JP2017506203A - Ir反射層間のスズ酸亜鉛系層を有する低放射率コーティングを含む熱処理可能な被覆製品及びその対応方法 - Google Patents
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Abstract
Description
以下の実施例は、下記に記載された層スタックを有するように6mm厚さの透明なガラス基板1上に図1に示したようにコーティングをスパッタリングして行われた。厚さは、オングストローム(Å)単位である。比較例は、本発明の実施例1のスズ酸亜鉛層14の代わりに比較例ではスズ酸化物層が用いられることを除いて本発明の実施例1と同じであることが分かる(「n/a」は、この例で適用可能な層が存在しないことを意味する)。すなわち、本発明に係る実施例1は、CEの中間誘電体部におけるスズ酸化物層を本発明の実施例1ではスズ酸亜鉛層14に代えた以外は比較例(CE)と同一である。
以下の実施例は、下記に記載された層スタックを有するように6mm厚さの透明なガラス基板1上に図2に示したコーティングをスパッタリングして行われた。厚さは、オングストローム(Å)単位である。比較例(CE)は、CEでスズ酸亜鉛層14に隣接したスズ酸化物層が本発明の実施例2で存在しないことを除いて本発明の実施例2と同一なことが分かる(「n/a」は、この例で適用可能な層が存在しないことを意味する)。すなわち、本発明に係る実施例2は、(CEにて、間にスズ酸化物層を有するのとは異なり)実施例2でスズ酸亜鉛層14がNiCrOx接触層11に直接接触することとスズ酸亜鉛厚さを除いては、比較例(CE)と本質的に同一である。スズ酸亜鉛層は、ZnSnターゲットを介して52/48のZn/Sn重量%比でスパッタリングされた。
Claims (46)
- ガラス基板によって支持されるコーティングを含む被覆製品において、
前記ガラス基板によって支持される第1誘電体層と;
前記ガラス基板によって支持されて少なくとも前記第1誘電体層上に位置する銀を含む第1赤外線(IR)反射層と;
前記銀を含む第1IR反射層上に位置し、これと直接接触しているNi及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層と;
前記Ni及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層上に位置し、これと直接接触しているスズ酸亜鉛を含む層と;
前記スズ酸亜鉛を含む層上に位置し、これと直接接触しているシリコン窒化物を含む第1層と;
少なくとも前記シリコン窒化物を含む第1層上に位置する銀を含む第2IR反射層と;
少なくとも前記第2IR反射層上に位置するまた他の誘電体層と;
を含む、被覆製品。 - 前記銀を含む第2IR反射層下に位置し、これと直接接触している亜鉛酸化物を含む層をさらに含む、請求項1に記載の被覆製品。
- 前記上部接触層は、NiCrの酸化物を含む、請求項1〜2のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記第1誘電体層は、シリコン窒化物を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記また他の誘電体層は、スズ酸化物を含む、請求項1〜4のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記シリコン窒化物を含む第1層とシリコン窒化物を含む追加の層との間に位置し、これらと直接接触しているNiCrを含む層をさらに含む、請求項1〜5のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記銀を含む第1IR反射層下に位置し、これと直接接触している亜鉛酸化物を含む層をさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、銀を含む2つ以下のIR反射層を有する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、Snより多くのZnを含有する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、金属含有量に対して、51〜90%Zn及び10〜49%Sn(重量%)を含有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、実質的に十分に酸化される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、本質的にスズ酸亜鉛で構成された、請求項1〜11のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティングは、シート抵抗(Rs)が3.0Ω/□以下である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品は、一体型で測定された可視光線透過率が少なくとも約40%である、請求項1〜13のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記被覆製品が熱処理される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層が前記コーティング内で最も厚い層である、請求項1〜15のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、前記Ni及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層より少なくとも5倍さらに厚い、請求項1〜16のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、前記スズ酸亜鉛を含む層上に位置し、これと直接接触しているシリコン窒化物を含む層の少なくとも2倍程厚い、請求項1〜17のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記銀を含む第2IR反射層は、前記銀を含む第1IR反射層より少なくとも40オングストロームさらに厚い、請求項1〜18のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、厚さが350〜600オングストロームである、請求項1〜19のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 