JP2017528775A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017528775A5
JP2017528775A5 JP2017533703A JP2017533703A JP2017528775A5 JP 2017528775 A5 JP2017528775 A5 JP 2017528775A5 JP 2017533703 A JP2017533703 A JP 2017533703A JP 2017533703 A JP2017533703 A JP 2017533703A JP 2017528775 A5 JP2017528775 A5 JP 2017528775A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
parallel
substrate
displacement
scanning
holding device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017533703A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2017528775A (ja
JP6714595B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102014218474.6A external-priority patent/DE102014218474A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2017528775A publication Critical patent/JP2017528775A/ja
Publication of JP2017528775A5 publication Critical patent/JP2017528775A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6714595B2 publication Critical patent/JP6714595B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2017533703A 2014-09-15 2015-09-07 Ｅｕｖマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法 Active JP6714595B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014218474.6 2014-09-15
DE102014218474.6A DE102014218474A1 (de) 2014-09-15 2014-09-15 Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
PCT/EP2015/070391 WO2016041805A1 (en) 2014-09-15 2015-09-07 Projection lens, projection exposure apparatus and projection exposure method for euv microlithography

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020098462A Division JP7208953B2 (ja) 2014-09-15 2020-06-05 Ｅｕｖマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017528775A JP2017528775A (ja) 2017-09-28
JP2017528775A5 true JP2017528775A5 (enExample) 2020-02-13
JP6714595B2 JP6714595B2 (ja) 2020-06-24

Family

ID=54062753

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017533703A Active JP6714595B2 (ja) 2014-09-15 2015-09-07 Ｅｕｖマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法
JP2020098462A Active JP7208953B2 (ja) 2014-09-15 2020-06-05 Ｅｕｖマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020098462A Active JP7208953B2 (ja) 2014-09-15 2020-06-05 Ｅｕｖマイクロリソグラフィのための投影レンズ、投影露光装置、及び投影露光方法

Country Status (8)

Country Link
US (2) US10048592B2 (enExample)
EP (1) EP3195060B1 (enExample)
JP (2) JP6714595B2 (enExample)
KR (1) KR102469060B1 (enExample)
CN (2) CN111505909A (enExample)
DE (1) DE102014218474A1 (enExample)
TW (2) TWI714278B (enExample)
WO (1) WO2016041805A1 (enExample)

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014218474A1 (de) * 2014-09-15 2016-03-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
DE102016205072A1 (de) * 2016-03-29 2017-03-16 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System für die Mikrolithografie sowie Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems für die Mikrolithografie
DE102016212477A1 (de) 2016-07-08 2018-01-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Messverfahren und Messsystem zur interferometrischen Vermessung der Abbildungsqualität eines optischen Abbildungssystems
DE102016219330A1 (de) 2016-10-06 2018-04-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Verringerung aus dynamischen Beschleunigungen herrührenden Deformationen von Komponenten der Projektionsbelichtungsanlage
WO2018134010A1 (en) * 2017-01-17 2018-07-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method
DE102017216679A1 (de) * 2017-09-20 2019-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
WO2019072703A1 (en) * 2017-10-11 2019-04-18 Asml Netherlands B.V. FLOW OF OPTIMIZATION OF PROCESS OF FORMATION OF REASONS
KR102374206B1 (ko) 2017-12-05 2022-03-14 삼성전자주식회사 반도체 장치 제조 방법
JP2019124796A (ja) * 2018-01-16 2019-07-25 キヤノン株式会社 結像光学系、画像投射装置およびカメラシステム
DE102019200696B4 (de) * 2019-01-21 2022-02-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung, Verfahren und Computerprogram zum Bestimmen einer Position eines Elements auf einer fotolithographischen Maske
JP7357488B2 (ja) * 2019-09-04 2023-10-06 キヤノン株式会社 露光装置、および物品製造方法
CN111381431B (zh) * 2020-05-11 2021-04-13 江苏舜合物联网科技有限公司 投影画面跟随可卷曲屏幕同步升降或同步平移的实现方法
JP2022022912A (ja) * 2020-07-10 2022-02-07 キヤノン株式会社 露光装置および物品製造方法
CN113031201B (zh) * 2021-03-15 2022-02-11 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 一种在轨补偿主镜曲率半径误差影响的调整方法
DE102022208204A1 (de) 2022-08-08 2023-08-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur Kompensation von Abbildungsfehlern einer EUV-Projektionsbelichtungsanlage
DE102023130957A1 (de) * 2023-11-08 2025-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Bestimmen wenigstens eines Manipulatorfreiheitsgrads, Verfahren zum Definieren wenigstens eines virtuellen Manipulators, Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage sowie Projektionsbelichtungsanlage

