TR201722929A2 - Low-e kaplamali cam - Google Patents
Low-e kaplamali cam Download PDFInfo
- Publication number
- TR201722929A2 TR201722929A2 TR2017/22929A TR201722929A TR201722929A2 TR 201722929 A2 TR201722929 A2 TR 201722929A2 TR 2017/22929 A TR2017/22929 A TR 2017/22929A TR 201722929 A TR201722929 A TR 201722929A TR 201722929 A2 TR201722929 A2 TR 201722929A2
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- layer
- dielectric layer
- znaiox
- nicrox
- tiox
- Prior art date
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 54
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 claims description 63
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 claims description 63
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 claims description 60
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 229910020776 SixNy Inorganic materials 0.000 claims description 48
- 229910020286 SiOxNy Inorganic materials 0.000 claims description 32
- -1 ZnSnOx Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 27
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910010421 TiNx Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 229910008328 ZrNx Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 7
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910003134 ZrOx Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 235000015097 nutrients Nutrition 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 310
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 23
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 2
- 235000008331 Pinus X rigitaeda Nutrition 0.000 description 1
- 235000011613 Pinus brutia Nutrition 0.000 description 1
- 241000018646 Pinus brutia Species 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000009191 jumping Effects 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000005368 silicate glass Substances 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3639—Multilayers containing at least two functional metal layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
Mimari ve otomotiv alanında kullanılmak üzere geliştirilmiş ısıl işlenebilir bir low-e kaplamalı (20) camdır (10).
Description
TEKNIK ALAN
Bulus, gün isigi geçirgen ve isi yalitim cami olarak kullanilan, isil islem dayanimi
yüksek ve içeriginde kizilötesi yansitici katmanlar olan bir düsük yayinimli (low-e)
kaplama ile ilgilidir.
ONCEKI TEKNIK
Camlarin optik özelliklerini farklilastiran etmenlerden biri cam yüzeyine yapilan
kaplama uygulamalaridir. Kaplama uygulamalarindan biri de vakum ortaminda
manyetik alan destekli siçratma yöntemidir. Ozellikle low-e özelligine sahip mimari
ve otomotiv kaplamalarin üretiminde sik basvurulan bir yöntemdir. Bahsedilen
yöntemle kaplanan camlarin günes enerjisi spektrumunun görünür, yakin kizilötesi
ve kizilötesi bölgedeki geçirgenlik ve yansitma degerleri hedeflenen seviyelerde
elde edilebilmektedir.
Geçirgenlik ve yansitma degerleri disinda, kaplamali camlarda seçicilik degeri de
önemli bir parametredir. Seçicilik, ISO 9050 (2003) standardinda görünür bölge
geçirgenlik degerinin solar faktöre orani olarak tanimlanmaktadir. Kaplamalarin
seçicilik degerleri de içerdigi Ag katmani sayisi, kullanilan çekirdeklestirici katman
türü, yansimayi düsürücü dielektrik katman kombinasyonlari ve katmanlarin
parametrik optimizasyonlari ile hedeflenen seviyelerde tutulabilmektedir.
US7901781 82 yayin numarali patentte mekanik ve kimyasal olarak kararli ve
temperlenebilir veya isil dayanimi olan bir low-e kaplamali camdan
bahsedilmektedir. Söz konusu patente konu low-e katman dizilimi iki adet
birbirinden bagimsiz gümüs katmani içermekte ve bu gümüs katmanlarinin
üzerinde NiCr camdan atmosfere dogru sirasiyla hem oksit hem de metal formunda
üst üste konumlanmaktadir.
BULUSUN KISA AÇIKLAMASI
Mevcut bulus ilgili teknik alana yeni avantajlar getirmek üzere, low-e kaplamali cam
ile ilgilidir.
Bulusun ana amaci, açisal renk degisimi azaltilmis bir low-e kaplamali cam ortaya
koymaktir.
Bulusun bir diger amaci, görünür bölge yansimasi seviyesi azaltilmis bir low-e
kaplamali cam ortaya koymaktir.
