JP2017513064A - 素子を作動させるための方法および装置 - Google Patents
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Abstract
Description
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素によって前記アクチュエータ力が発生することに起因して前記システムに導入される熱パワーが、所定の定数値から20%以下だけずれるような方法で、前記駆動は為される。
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素が、前記素子に働く前記アクチュエータ力への寄与に関して少なくとも部分的に互いに相殺するような方法で、前記駆動は、少なくとも時々為される。
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素は、互いに逆に作用する分力を少なくとも時々発生させる。
これにより、アクチュエータ装置100によって発生する力に対する次の最大値および最小値が得られる:
Claims (18)
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための方法であって、
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素によって前記アクチュエータ力が発生することに起因して前記システムに導入される熱パワー(Pdiss)が、所定の定数値から20%以下だけずれるような方法で、前記駆動は為される、方法。 - 前記アクチュエータ構成要素によって前記アクチュエータ力が発生することに起因して前記システムに導入される熱パワー(Pdiss)が、所定の定数値から10%以下だけ、特に5%以下だけずれるような方法で、前記駆動は為されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記熱パワーが、前記アクチュエータ構成要素によって最大許容アクチュエータ力(Fmax)が発生すると前記システムに導入される前記熱パワー(Pmax)に相当するように、前記アクチュエータ構成要素によって前記システムに導入される前記熱パワー(Pdiss)に対する所定の定数値が選択されることを特徴とする、請求項2に記載の方法。
- 前記アクチュエータ構成要素は、コイル(110,120)であり、前記アクチュエータ力を発生させるために、電流が前記コイルに印加されることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アクチュエータ構成要素が、前記素子に働く前記アクチュエータ力への寄与に関して少なくとも部分的に互いに相殺するような方法で、前記駆動は、少なくとも時々為されることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための方法であって、
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素が、前記素子に働く前記アクチュエータ力への寄与に関して少なくとも部分的に互いに相殺するような方法で、前記駆動は、少なくとも時々為される、方法。 - 前記アクチュエータ構成要素は、互いに逆に作用する分力を少なくとも時々発生させることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための方法であって、
少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって、少なくとも1つの自由度で、アクチュエータ力が前記素子に働き、
前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動し、
前記アクチュエータ構成要素は、互いに逆に作用する分力を少なくとも時々発生させる、方法。 - 前記アクチュエータ力は、前記分力を変化させることによって、量および/または方向において調整されることを特徴とする、請求項7または8に記載の方法。
- 前記アクチュエータ構成要素は、コイル(110,120)であり、前記分力を変化させるために、前記コイル(110,120)のそれぞれに印加される電流をそれぞれ少なくとも時々変化させることを特徴とする請求項7〜9のいずれか1項に記載の方法。
- 前記アクチュエータ構成要素によって前記システムに導入される前記熱パワー(Pdiss)が、特に前記システム内の他の場所に存在する熱源に起因して前記システムに存在する熱擾乱を少なくとも部分的に補償するような方法で、前記駆動は、少なくとも時々為されることを特徴とする請求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
- 前記システムは、光学系であることを特徴とする、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための装置であって、前記素子へのアクチュエータ力は、少なくとも1つの自由度において、少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって発生可能であり、前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動可能であり、さらに、前記アクチュエータ構成要素によって前記アクチュエータ力が発生することに起因して前記システムに導入される熱パワー(Pdiss)が20%以下だけ所定の値からずれるような方法で、前記駆動が為される、装置。
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための装置であって、前記素子へのアクチュエータ力は、少なくとも1つの自由度において、少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって発生可能であり、前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動可能であり、さらに、前記アクチュエータ構成要素が、前記素子に働く前記アクチュエータ力への寄与に関して少なくとも部分的に互いに相殺するような方法で、前記駆動は、少なくとも時々為される、装置。
- マイクロリソグラフィー用のシステム内の素子を作動させるための装置であって、前記素子へのアクチュエータ力は、少なくとも1つの自由度において、少なくとも2つのアクチュエータ構成要素によって発生可能であり、前記アクチュエータ構成要素は、前記アクチュエータ力を発生させるために互いに独立して駆動可能であり、さらに、前記アクチュエータ構成要素は、互いに逆に作用する分力を少なくとも時々発生させる、装置。
- 前記装置は、請求項1〜12のいずれか1項に記載の方法を実行するために設計されることを特徴とする、請求項13〜15のいずれか1項に記載の装置。
- 請求項13〜15のいずれか1項に記載の装置を備えることを特徴とする、光学系。
- 前記光学系は、マスク上またはマイクロリソグラフィー投影露光装置の光学系内の構造体の位置を決定するための装置であることを特徴とする、請求項17に記載の光学系。
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