JP2017509138A5 - - Google Patents
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Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE102013020518.2 | 2013-12-11 | ||
| DE102013020518.2A DE102013020518A1 (de) | 2013-12-11 | 2013-12-11 | Verfahren und Vorrichtung zur Polymerisation einer Zusammensetzung enthaltend Hydridosilane und anschließenden Verwendung der Polymerisate zur Herstellung von siliziumhaltigen Schichten |
| PCT/DE2014/000617 WO2015085980A1 (de) | 2013-12-11 | 2014-11-26 | Verfahren zur polymerisation einer zusammensetzung enthaltend hydridosilane und anschliessenden verwendung der polymerisate zur herstellung von siliciumhaltigen schichten |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017509138A JP2017509138A (ja) | 2017-03-30 |
| JP2017509138A5 true JP2017509138A5 (enExample) | 2018-09-27 |
| JP6586420B2 JP6586420B2 (ja) | 2019-10-02 |
Family
ID=52432606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016538797A Expired - Fee Related JP6586420B2 (ja) | 2013-12-11 | 2014-11-26 | ヒドリドシランを含む組成物の重合及びそれに次ぐケイ素含有層の製造のためのその重合体の使用のための方法及び装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10053599B2 (enExample) |
| EP (1) | EP3080192B1 (enExample) |
| JP (1) | JP6586420B2 (enExample) |
| CN (1) | CN105793328B (enExample) |
| DE (1) | DE102013020518A1 (enExample) |
| WO (1) | WO2015085980A1 (enExample) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE102015225289A1 (de) | 2015-12-15 | 2017-06-22 | Evonik Degussa Gmbh | Dotierte Zusammensetzungen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
| KR102097646B1 (ko) * | 2016-03-11 | 2020-04-06 | 가부시키가이샤 리코 | 비상 정지 압력 센서, 안전 장치 및 안전 시스템 |
| WO2017223323A1 (en) * | 2016-06-25 | 2017-12-28 | Applied Materials, Inc. | Flowable amorphous silicon films for gapfill applications |
| KR102271768B1 (ko) | 2017-04-07 | 2021-06-30 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 반응성 어닐링을 사용하는 갭충전 |
| DE102017010263A1 (de) * | 2017-11-07 | 2019-05-09 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Verfahren zur Herstellung von hydrogenierten amorphen siliziumhaltigen Komposit-Kolloiden und zur Verkapselung von Substanzen mit hydrogenierten amorphen siliziumhaltigen Komposit-Schichten, sowie hydrogenierte amorphe siliziumhaltige Komposit-Kolloide und mit siliziumhaltigen Komposit-Schichten verkapselte Substanzen und deren Verwendung |
| WO2019217985A1 (en) * | 2018-05-14 | 2019-11-21 | The University Of Melbourne | A method of generating radicals by ultrasound |
| US11401166B2 (en) | 2018-10-11 | 2022-08-02 | L'Air Liaquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Process for producing isomer enriched higher silanes |
| US11097953B2 (en) | 2018-10-11 | 2021-08-24 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Process for producing liquid polysilanes and isomer enriched higher silanes |
| US11230474B2 (en) | 2018-10-11 | 2022-01-25 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Process for producing isomer enriched higher silanes |
| US10752507B2 (en) | 2018-10-11 | 2020-08-25 | L'Air Liquide, Société Anonyme pour l'Etude et l'Exploitation des Procédés Georges Claude | Process for producing liquid polysilanes and isomer enriched higher silanes |
| DE102023118799A1 (de) * | 2023-07-17 | 2025-01-23 | Forschungszentrum Jülich GmbH | Silizium Dünnschichten hergestellt durch CVD mittels Flüssigsilanen mit einstellbarem Kohlenstoffgehalt |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3211255B2 (ja) * | 1990-07-10 | 2001-09-25 | 三井化学株式会社 | シラン誘導体、ポリシラン化合物、その製造方法および用途 |
| WO2000059014A1 (fr) | 1999-03-30 | 2000-10-05 | Seiko Epson Corporation | cROCEDE PRODUCTION D'UN FILM DE SILICIUM ET COMPOSITION D'ENCRE POUR IMPRIMANTE A JET D'ENCRE |
| JP2003313299A (ja) * | 2002-04-22 | 2003-11-06 | Seiko Epson Corp | 高次シラン組成物及び該組成物を用いたシリコン膜の形成方法 |
| JP2004165474A (ja) * | 2002-11-14 | 2004-06-10 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光電変換素子及びその製造方法 |
| EP1599298A4 (en) * | 2003-02-20 | 2007-05-02 | Lam Res Corp | METHOD AND DEVICE FOR MEGASCULAR CLEANING OF PATTERNED SUBSTRATES |
| DE102005027757A1 (de) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Gesellschaft zur Förderung von Medizin-, Bio- und Umwelttechnologien e.V. | Verfahren zur Herstellung von Polymeren |
| KR20090029494A (ko) * | 2007-09-18 | 2009-03-23 | 엘지전자 주식회사 | 비정질 실리콘 및 나노 결정질 실리콘의 복합 박막을이용한 태양전지 및 그 제조방법 |
| DE102009053806A1 (de) * | 2009-11-18 | 2011-05-19 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung von Siliciumschichten |
| DE102010002405A1 (de) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Oligomerisierung von Hydridosilanen, die mit dem Verfahren herstellbaren Oligomerisate und ihre Verwendung |
| KR20130069611A (ko) * | 2010-04-06 | 2013-06-26 | 엔디에스유 리서치 파운데이션 | 액체 실란계 조성물 및 실리콘계 물질의 제조 방법 |
| DE102010041842A1 (de) | 2010-10-01 | 2012-04-05 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung höherer Hydridosilanverbindungen |
| DE102010055564A1 (de) | 2010-12-23 | 2012-06-28 | Johann-Wolfgang-Goethe Universität Frankfurt am Main | Verfahren und Vorrichtung zur Abscheidung von Silizium auf einem Substrat |
| DE102013010099B4 (de) * | 2013-06-18 | 2015-07-09 | Evonik Industries Ag | Verfahren zur Herstellung strukturierter Beschichtungen, mit dem Verfahren hergestellte strukturierte Beschichtungen und ihre Verwendung |
-
2013
- 2013-12-11 DE DE102013020518.2A patent/DE102013020518A1/de not_active Ceased
-
2014
- 2014-11-26 EP EP14830938.8A patent/EP3080192B1/de active Active
- 2014-11-26 CN CN201480066856.7A patent/CN105793328B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-11-26 US US15/100,831 patent/US10053599B2/en active Active
- 2014-11-26 WO PCT/DE2014/000617 patent/WO2015085980A1/de not_active Ceased
- 2014-11-26 JP JP2016538797A patent/JP6586420B2/ja not_active Expired - Fee Related
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