Yukarida bahsedilen ve asagidaki detayli anlatimdan ortaya çikacak tüm amaçlari
gerçeklestirmek üzere mevcut bulus, mimari ve otomotiv alaninda kullanilmak
üzere gelistirilmis isil islenebilir bir low-e kaplamali camdir. Buna göre söz konusu
bulusun özelligi; camdan disari dogru sirasiyla konumlanan;
- SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir
birinci dielektrik katman,
- NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir birinci
çekirdeklestirici katman,
- NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOxiden seçilen bir yutucu katman,
- Bir birinci kizilötesi yansitici katman,
- NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx 'den seçilen bir bariyer katman,
- SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAlOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx, den seçilen
bir üçüncü dielektrik katman,
- SixNy, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir dördüncü dielektrik
- NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci
çekirdeklestirici katman
- Bir ikinci kizilötesi yansitici katman,
- NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx'den seçilen bir ikinci bariyer katman,
- ZnSnOx, ZnAlOx, SiOxNy, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir
besinci dielektrik katman,
- SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren
birinci dielektrik katman
TiOx, ZrOx, NbOx'den seçilen bir ikinci dielektrik katman
NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx'den seçilen birinci çekirdeklestirici
NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx'den seçilen yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx “den seçilen bariyer katman
SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen
üçüncü dielektrik katman
SixNy, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren dördüncü dielektrik katman
NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx'den seçilen ikinci çekirdeklestirici
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx'den seçilen ikinci bariyer katman
ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen
besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCr, NiCrOx”den seçilen yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx 'den seçilen bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx'den seçilen ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCr içeren yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx'den seçilen bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx”den seçilen ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCrOx içeren yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx'den seçilen bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx'den seçilen ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCrOx içeren yutucu katman
Birinci kizilötesi yansitici katman
NiCr içeren bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx”den seçilen ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCrOx içeren yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOx içeren bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr, NiCrOx'den seçilen ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCrOx içeren yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOx içeren bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
ikinci kizilötesi yansitici katman
NiCr içeren ikinci bariyer katman
ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, camdan disari dogru sirasiyla
konumlanan;
SixNy içeren birinci dielektrik katman
TiOx içeren ikinci dielektrik katman
ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman
NiCrOX içeren yutucu katman
birinci kizilötesi yansitici katman
NiCrOx içeren bariyer katman
ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman
SixNy içeren dördüncü dielektrik katman
- ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman
- ikinci kizilötesi yansitici katman
- NiCrOx içeren ikinci bariyer katman
- ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman
- SiOxNy içeren üst dielektrik katman içermesidir.
Bulusun tercih edilen bir diger yapilanmasi, bahsedilen camin 8 °- 75° araligindaki
açisal renk degisiminin en fazla 2 birim olmasidir.
SEKILIN KISA AÇIKLAMASI
Sekil 1' de low-e kaplamanin temsili sematik bir görünümü verilmistir.
SEKILDE VERILEN REFERANS NUMARALARI
Cam
Low-e kaplama
21 Alt dielektrik yapi
211 Birinci dielektrik katman
212 Ikinci dielektrik katman
213 Birinci çekirdeklestirici yapi
2131 Birinci çekirdeklestirici katman
2132 Yutucu katman
22 Birinci kizilötesi yansitici katman
23 Birinci bariyer katman
24 Orta dielektrik yapi
241 Uçüncü dielektrik katman
243 Ikinci çekirdeklestirici katman
Ikinci kizilötesi yansitici katman
26 Ust dielektrik yapi
261 Ikinci bariyer katman
262 Besinci dielektrik katman
263 Ust dielektrik katman
BULUSUN DETAYLI AÇIKLAMASI
Bu detayli açiklamada bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) sadece
konunun daha iyi anlasilmasina yönelik hiçbir sinirlayici etki olusturmayacak
örneklerle açiklanmaktadir.
Mimari ve otomotive yönelik low-e kaplamali (20) camlarin (10) üretimi siçratma
(bundan sonra metinde sputter yöntemi olarak anilacaktir) yöntemi ile
gerçeklestirilmektedir. Bu bulus genel olarak; görünür bölge gün isigi geçirgenligi
(bundan sonra %Tvis olarak anilacaktir) orta seviyede olan ve isi yalitim cami (10)
olarak kullanilan, isil islem dayanimi yüksek olan çift gümüslü low-e kaplamali (20)
camlar (10) ve bahsedilen low-e kaplamanin (20) içerigi ve uygulamasi ile ilgilidir.
