった。それ以外、実施例3と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
本実施例で、中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩(体積平均粒子径が400μmで、密度が0.71g/cm3)は、中空構造を有するチタニウム珪酸塩分子篩と接合剤としてのシリカを含み、中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩の総計量として、中空構造を有するチタニウム珪酸塩分子篩の含有量が85重量%で、シリカの含有量が15重量%であった。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層に充填した触媒の充填量が変化しないで、第2の触媒床の層の内径を増大し、第1の触媒床の層の平均横断面積と第2の触媒床の層の平均横断面積との比が2:1であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層に充填した触媒の充填量が変化しないで、第1の触媒床の層の内径を増大し、第1の触媒床の層の平均横断面積と第2の触媒床の層の平均横断面積と比が15:1であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層に充填した触媒の充填量が変化しないで、第2の触媒床の層の内径を増大し、第1の触媒床の層の平均横断面積と第2の触媒床の層の平均横断面積と比が3:2であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が40℃で、第2の触媒床の層の反応温度が30℃であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が30℃で、第2の触媒床の層の反応温度が40℃であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
第1の触媒床の層と第2の触媒床の層での触媒の反応温度を調節し、第1の触媒床の層の反応温度が40℃で、第2の触媒床の層の反応温度が60℃であった。それ以外、実施例11と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
本実施例で、中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩(体積平均粒子径が800μmで、密度が0.73g/cm3)は、中空構造を有するチタニウム珪酸塩分子篩と接合剤としてのシリカを含み、中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩の総計量として、中空構造を有するチタニウム珪酸塩分子篩の含有量が80重量%で、シリカの含有量が20重量%であった。
直列した三つの小型の固定床反応器で反応を行った。各反応器に円形横断面を有する等直径の触媒床の層を設置し、液体フィードの流れ方向に、上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の平均横断面積と、中流にある第2反応器での第2の触媒床の層の平均横断面積と、下流にある第三反応器での第三触媒床の層の平均横断面積との比が4:2:1であった。全体の触媒床の層に中空構造を有する成型チタニウム珪酸塩分子篩を充填した。
直列した三つの小型の固定床反応器反応器を使って、各反応器での触媒床の層の平均横断面積は前記第1の触媒床の層の平均横断面積と同じ、且つ各反応器での触媒充填量比が1:1:1であった。それ以外、実施例19と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
二つ非等直径の反応区域を有する反応器(二つ非等直径の反応区域が同一反応器にある反応器は実施例2の二つ非等直径の反応器を取り替えて、二つ非等直径の反応区域を有する反応器は図7に示し、フィードは先に内径の大きい反応区域に接触した)を利用し、反応器の二つ非等直径の反応区域の平均横断面積の比が2:1で、二つ非等直径の反応区域に充填した触媒の充填量の比が2:1である以外、実施例2と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
総長が実施例20の反応器と同じ、且つ二つ等直径の反応区域を有する反応器を利用し、二つ等直径の反応区域が有する横断面積は第1反応区域の横断面積と同じで、二つ等直径の反応区域に充填した触媒の充填量の比が1:1である以外、実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
反応区域が段階的に縮小する三つ非等直径の反応区域(フィードは先に内径の大きい反応区域に接触した)を有する反応器を利用し、三つ非等直径の反応区域の平均横断面積の比が4:2:1で、三つ非等直径の反応区域に充填した触媒の充填量の比が4:2:1である以外、実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
総長が実施例21の反応器と同じ、且つ三つ等直径の反応区域を有する反応器を利用し、三つ等直径の反応区域が有する横断面積は実施例21の反応器にある第1反応区域の平均横断面積と同じで、三つ等直径の反応区域に充填した触媒の充填量の比が1:1:1である以外、実施例21と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
反応器の第二等直径の反応区域にそれぞれ図面1〜6に示した縦断面形状を有する部材を設置し、図面1〜6に示した二つ非等直径の反応区域をぞれぞれ構成し、二つ非等直径の反応区域の平均横断面積の比が2:1で、二つ非等直径の反応区域に充填した触媒の充填量の比が2:1である以外、比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
反応器の第三等直径の反応区域にそれぞれ図面1〜6に示した縦断面形状を有する部材を設置し、図面1〜6に示した三つ非等直径の反応区域をぞれぞれ構成し、三つ反応区域の平均横断面積の比が2:2:1で、三つ反応区域に充填した触媒の充填量の比が2:2:1である以外、比較例5と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
それぞれ、実施例22−27と同じ方法でオレフィン類を酸化した。ただし、触媒は実施例3の触媒と同じで、即ち成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1である。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。ただし、触媒は実施例3の触媒と同じで、即ち成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1である。
それぞれ、実施例28−33と同じ方法でオレフィン類を酸化した。ただし、触媒は実施例3の触媒と同じで、即ち成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1である。
