JP2017510712A - ガス案内装置を備える真空チャンバのガス分配装置 - Google Patents
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Abstract
Description
欧州特許第0444253号明細書(EP 0 444 253 B1)において、真空チャンバ内で陰極スパッタリング法を用いて基板上に薄膜を被着する装置が公知であり、コーティングすべき基板は、真空チャンバを通して移動可能である。スパッタリングすべき陰極と陽極との間には、スクリーンが配置されており、基板平面は、陽極の下を延びている。陰極平面に対して平行に、かつ陰極と陽極との間の領域に、複数の通路が設けられている中空形材(Hohlprofil)が設けられており、中空形材は、真空チャンバの壁により保持されており、調温媒体及びプロセスガスが貫流している。その際、プロセスガスのための通路は、開口を有しており、開口は、この通路の長手方向軸線に対して横方向に延びており、真空チャンバ内へのプロセスガスの流出を実現する。
本発明の課題は、単純かつ安価な構成でありながら、真空チャンバ内におけるガスの改善された分配、とりわけ動作信頼性の高い分配を実現する、真空チャンバのガス分配装置を提供することである。
図中、同一又は同種の構成要素には、同一の符号を付した。図は、例示にすぎず、限定的に解すべきものではない。
11 真空チャンバの内側領域
15 チャンバ壁
20 構成部材
20a 構成部材
21 ガイド板
25 主通路
25a 主ガス供給通路
26 主通路の内側領域
26a 主通路壁
27 ノズル
28 供給開口
30 チューニング通路
30a チューニングガス供給通路
30b チューニングガス供給通路
30c チューニングガス供給通路
30d チューニングガス供給通路
30e チューニングガス供給通路
31 チューニング通路の内側領域
31a チューニング通路壁
32 長手方向隔壁
36 ガイド板
37 ノズル
37’ ノズル
38 供給開口
40 供給ライン
41 真空フィードスルー
60 セグメント
60’ セグメント
70 横方向隔壁、セグメントプレート
Claims (16)
- 真空チャンバ(10)のガス分配装置であって、
前記ガス分配装置は、ガス案内装置を備え、前記ガス案内装置は、少なくとも1つのガス案内通路(25,30)を有し、前記ガス案内通路(25,30)は、ノズル(27,37)を有し、前記ノズル(27,37)からガスが、前記真空チャンバ(10)内に分配可能であり、さらに
前記ガス分配装置は、ガス供給装置を備え、前記ガス供給装置により前記ガス案内装置に、ガスが供給可能であり、
前記少なくとも1つのガス案内通路(25,30)は、中空形材としてワンピースに形成される構成部材(20)から形成されている、
ガス分配装置において、
前記中空形材としてワンピースに形成される構成部材(20)により、前記ガス供給装置の少なくとも1つのガス供給通路(25a,30a,...,30e)も形成されている、
ことを特徴とするガス分配装置。 - 真空チャンバ(10)のガス分配装置であって、
前記ガス分配装置は、ガス案内装置を備え、前記ガス案内装置は、主ガスを前記真空チャンバ(10)内に分配可能な主通路ノズル(27)を有する少なくとも1つの主通路(25)と、少なくとも1つのチューニングガスを前記真空チャンバ(10)内に分配可能なチューニング通路ノズル(37,37’)を有する少なくとも1つのチューニング通路(30)とを有し、さらに
前記ガス分配装置は、ガス供給装置を備え、前記ガス供給装置は、前記主通路(25)に主ガスを供給可能な少なくとも1つの主ガス供給通路(25a)と、前記チューニング通路(30)にチューニングガスを供給可能な少なくとも1つのチューニングガス供給通路(30a,...,30e)とを有し、
前記少なくとも1つの主通路(25)は、中空形材としてワンピースに形成される構成部材(20)から形成されている、
ガス分配装置において、
前記中空形材としてワンピースに形成される構成部材(20)により、前記少なくとも1つの主ガス供給通路(25a)及び/又は前記少なくとも1つのチューニングガス供給通路(30a,...,30e)も形成されている、
ことを特徴とするガス分配装置。 - 前記中空形材としてワンピースに形成される構成部材(20)により、前記少なくとも1つのチューニング通路(30)も形成されている、請求項2に記載のガス分配装置。
- 前記少なくとも1つのチューニング通路(30)は、通路長手延在方向に沿って相前後して配置される複数のチャンバ状のセグメント(60,60’)を有する、請求項2又は3に記載のガス分配装置。
- 少なくとも2つの連続するセグメント(60,60’)は、1つの共通の横方向隔壁(70)を有する、請求項4に記載のガス分配装置。
- 各セグメント(60,60’)に少なくとも1つのチューニングガス供給通路(30a,...,30e)を介してチューニングガスが別々に供給されるか、又は供給可能である、請求項4又は5に記載のガス分配装置。
- 主通路(25)及びチューニング通路(30)は、1つの共通の長手方向隔壁(32)を有する、請求項2から6までの少なくとも1項に記載のガス分配装置。
- 前記少なくとも1つの主ガス供給通路(25a)は、主通路壁(26a)の外側領域に配置されている、請求項2から7までの少なくとも1項に記載のガス分配装置。
- 前記少なくとも1つのチューニングガス供給通路(30a,...,30e)は、前記チューニング通路壁(31a)の外側領域に配置されている、請求項2から8までのいずれか1項に記載のガス分配装置。
- 前記少なくとも1つの主ガス供給通路(25a)は、前記主通路壁(26a)内に設けられた少なくとも1つの供給開口(28)を介して前記主通路(25)に接続されている、請求項8又は9に記載のガス分配装置。
- 前記供給開口(28)は、前記主ガス供給通路(25a)を貫いて前記主通路の前記内側領域(26)内まで通される横方向孔として形成されており、前記横方向孔は、前記主ガス供給通路(25a)の壁内の、前記主通路(25)には通じない領域で閉鎖されている、請求項10に記載のガス分配装置。
- 前記少なくとも1つのチューニングガス供給通路(30a,...,30e)は、前記チューニング通路壁(31a)内に設けられた少なくとも1つの供給開口(38)を介して前記チューニング通路(30)に接続されている、請求項9から11までのいずれか1項に記載のガス分配装置。
- 前記供給開口(38)は、前記チューニングガス供給通路(30a,...,30e)を貫いて前記チューニング通路(30)の前記内側領域(26)内まで通される横方向孔として形成されており、前記横方向孔は、前記チューニングガス供給通路(30a,...,30e)の壁内の、前記チューニング通路(30)には通じない領域で閉鎖されている、請求項12に記載のガス分配装置。
- 前記主通路(25)の前記内側領域(26)及び/又は前記チューニング通路(30)の前記内側領域(31)は、長方形の横断面を有する、請求項2から13までのいずれか1項に記載のガス分配装置。
- 前記ガス案内装置は、前記真空チャンバ(10)の前記内側領域(11)に割り当てられている領域と、前記真空チャンバ(10)の前記チャンバ壁(15)に割り当てられている領域とを有し、
少なくとも1つの第1のチューニングガス供給通路(30a,...,30e)が、前記真空チャンバ(10)の前記内側領域(11)に割り当てられている領域内に配置されており、少なくとも1つの第2のチューニングガス供給通路(30a,...,30e)が、前記真空チャンバ(10)の前記チャンバ壁(15)に割り当てられている領域内に配置されている、
請求項2から14までのいずれか1項に記載のガス分配装置。 - 前記構成部材(20)は、連続鋳造形材として形成されている、請求項1から15までのいずれか1項に記載のガス分配装置。
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