JP2017510453A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. 真空処理チャンバの排気ガスを処理するためのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムであって、
   前記真空処理チャンバと結合するように構成された第１の入口と出口とを有するプラズマ源と、
   前記プラズマ源から下流のフォアラインに配置され、前記プラズマ源の前記出口に結合された下流のフォアラインガス冷却器と、
   を備え、
   前記下流のフォアラインガス冷却器は、プロセス冷却水を受け付け、フォアラインの排気ガスに接触して、前記下流のフォアラインガス冷却器の外面上で前記排気ガスを凝縮するように構成される
   フォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
2. 前記プラズマ源の第２の入口と、
   前記プラズマ源の前記第２の入口に結合された出口を有する処理剤源、
   をさらに備える、請求項１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
3. 前記処理剤源は、前記プラズマ源に供給されることになる酸素を蓄える、請求項２に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
4. 前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するためのコイルを備える、請求項１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
5. 前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するための冷却された集熱板を備える、請求項１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
6. 真空処理チャンバの排気ガスを処理するためのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムであって、
   前記真空処理チャンバに結合するように構成された第１の入口と出口とを有するプラズマ源と、
   前記プラズマ源を前記真空処理チャンバから切り離すように操作可能な第１のバルブと、
   前記プラズマ源に結合された保全パージガス供給源と、
   前記プラズマ源から下流のフォアラインに配置され、前記プラズマ源の出口に結合された下流のフォアラインガス冷却器であって、プロセス冷却水を受け付け、フォアラインの排気ガスに接触して、前記下流のフォアラインガス冷却器の外面上で前記排気ガスを凝縮するように構成される下流のフォアラインガス冷却器と、
   前記下流のフォアラインガス冷却器を真空ポンプから切り離すように操作可能な第２のバルブと、
   前記下流のフォアラインガス冷却器からのガスが前記真空ポンプをバイパスし、軽減サブシステムに直接流れることができるように操作可能な保全通気バルブと、
   を備える、フォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
7. 前記プラズマ源の入口に結合された出口を有する処理剤源、
   をさらに備える、請求項６に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
8. 前記処理剤源は、前記プラズマ源に酸素を供給する、請求項７に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
9. 前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するためのコイルを備える、請求項６に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
10. 前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するための冷却された集熱板を備える、請求項６に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステム。
11. 真空処理システムの排気ガスを処理するためのフォアライン・プラズマ・リアクタ・システムであって、
    排気ガスを、少なくとも２つのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムのうちの１つに導くように操作可能な第１のバルブであり、各フォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムが、
    前記バルブに結合されたプラズマ源、
    前記プラズマ源から下流のフォアラインに配置され、前記プラズマ源の出口に結合された下流のフォアラインガス冷却器であって、プロセス冷却水を受け付け、フォアラインの排気ガスに接触して、前記下流のフォアラインガス冷却器の外面上で前記排気ガスを凝縮するように構成される下流のフォアラインガス冷却器、
    前記プラズマ源に結合された保全パージガス供給源、および
    前記下流のフォアラインガス冷却器からのガスが前記真空処理システムの真空ポンプをバイパスし、前記真空処理システムの軽減サブシステムに直接流れることができるように操作可能な保全通気バルブ
    を備える、第１のバルブと、
    各フォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムを前記真空ポンプから切り離すように操作可能な、各フォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムの下流の第２のバルブと、
    を備える、フォアライン・プラズマ・リアクタ・システム。
12. 前記少なくとも２つのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムのうちの少なくとも１つの前記プラズマ源の入口に結合された出口を有する少なくとも１つの処理剤源、
    をさらに備える、請求項１１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・システム。
13. 前記少なくとも２つのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムのうちの少なくとも１つの前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するためのコイルを備える、請求項１２に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・システム。
14. 前記少なくとも２つのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムのうちの少なくとも１つの前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するためのコイルを備える、請求項１１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・システム。
15. 前記少なくとも２つのフォアライン・プラズマ・リアクタ・サブシステムのうちの少なくとも１つの前記下流のフォアラインガス冷却器が、前記排気ガスを冷却するための冷却された集熱板を備える、請求項１１に記載のフォアライン・プラズマ・リアクタ・システム。