少なくとも前記また他の誘電体層上に位置する銀を含む第3IR反射層をさらに含む、請求項1〜7のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品が0から30分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時5.0以下の透過率ΔE*値を有するようにする物質及び厚さである、請求項1〜21のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品が0から30分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時5.0以下のガラス側反射率ΔE*値を有するようにする物質及び厚さである、請求項1〜22のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品が0から24分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時4.0以下のガラス側反射率ΔE*値を有するようにする物質及び厚さである、請求項1〜23のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品が0から24分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時4.0以下の透過率ΔE*値を有するようにする物質及び厚さである、請求項1〜24のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品が0から30分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時0.60%以下のヘイズ%を有するようにする物質及び厚さである、請求項1〜25のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 前記コーティング層は、前記被覆製品の可視光線透過率が実質的に保持され、約650℃の熱処理温度で12から24分の熱処理時間の間で1.0%以下で変化する物質及び厚さである、請求項1〜26のいずれか一項に記載の被覆製品。
- 焼き戻し処理被覆製品の製造方法として、前記方法は、
ガラス基板によって支持されるコーティングを含む被覆製品において、前記コーティングが前記ガラス基板によって支持される第1誘電体層と、前記ガラス基板によって支持されて少なくとも前記第1誘電体層上に位置する銀を含む第1赤外線(IR)反射層と、前記銀を含む第1IR反射層上に位置し、これと直接接触しているNi及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層と、前記Ni及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層上に位置し、これと直接接触しているスズ酸亜鉛を含む層と、前記スズ酸亜鉛を含む層上に位置し、これと直接接触しているシリコン窒化物を含む第1層と、少なくとも前記シリコン窒化物を含む第1層上に位置する銀を含む第2IR反射層と、少なくとも前記第2IR反射層上に位置するまた他の誘電体層と、を含む被覆製品を、少なくとも600℃の温度で熱処理する工程を含み、
前記被覆製品の可視光線透過率は、実質的に保持され、前記熱処理の間の12〜24分の熱処理時間の間に1.0%以下で変化する、方法。 - 前記被覆製品は、透過率ΔE*値が0から30分の全ての期間の間の熱処理時5.0以下である、請求項28に記載の方法。
- 前記被覆製品は、ガラス側反射率ΔE*値が0から30分の全ての期間の間の熱処理時5.0以下である、請求項28又は29に記載の方法。
- 前記被覆製品は、ガラス側反射率ΔE*値が0から24分の全ての期間の間、約650℃で熱処理時4.0以下である、請求項28〜30のいずれか一項に記載の方法。
- 前記被覆製品は、透過率ΔE*値が0から24分の全ての期間の間の熱処理時4.0以下である、請求項28〜31のいずれか一項に記載の方法。
- 前記被覆製品は、ヘイズ%が0から30分の全ての期間の間、約650℃の熱処理時0.60%以下である、請求項28〜32のいずれか一項に記載の方法。
- 前記被覆製品は、前記銀を含む第2IR反射層下に位置し、これと直接接触している亜鉛酸化物を含む層をさらに含む、請求項28〜33のいずれか一項に記載の方法。
- 前記被覆製品は、前記シリコン窒化物を含む第1層とシリコン窒化物を含む追加の層との間に位置し、これらと直接接触しているNiCrを含む層をさらに含む、請求項28〜34のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コーティングは、銀を含む2つ以下のIR反射層を有する、請求項28〜35のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、金属含量に対して51〜90%Zn及び10〜49%Sn(重量%)を含有する、請求項28〜36のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、前記コーティング内で最も厚い層である、請求項28〜37のいずれか一項に記載の方法。
- 前記銀を含む第2IR反射層は、前記銀を含む第1IR反射層より少なくとも40オングストロームさらに厚い、請求項28〜38のいずれか一項に記載の方法。
- 前記スズ酸亜鉛を含む層は、厚さが350〜600オングストロームである、請求項28〜39のいずれか一項に記載の方法。
- 前記コーティングは、少なくとも前記また他の誘電体層上に位置する銀を含む第3IR反射層をさらに含む、請求項28〜35のいずれか一項に記載の方法。
- 焼き戻し被覆製品の製造方法として、
ガラス基板によって支持されるコーティングを含む被覆製品において、前記コーティングは、前記ガラス基板によって支持される第1誘電体層と、前記ガラス基板によって支持されて少なくとも前記第1誘電体層上に位置する銀を含む第1赤外線(IR)反射層と、前記銀を含む第1IR反射層上に位置し、これと直接接触しているNi及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層と、前記Ni及び/又はCrの酸化物を含む上部接触層上に位置し、これと直接接触しているスズ酸亜鉛を含む層と、前記スズ酸亜鉛を含む層上に位置し、これと直接接触しているシリコン窒化物を含む第1層と、少なくとも前記シリコン窒化物を含む第1層上に位置する銀を含む第2IR反射層と、少なくとも前記第2IR反射層上に位置するまた他の誘電体層と、を含む、被覆製品を、少なくとも600℃の温度で熱処理する工程、を含み、
前記被覆製品のヘイズ%は、0から30分の全ての熱処理期間の間の熱処理時0.60%以下である、方法。 - ガラス基板によって支持されるコーティングを含む被覆製品において、
前記ガラス基板によって支持される第1誘電体層と;
前記ガラス基板によって支持されて少なくとも前記第1誘電体層上に位置する銀を含む第1赤外線(IR)反射層と;
前記銀を含む第1IR反射層上に位置し、これと直接接触している上部接触層と;
前記上部接触層上に位置し、これと直接接触しているスズ酸亜鉛を含む層と;
前記スズ酸亜鉛を含む層上に位置し、これと直接接触しているシリコン窒化物を含む第1層と;
少なくとも前記シリコン窒化物を含む第1層上に位置する銀を含む第2IR反射層と;
少なくとも前記第2IR反射層上に位置するまた他の誘電体層と;
を含む、被覆製品。 - 前記銀を含む第2IR反射層下に位置し、これと直接接触している亜鉛酸化物を含む層をさらに含む、請求項43に記載の被覆製品。
- 前記上部接触層は、NiCrの酸化物を含む、請求項43に記載の被覆製品。
- 前記上部接触層は、Tiを含む、請求項43に記載の被覆製品。
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