比較例5と同じ方法でオレフィン類を酸化した。ただし、触媒は実施例3の触媒と同じで、即ち成型チタニウム珪酸塩分子篩TS−1である。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(20質量%)が図8に示した方式のように、二つの反応流出物の導入支管によって、反応器の二つの等直径の反応区域の間に安定に返した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(20質量%)が図8に示した方式のように、二つの反応流出物の導入支管によって、反応器の二つの非等直径の反応区域の間に安定に返した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(80質量%)が図8に示した方式のように、二つの反応流出物の導入支管によって、二つの等直径の反応器(図8に示した二つの反応区域が二つの等直径の反応器に対応する)の間に安定に返した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(80質量%)が図8に示した方式のように、二つの反応流出物の導入支管によって、二つの非等直径の反応器の間に安定に返した。
比較例3と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(20質量%)が図8に示した方式のように、四つの反応流出物の導入支管によって、三つの等直径の反応器の間に安定に返した。
実施例19と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物の一部(20質量%)が図8に示した方式のように、四つの反応流出物の導入支管によって、三つの非等直径の反応器の間に安定に返した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。溶媒メチルアルコールの一部(20質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、反応器の二つの等直径の反応区域の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。溶媒メチルアルコールの一部(20質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、反応器の二つの非等直径の反応区域の間に安定に導入した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。溶媒メチルアルコールの一部(80質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、二つの等直径の反応器の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。溶媒メチルアルコールの一部(80質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、二つの非等直径の反応器の間に安定に導入した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して10質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、二つの不活性気体の導入支管によって、反応器の二つの等直径の反応区域の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して10質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、二つの不活性気体の導入支管によって、反応器の二つの非等直径の反応区域の間に安定に導入した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して50質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、二つの不活性気体の導入支管によって、二つの等直径の反応器の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して50質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、二つの不活性気体の導入支管によって、二つの非等直径の反応器の間に安定に導入した。
比較例3と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して20質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、四つの不活性気体の導入支管によって、三つの等直径の反応器の間に安定に導入した。
実施例19と同じ方法でオレフィン類を酸化した。窒素ガス(反応物フィードの総質量に対して20質量%の導入量)を運搬流体として図9に示した方式のように、四つの不活性気体の導入支管によって、三つの非等直径の反応器の間に安定に導入した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物から分離した溶媒ストリームの一部(20質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、反応器の二つの等直径の反応区域の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物から分離した溶媒ストリームの一部(20質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、反応器の二つの非等直径の反応区域の間に安定に導入した。
比較例4と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物から分離した溶媒ストリームの一部(80質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、二つの等直径の反応器の間に安定に導入した。
実施例20と同じ方法でオレフィン類を酸化した。反応流出物から分離した溶媒ストリームの一部(80質量%)が図9に示した方式のように、二つの溶媒の導入支管によって、二つの非等直径の反応器の間に安定に導入した。
上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の平均横断面積と下流にある第2反応器での第2の触媒床の層の平均横断面積との比が2.5:1で、さらに、各触媒床の層に充填した触媒の充填量の比が2.5:1であった以外、実施例2と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の平均横断面積と下流にある第2反応器での第2の触媒床の層の平均横断面積との比が8:1で、さらに、各触媒床の層に充填した触媒の充填量の比が8:1であった以外、実施例2と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の平均横断面積と下流にある第2反応器での第2の触媒床の層の平均横断面積との比が12:1で、さらに、各触媒床の層に充填した触媒の充填量の比が12:1であった以外、実施例2と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
