JP2017523566A5 - イオン源の温度制御装置 - Google Patents

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イオン源の温度を制御する装置を開示する。前記イオン源はイオンが生成されるチャンバを画定する複数の壁を含む。前記イオン源の温度を制御するために一つ以上の可動熱シールドが前記チャンバの外部に配置される。前記可動熱シールドは熱を前記イオン源の方へ反射して戻すように設計された高温材料及び/又は耐熱材料で作られる。第1の位置において、これらの可動熱シールドは第1の量の熱を前記イオン源の方へ反射して戻すように配置される。第2の位置において、これらの可動熱シールドは前記第1の量より少ない第2の量の熱を前記イオン源の方へ反射して戻すように配置される。いくつかの実施形態では、前記可動熱シールドは第1及び第2の位置の間に位置する一つ以上の中間位置に配置することができる。
図1A−1Cは第1の実施形態の装置10を示す。装置10はイオン源100と一以上の可動熱シールド170,175を含む。イオン源100はチャンバ120を画定する複数の壁を有する。イオン源100は高さ、長さ及び幅を有する直方体の形状とし得る。イオン源100は底壁111、対向上壁112、2つの対向側壁113,114(図A参照)及び2つの対向端壁115,116を有する。これらの壁はチャンバを画定し得る。他の実施形態では、チャンバは複数の区画に分離してもよい。「上」、「底」、「側」及び「端」という語を使用するが、それらはイオン源が所定の向きに配置されることを意味しない。それらは説明の便宜上使用されている。
図1Aは可動熱シールド170,175が両方とも第1の位置にある装置100を示し、この場合には可動熱シールドは第1の量の熱をイオン源100の方へ反射して戻すように配置されている。この配置は、可動熱シールド170,175がそれぞれの端壁115,116の大部分又は全体と近接もしくはオーバラップするときに起こり得る。図1Aはそれぞれの端壁115,116の全体を覆う又はオーバラップする可動熱シールド170,175を示すが、他の実施形態も可能である。例えば、可動熱シールド170,175は第1の位置においてそれぞれの端壁115,116の一部分のみを覆う又はオーバラップすることができる。この第1の位置はイオン源100の最大所望温度を達成するために選択することができる。
直線運動を使用する実施形態のいずれにおいても、可動熱シールドは一組のレール又はブッシュと連携し、可動熱シールドが所望の通路に沿って移動できるようにする。例えば、図1A−1Dにおいて、可動熱シールドが所望の通路に沿って摺動するように一組のレール又はブッシュを各可動熱シールド170,175の両側に配置することができる。
いくつかの実施形態では、可動熱シールド170,175は、それらを異なる位置にし得るように独立に制御可能にし得る。例えば、一方の可動熱シールドを第1の位置にするとともに、他方の可動熱シールドを第2の位置にすることができる。別の実施形態では、上述したように、一つの可動熱シールドのみを存在させてもよい。更に別の実施形態では、可動熱シールドを縦方向及び横方向の両方向に移動可能にしてもよい。
加えて、図1A−1D及び図3A−3Dの実施形態に示す装置は組み合わせて、可動熱シールドを端壁115,116及び側壁113,114に近接して設けてもよい。一実施形態では、これらの可動熱シールド170,175,200,205はすべて独立に移動可能にし得る。別の実施形態では、これらの可動熱シールドは対として移動可能にし、可動熱シールド170,175が一致して移動されるとともに可動熱シールド200,205が一致して移動されるようにすることができる。一代替実施形態では、これらの可動熱シールドは端壁及び側壁の平面に平行な方向(すなわち、図1A−1D及び3A−3Dに示すように垂直方向)に移動可能にし得る。別の実施形態では、これらの可動熱シールドは端壁及び側壁の平面に直角の方向(すなわち、図2A−2Cに示すように横方向)に移動可能にし得る。
更に、可動熱シールドは、必要に応じ底壁111に近接して配置してもよい。上記の任意の可動熱シールドと同様に、この可動熱シールドも底壁111の平面に平行に、又はその平面に直角に移動可能にしてよい。
図1A−1D、図2A−2C及び図3A−3Dの実施形態に示す装置はすべてが直線通路に沿って移動する可動熱シールドを示している。しかしながら、他の実施形態も可能である。例えば、図4A−4Dは可動熱シールド300,305が回転可能に枢支されている装置40を示す。図4Aにおいて、装置40はその可動熱シールド300,305が第1の位置にあり、この位置では第1の量の熱がイオン源100の方へ反射されて戻される。一実施形態では、可動熱シールド300,305は側壁113,114に平行であるが、他の角度にすることもできる。更に、図4A−4Dは可動熱シールド300,305が側壁113,114に近接して配置されている装置40を示すが、これらの可動熱シールドは端壁115,116に近接して配置してもよい。別の実施形態では、可動熱シールドは必要に応じこれらの4つの壁のすべてに近接して配置してもよい。

Claims (15)