Bu bulusta, bir camin (10) yüzeyine uygulanmak üzere orta seviyede %TviS
degerine sahip, isil islenebilir ve açisal renk degisimi kabul edilebilir seviyede elde
edilecek sekilde tasarlanmis olan bir low-e kaplamali (20) cam (10) elde edebilmek
amaci ile sputter yöntemi kullanilarak cam (10) yüzeyinde konumlanan çoklu
sayida metal, metal oksit ve metal nitrür/oksinitrür katmanlarindan olusan bir low-e
kaplama (20) gelistirilmistir. Söz konusu katmanlar sirasi ile birbiri üzerine vakum
ortaminda biriktirilmektedir. Isil islem olarak temperleme, kismi temperleme,
tavlama, bükme ve Iaminasyon islemlerinden en az biri ve/veya birkaçi birlikte
kullanilabilmektedir. Bulus konusu low-e kaplamali (20) cam (10) mimari ve
otomotiv cami (10) olarak kullanilabilmektedir.
Gerek üretim kolayligi açisindan, gerekse optik özellikleri açisindan isil islenebilir
özellikte ideal low-e kaplama (20) dizilimini gelistirmek üzere deneysel çalismalar
neticesinde asagidaki veriler tespit edilmistir.
Bulus konusu low-e kaplamada (20) hedeflenen %TviS düzeyinde geçirip, kizilötesi
spektrumda isil radyasyonu yansitmayi saglayan bir birinci kizilötesi yansitici
katman (22) ve bir ikinci kizilötesi yansitici katmandir (25). Birinci kizilötesi
yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) olarak Ag katmani
kullanilmaktadir ve isi yayinimi düsüktür.
Bulus konusu low-e kaplamali (20) camda (10) tüm katmanlarin kirma indisleri
alinan tek katman blç'ümlerinden elde edilen optik sabitler üzerinden hesaplamali
yöntemler kullanilarak belirlenmistir. Söz konusu kirma indisleri 550 nm'deki kirma
indisi verileridir.
Bulus konusu kaplamada cama (10) temas edecek sekilde bir alt dielektrik yapi
(21) mevcuttur. Bahsedilen alt dielektrik yapida (21) en alt katman olarak bir birinci
dielektrik katman (211) kullanilmaktadir. Bahsedilen birinci dielektrik katman (211)
SixNy, SiOXNy, ZnSnOX, TiOx, TiNx, ZrNX katmanlarindan en az birini içermektedir.
Tercih edilen uygulamada birinci dielektrik katman (211) SiXNy içermektedir. SIXNy
içeren birinci dielektrik katmani (211), difüzyon bariyeri olarak davranarak, yüksek
sicaklikta kolaylasan alkali iyon göçünü engelleme amacina hizmet etmektedir.
Böylece SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211), kaplamanin (20) isil islem
süreçlerine dayanimina destek vermektedir. Silisyum oksit, standart soda-kireç-
silikat caminin ana bileseni oldugu için, SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211),
cama ve komsulugundaki diger katmana da çok iyi tutunmaktadir. SiXNy içeren
birinci dielektrik katmaninin (211) kirma indisi için degisim araligi 2,00 ile 2,10
arasindadir. Tercih edilen yapida SIXNy içeren birinci dielektrik katmaninin (211)
kirma indisi için degisim araligi 2.02 ile 2.08 arasindadir.
SiXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) kalinligi 5 nm - 20 nm arasindadir.
Tercih edilen uygulamada SIXNy içeren birinci dielektrik katmani (211) kalinligi 8 nm
- 18 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIXNy içeren birinci
dielektrik katmani (211) kalinligi 10 nm - 15 nm araligindadir.
Birinci çekirdeklestirici katman (213) ile SixNy içeren birinci dielektrik katman (211)
arasinda bir ikinci dielektrik katman (212) konumlanmaktadir. Bahsedilen ikinci
dielektrik katman (212) TIOX, ZrOX, NbOX katmanlarindan en az birini içermektedir.
Tercih edilen uygulamada ikinci dielektrik katman (212) olarak TiOX
kullanilmaktadir. TiOX; kirilma indisi yüksek bir malzeme oldugu için, daha az
kalinlik ile ayni optik performansin elde edilmesini saglamakta, low-e kaplamanin
(20) geçirgenlik performansini artirici rol oynamaktadir. SiXNy içeren birinci
dielektrik katmanindan (211) sonra gelen TiOX içeren ikinci dielektrik katmanin
2,50 arasindadir. TiOX içeren ikinci dielektrik katmani (212) kalinligi O nm - 10 nm
arasindadir. Tercih edilen uygulamada TiOX içeren ikinci dielektrik katmani (212)
kalinligi 1 nm - 8 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada TiOX içeren
ikinci dielektrik katmani (212) kalinligi 2 nm - 6 nm arasindadir.