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999026278A1 (en) 1997-11-14 1999-05-27 Nikon Corporation Exposure apparatus and method of manufacturing the same, and exposure method
DE19908526A1 (de) * 1999-02-26 2000-08-31 Zeiss Carl Fa Beleuchtungssystem mit Feldspiegeln zur Erzielung einer gleichförmigen Scanenergie
JP2000100685A (ja) * 1998-09-17 2000-04-07 Nikon Corp 露光装置及び該装置を用いた露光方法
JP2004023020A (ja) * 2002-06-20 2004-01-22 Nikon Corp 投影光学系及び縮小投影露光装置
US6897940B2 (en) * 2002-06-21 2005-05-24 Nikon Corporation System for correcting aberrations and distortions in EUV lithography
DE102004014766A1 (de) 2003-04-02 2004-10-21 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Verzeichnungskorrektur in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
US6853440B1 (en) 2003-04-04 2005-02-08 Asml Netherlands B.V. Position correction in Y of mask object shift due to Z offset and non-perpendicular illumination
JP2005166778A (ja) * 2003-12-01 2005-06-23 Canon Inc 露光装置、デバイスの製造方法
US7522260B1 (en) * 2004-09-29 2009-04-21 Carl Zeiss Smt Ag Method for correcting astigmatism in a microlithography projection exposure apparatus, a projection objective of such a projection exposure apparatus, and a fabrication method for micropatterned components
JP5069232B2 (ja) * 2005-07-25 2012-11-07 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影対物レンズ
TWI366004B (en) 2005-09-13 2012-06-11 Zeiss Carl Smt Gmbh Microlithography projection optical system, microlithographic tool comprising such an optical system, method for microlithographic production of microstructured components using such a microlithographic tool, microstructured component being produced by s
CN100474115C (zh) * 2006-04-04 2009-04-01 上海微电子装备有限公司 光刻机成像光学系统像差现场测量方法
US7894038B2 (en) * 2007-03-14 2011-02-22 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, lithographic apparatus, and a computer program
EP2048540A1 (en) * 2007-10-09 2009-04-15 Carl Zeiss SMT AG Microlithographic projection exposure apparatus
NL1036108A1 (nl) * 2007-11-09 2009-05-12 Asml Netherlands Bv Device Manufacturing Method and Lithographic Apparatus, and Computer Program Product.
JP2009266886A (ja) * 2008-04-22 2009-11-12 Nikon Corp マスク、マスク保持装置、露光装置及びデバイスの製造方法
JP2009302149A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Nikon Corp 露光装置およびデバイスの製造方法
JP2010245331A (ja) * 2009-04-07 2010-10-28 Canon Inc 制御装置を備える光学素子駆動装置
DE102010029651A1 (de) 2010-06-02 2011-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betrieb einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit Korrektur von durch rigorose Effekte der Maske induzierten Abbildungsfehlern
DE102010040811A1 (de) 2010-09-15 2012-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik
DE102011080437A1 (de) 2010-09-30 2012-04-05 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildendes optisches System für die Mikrolithographie
JP6410406B2 (ja) * 2012-11-16 2018-10-24 キヤノン株式会社 投影光学系、露光装置および物品の製造方法
JP6013930B2 (ja) * 2013-01-22 2016-10-25 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
JP2014154721A (ja) * 2013-02-08 2014-08-25 Toshiba Corp フォトマスク、フォトマスク作成装置およびフォトマスクの作製方法
DE102014218474A1 (de) 2014-09-15 2016-03-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017528775A5 (enExample)
IL259822A (en) Generating high-resolution images from low-resolution images for semiconductor applications
SG11202109293XA (en) Large area metrology and process control for anisotropic chemical etching
JP2018534758A5 (enExample)
JP2017511263A5 (enExample)
EP3144960A3 (en) Semiconductor device
WO2016196223A8 (en) Three-dimensional objects formed by three-dimensional printing
JP2014502920A5 (enExample)
JP2016006098A5 (enExample)
RU2016108023A (ru) Установка для удерживания обрабатываемой детали
JP2019027927A5 (enExample)
JP2016195183A5 (enExample)
WO2016036259A3 (en) Post support apparatus
WO2014122151A3 (en) Lithographic apparatus
WO2016192848A3 (de) Vorrichtung zum zurückhalten eines bauteils
EA201891118A1 (ru) Выворачивающее устройство для трикотажных трубчатых изделий, в частности для выворачивания наизнанку трубчатых изделий с карманами, которые выступают из их боковой поверхности
EP3731021A4 (en) IMAGE FORMATION PROCESS, IMAGE FORMATION DEVICE AND ASSEMBLY USED IN THE IMAGE FORMATION PROCESS
TWI799673B (zh) 處理裝置（二）
EP3546622A4 (en) NITRIDE SUBSTRATE SUBSTRATE, MANUFACTURING METHOD AND SEMICONDUCTOR ELEMENT
JP2016201540A5 (enExample)
JP2015018795A5 (enExample)
JP2015140210A5 (enExample)
EP3724923A4 (en) NETWORK SUBSTRATE, ITS CONTROL PROCESS, ITS MANUFACTURING PROCESS AND DISPLAY DEVICE
JP2014220989A5 (ja) 駆動装置、画像振れ補正装置、交換レンズ、撮像装置、及び自動ステージ
EP3442015A4 (en) WAFERHALTEMECHANISM AND METHOD FOR TURNING TABLE AND THREAD-WATER HOLDING DEVICE