  1. チャンバを画定する複数の壁を有するイオン源と、
    前記チャンバの外部に前記壁の少なくとも一つに近接して配置された可動熱シールドとを備え、前記可動熱シールドは第1の量の熱を前記チャンバの方へ反射して戻す第1の位置及び前記第1の量より少ない第2の量の熱を反射して戻す第2の位置を有する、
    イオン源の温度制御装置。
  2. 前記複数の壁は底壁、開口を有する上壁、2つの端壁及び2つの側壁を備え、陰極が前記2つの端壁の一つに近接して配置され、且つ前記可動熱シールドが前記2つの端壁の一つに近接して配置されている、請求項1記載のイオン源の温度制御装置。
  3. 前記可動熱シールドは前記2つの端壁の内の第1の端壁の平面に平行な方向に移動し、前記第1の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の端壁の一部分とオーバラップし、前記第2の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の端壁のより小さい部分とオーバラップする、請求項2記載のイオン源の温度制御装置。
  4. 前記可動熱シールドは前記2つの端壁の内の第1の端壁に近接する枢支点を中心に回転し、前記第1の位置に置いて、前記可動熱シールドは前記第1の端壁と第1の角度を成し、前記第2の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の端壁と前記第1の角度より大きい第2の角度を成す、請求項2記載のイオン源の温度制御装置。
  5. 前記複数の壁は底壁、開口を有する上壁、2つの端壁及び2つの側壁を備え、陰極が前記2つの端壁の一つに近接して配置され、且つ前記可動熱シールドが前記2つの側壁の一つに近接して配置されている、請求項1記載のイオン源の温度制御装置。
  6. 前記可動熱シールドは前記2つの側壁の内の第1の側壁の平面に平行な方向に移動し、前記第1の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の側壁の一部分とオーバラップし、前記第2の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の側壁のより小さい部分とオーバラップする、請求項5記載のイオン源の温度制御装置。
  7. 前記可動熱シールドは前記2つの側壁の内の第1の側壁に近接する枢支点を中心に回転し、前記第1の位置に置いて、前記可動熱シールドは前記第1の側壁と第1の角度を成し、前記第2の位置において、前記可動熱シールドは前記第1の側壁と前記第1の角度より大きい第2の角度を成す、請求項5記載のイオン源の温度制御装置。
  8. 前記可動熱シールドを前記第1の位置と前記第2の位置の間で移動させるために前記可動熱シールドと連動するアクチュエータを更に備える、請求項1記載のイオン源の温度制御装置。
  9. チャンバを画定する複数の壁を有するイオン源を備え、前記複数の壁は底壁、開口を有する上壁、2つの端壁及び2つの側壁を有し、陰極が前記2つの端壁の一つに近接して配置され、
    前記チャンバの外部に前記2つの側壁のそれぞれに近接して各々が配置された2つの可動熱シールドを備え、前記2つの可動熱シールドの各々は第1の量の熱を前記チャンバの方へ反射して戻す第1の位置及び前記第1の量より少ない第2の量の熱を前記チャンバの方へ反射して戻す第2の位置を有し、且つ
    前記可動熱シールドの各々と連動し、前記可動熱シールドの各々を前記第1の位置と前記第2の位置の間で前記側壁の平面に平行な方向に移動させるアクチュエータを備え、前記第1の位置において、前記可動熱シールドが前記側壁の一部分とオーバラップし、前記第2の位置において、前記可動熱シールドが前記側壁のより小さい部分とオーバラップする、
    イオン源の温度制御装置。
  10. 前記アクチュエータが前記可動熱シールドを独立に移動させる、請求項9記載のイオン源の温度制御装置。
  11. 前記アクチュエータが前記可動熱シールドの各々を前記第1の位置と前記第2の位置の間の少なくとも一つの中間位置に移動させる、請求項9記載のイオン源の温度制御装置。
  12. 前記可動熱シールドを前記第1の位置と前記第2の位置の間の所望の通路に沿って案内するレールを更に備える、請求項9記載のイオン源の温度制御装置。
  13. チャンバを画定する複数の壁を有するイオン源を備え、前記複数の壁は底壁、開口を有する上壁、2つの端壁及び2つの側壁を有し、陰極が前記2つの端壁の一つに近接して配置され、
    前記チャンバの外部に前記2つの側壁のそれぞれに近接して各々が配置された2つの可動熱シールドを備え、前記2つの可動熱シールドの各々は第1の量の熱を前記チャンバの方へ反射して戻す第1の位置及び前記第1の量より少ない第2の量の熱を前記チャンバの方へ反射して戻す第2の位置を有し、且つ
    前記可動熱シールドの各々と連動し、前記可動熱シールドの各々をそれぞれの枢支点を中心に回転させるアクチュエータを備え、前記第1の位置において、前記可動熱シールドはそれぞれの側壁と第1の角度を成し、前記第2の位置において、前記可動熱シールドはそれぞれの側壁と第1の角度より小さい第2の角度を成す、
    イオン源の温度制御装置。
  14. 前記アクチュエータは前記可動熱シールドを独立に回転させる、請求項13記載のイオン源の温度制御装置。
  15. 前記アクチュエータは前記可動熱シールドの各々を前記第1の位置と前記第2の位置の間の少なくとも一つの中間位置に回転させる、請求項13記載のイオン源の温度制御装置。
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