Camdan sonraki birinci ve ikinci katmanlar olan SiXNy ve TiOX birlikte
kullanildiginda, TiOX'in yüksek kirilma indisi sayesinde, daha ince SIXNy katmani
kullanimi ile optik performansi optimize etmek mümkün olmaktadir. Belirtilen
kalinlik degerinin altinda her ne kadar low-e kaplamali (20) camin (10) geçirgenlik
performans degerleri degismese de renk ve optik performansinda ciddi degismeler
görülmektedir. Üzerinde olmasi durumunda ise low-e kaplamali (20) camin (10)
renk degerlerinden CIELAB uzayindaki geçirgenlik renk b* degeri ya da bir diger
ifade ile “Tb” degeri pozitif bölgeye yani sari renge kaymakta ve görünür bölge
kaplamasiz taraf yansima (bundan sonra %Rgvis olarak anilacaktir) artmaktadir
olmaktadir.
SixNy içeren birinci dielektrik katman (211) ile Ag içeren birinci kizilötesi yansitici
katman (22) arasinda en az bir birinci çekirdeklestirici yapi (213)
konumlanmaktadir. Birinci çekirdeklestirici yapi (213) NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOx,
ZnOx'den en az birini içermektedir. Birinci çekirdeklestirici yapi (213) en az bir
birinci çekirdeklestirici katman (2131) içermektedir. Bahsedilen birinci
çekirdeklestirici katman (2131) olarak NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX, ZnOX'den en
azindan biri kullanilmaktadir. Tercih edilen uygulamada birinci çekirdeklestirici
katman (2131) ZnAlOX içermektedir. ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman
(2131) kalinligi 13 nm - 23 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAIOX
içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131) kalinligi 15 nm - 213 nm arasindadir.
Daha da tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman
(2131) kalinligi 17 nm - 211 nm arasindadir.
Birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katmani (25)
arasinda konumlanarak birinci kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi
yansitici katmani (25) birbirinden ayiran ve low-e kaplama (20) katman diziliminin
hedeflenen performansa ulasmasini saglayan bir orta dielektrik yapisi (24)
mevcuttur. Bahsedilen orta dielektrik yapisi (24) en az bir dielektrik katman
içermektedir. Bulusun bir uygulamasinda orta dielektrik yapisi (24) en az bir
dielektrik katman ile birlikte dielektrik katman komsulugunda konumlanan en az bir
ikinci çekirdeklestirici katman (243) içermektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman
(243) NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOX, ZnOX”den en az birini içermektedir. Tercihen
ikinci çekirdeklestirici katman (243) ZnAIOX içermektedir. Bulusun tercih edilen
uygulamasinda orta dielektrik katman yapisi (24) SiXNy, TiNX, ZrNx, ZnSnOX,
ZnAIOX, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen en az iki dielektrik katman içermektedir.
Seçilen iki dielektrik katman birbirleri ile temas etmektedir. Orta dielektrik yapisi
(24) bir üçüncü dielektirik katman (241); bir dördüncü dielektirik katman (242) ve
ikinci çekirdeklestirici katmani (243) birlikte içermektedir. Orta dielektrik yapisi (24)
Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katmana (25) dogrudan temas edecek sekilde
konumlanmaktadir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda üçüncü dielektirik katman
(241) ZnAlOx, dördüncü dielektirik katman (242) SiXNy içermektedir.
Bahsedilen orta dielektrik yapisinin (24) içermis oldugu dielektrik katmanlarin
kalinliklari ve yapilari ayri ayri optimize edilerek cam tarafi ve hava tarafi yansima
ve renk degerleri hedeflenen degerlerin elde edilmesi konusunda daha fazla
seçenek olusturmaktadir. Orta dielektrik yapinin (24) sandviç formunda olmasi
hedeflenen yansima ve renk degerlerinin optimize edilebilmesi saglamasinin
yaninda Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25) optoelektronik özelliklerinin
iyilestirilmesi için gereklidir.