上流にある第1反応器での第1の触媒床の層の平均横断面積と下流にある第2反応器での第2の触媒床の層の平均横断面積との比が20:1で、さらに、各触媒床の層に充填した触媒の充填量の比が20:1であった以外、実施例2と同じ方法でオレフィン類を酸化した。
2 出口
I 第1の触媒床の層
II 第2の触媒床の層
III 第3の触媒床の層
異なる触媒床の層の間の的空白区域 隔離部
3 反応ゾーン
A 反応物フィード
B 反応流出物
B1〜B4 反応流出物の導入支管
C 排気流れ、溶媒或いは不活性気体
C1〜C4 排気流れの導入支管、溶媒の導入支管或いは不活性気体の導入支管
矢印付き破線 反応ストリームの流れ方向
Claims (12)
- オレフィン類の酸化反応条件で、オレフィン類(好ましくはC3−6 α−オレフィン類から選ばれた少なくとも一種、より好ましくはプロピレン及びブテンからなる群から選ばれた少なくとも一種、さらに好ましくはプロピレン)と少なくとも一種の酸化剤(好ましくは過酸化水素、有機過酸化物及び過酸からなる群から選ばれた少なくとも一種、より好ましく過酸化水素)とを含んだ反応物フィードが順に第1〜第n(nが2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19又は20で、好ましくは2、3、4、5、6、7、8、9又は10で、より好ましく2、3、4又は5である)の触媒床の層を通す工程を備えるオレフィン類の酸化方法において、
反応ストリームが上記第1〜第nの触媒床の層を通す見かけ速度をそれぞれv1〜vnとして、mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足することを特徴とするオレフィン類の酸化方法。
vm−1<vm、好ましくはvm/vm−1=1.5−15、より好ましくvm/vm−1=2−10、さらに好ましくはvm/vm−1=2−5。 - mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足することを特徴とする請求項1に記載のオレフィン類の酸化方法。
Am−1/Am>1、好ましくはAm−1/Am≧1.5、より好ましくAm−1/Am≧2、好ましくはAm−1/Am≦15、より好ましくAm−1/Am≦10、さらに好ましくはAm−1/Am≦5
ただし、Am−1が第m−1の触媒床の層の平均横断面積で、Amが第mの触媒床の層の平均横断面積である。 - オレフィン類の酸化物を含んだ反応流出物が得られ、さらに、前記反応流出物から前記オレフィン類の酸化物を分離し、排気流れが得られる工程を備えることを特徴とする請求項1に記載のオレフィン類の酸化方法。
- 前記第1〜第nの触媒床の層において、任意的な二つ以上の隣接する触媒床の層の間に隔離部を挟み、前記隔離部に、前記反応流出物、溶媒、不活性気体及び前記排気流れからなる群から選ばれた少なくとも一種の、より好ましく前記反応流出物及び前記不活性気体からなる群から選ばれた少なくとも一種の運搬流体を導入することを特徴とする請求項3に記載のオレフィン類の酸化方法。
- 前記第1〜第nの触媒床の層のそれぞれに少なくとも一種のチタニウム珪酸塩分子篩を充填することを特徴とする請求項1に記載のオレフィン類の酸化方法。
- 前記反応物フィードには、前記オレフィン類と前記少なくとも一種酸化剤とはモール比で0.1−10:1で、好ましくは0.2−5:1であり、前記第1〜第nの触媒床の層に充填した触媒の総計量として、前記オレフィン類の重量空間速度は0.1−20h−1で、好ましくは0.2−10h−1であり、さらに前記オレフィン類の酸化反応条件は:反応圧力(ゲージ圧として)0−5MPaで、好ましくは0.1−3.5MPaで、及び反応温度0−120℃で、好ましくは20−80℃(例えば30−60℃)であることを特徴とする請求項1に記載のオレフィン類の酸化方法。
- mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足することを特徴とする請求項1に記載のオレフィン類の酸化方法。
Tm−1−Tm=5−30、好ましくはTm−1−Tm=10−20
ただし、Tm−1は第m−1の触媒床の層での反応温度(℃)であり、Tmは第mの触媒床の層での反応温度(℃)である。 - 供給口(1)、反応ゾーン(3)及び出口(2)を備え、前記反応ゾーン(3)に第1〜第n(nが2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19又は20で、好ましくは2又は3である)の触媒床の層を設置し、反応物フィードが前記供給口(1)を経由し前記反応ゾーン(3)に導入されて、順に前記第1〜第nの触媒床の層を通した後、前記出口(2)から反応流出物として流出する固定床反応装置において、反応ストリームが上記第1〜第nの触媒床の層を通す見かけ速度をそれぞれv1〜vnとして、mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足するように加速装置をさらに設置することを特徴とする固定床反応装置。
vm−1<vm、好ましくはvm/vm−1=1.5−15、より好ましくvm/vm−1=2−10、さらに好ましくはvm/vm−1=2−5 - 前記加速装置は、前記反応ゾーン(3)における漸縮ゾーン及び/又は前記反応ゾーン(3)内に設置した部材であり、mが区間[2, n]から選ばれた任意的な整数である場合、以下の関係式を満足するように前記漸縮ゾーン又は前記部材を設置することを特徴とする請求項8に記載の固定床反応装置。
Am−1/Am>1、好ましくはAm−1/Am≧1.5、より好ましくAm−1/Am≧2、好ましくはAm−1/Am≦15、より好ましくAm−1/Am≦10、さらに好ましくはAm−1/Am≦5
ただし、Am−1が第m−1の触媒床の層の平均横断面積で、Amが第mの触媒床の層の平均横断面積である。 - 前記加速装置は反応流出物の導入支管、溶媒の導入支管、不活性気体の導入支管又はそれらの組み合わせたものであり、前記反応流出物の導入支管によって、前記反応流出物の一部が前記第1〜第nの触媒床の層における任意的な二つ以上の隣接する触媒床の層の間に挟まれた隔離部に導入され、前記溶媒の導入支管によって、溶媒が前記第1〜第nの触媒床の層における任意的な二つ以上の隣接する触媒床の層の間に挟まれた隔離部に導入され、前記不活性気体の導入支管によって、不活性気体が前記第1〜第nの触媒床の層における任意的な二つ以上の隣接する触媒床の層の間に挟まれた隔離部に導入されることを特徴とする請求項8に記載の固定床反応装置。
- 少なくとも、反応物供給単位、オレフィン類の酸化反応単位及び反応流出物の分離単位を備え、前記オレフィン類の酸化反応単位は請求項8に記載の固定床反応装置を一つ以上備えるオレフィン類の酸化反応系。
- 前記反応流出物の分離単位によって、前記固定床反応装置からの前記反応流出物からオレフィン類の酸化物が分離され、排気流れが得られ、さらに前記加速装置は排気流れの導入支管であり、前記排気流れの導入支管によって、前記排気流れ又はその一部が前記第1〜第nの触媒床の層における任意的な二つ以上の隣接する触媒床の層の間に挟まれた隔離部に導入される請求項11に記載のオレフィン類の酸化反応系。
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