Söyle ki;
Orta dielektrik yapinin (24) tek ve kalin bir katmandan olusmasi halinde amorf
olmasi hedeflenen orta dielektrik katmanin kismen ve/veya tamamen kristalin bir
yapi gösterme olasiligi artmaktadir. Ag içeren ikinci kizilötesi yansitici katman (25)
ile dogrudan temasta olan ikinci çekirdeklestirici katman (243), kendisinin diger
yüzeyine temas eden katman üzerinde büyürken, büyüdügü katmanin
kristalizasyonundan etkilenmemesi için üzerinde büyüdügü bu katmanin amorf
yapida olmasi tercih edilmektedir. ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katmanin
(243) diger yüzeyine, amorf yapidaki SiXNy içeren dördüncü dielektrik katman (242)
temas etmektedir. Böylece kristalin uyumsuzluk gibi bir problem ve dolayisi ile
ikinci çekirdeklendirici katman (243) yapisinin kristalizasyonunun etkilenmesi ve
istenmeyen kalinti gerilimin olusmasi engellenmektedir. Buna ilaveten farkli bir
kristalografik oryantasyonun önüne geçilmektedir. Ikinci çekirdeklestirici katman
(243) özelindeki hassasiyet, ikinci kizilötesi katmanin (25) olmasi gereken
kristalografik oryantasyonda büyümesini saglamaktadir. Orta dielektrik yapi (24)
toplamda 80 nm - 110 nm araliginda bir kalinliga sahiptir. Tercih edilen
uygulamada orta dielektrik yapi (24) toplamda 85 nm - 100 nm araliginda bir
kalinliga sahiptir. Daha da tercihen orta dielektrik yapi (24) toplamda 88 nm - 95
nm araliginda bir kalinliga sahiptir.
Ikinci kizilötesi yansitici katman (25) üzerinde bir üst dielektrik yapi (26)
konumlanmaktadir. Bahsedilen üst dielektrik yapi (26) Ag içeren ikinci kizilötesi
yansitici katmani (25) komsulugunda konumlanan bir ikinci bariyer katman (261);
bir besinci dielektrik katman (262) ve bir üst dielektrik katman (263) içermektedir.
Besinci dielektrik katman (262) ZnSnOx, ZnAIOX, SiOxNy, SIOX, SixNy, TiOX,
ZnOx'den en az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada besinci dielektrik
katman ( kalinligi 5
nm - 17 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren besinci dielektrik
katman (262) kalinligi 7 nm - 15 nm arasindadir. Daha da tercih edilen
uygulamada besinci ZnAIOX içeren besinci dielektrik katman (262) kalinligi 8 nm -
14 nm arasindadir.
Orta dielektrik yapi (24) içerigindeki ZnAIOX içeren üçüncü dielektirik katmani (241)
kalinligi 14 nm - 24 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren
üçüncü dielektirik katmani (241) kalinligi 16 nm - 22 nm arasindadir. Daha da
tercih edilen uygulamada ZnAIOX içeren üçüncü dielektirik katmani (241) kalinligi
18 nm - 22 nm arasindadir. ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131),
ikinci dielektrik katman (241), ikinci çekirdeklestirici katman (243) ve besinci
dielektrik katman (262) için kirma indisi araligi 1,90 - 2,10 arasindadir. Tercih
edilen yapilanmada ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), ikinci
dielektrik katman (241), ikinci çekirdeklestirici katman (243) ve besinci dielektrik
katman (262) için kirma indisi araligi 1,95 - 2,10 arasindadir.
Bahsedilen dördüncü dielektrik katman (242), SiXNy, TiNx, ZrNX katmanlarindan en
az birini içermektedir. Tercih edilen uygulamada dördüncü dielektrik katman (242)
SiXNy içermektedir. SiXNy içeren dördüncü dielektrik katman (242) kalinligi 45 nm -
58 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada SIXNy içeren dördüncü dielektrik
katman (242) kalinligi 48 nm - 56 nm arasindadir. Daha da tercih edilen
uygulamada SiXNy içeren dördüncü dielektrik katman (242) kalinligi 50 nm - 54 nm
arasindadir.
ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) kalinligi 14 nm - 24 nm
arasindadir. Tercih edilen uygulamada ZnAlOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman
(243) kalinligi 16 nm - 22 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada
ZnAIOX içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) kalinligi 18 nm - 212 nm
arasindadir.
Bulus konusu mimari kullanima yönelik olan low-e kaplamali (20) ürünler için
hedeflenen geçirgenlik ve yansima degerlerini elde edebilmek Ag içeren birinci
kizilötesi yansitici katman (22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 6
nm - 18 nm arasindadir. Tercih edilen uygulamada Ag içeren birinci kizilötesi
yansitici katman (213) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 8 nm -16
nm arasindadir. Daha spesifik olarak hem hedeflenen performans degerine
ulasilmasi hem de istenilen renk özellikleri ve görünür bölgede düsük iç ve dis
yansima degerleri elde edilebilmesi için Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katman
(22) ve ikinci kizilötesi yansitici katman (25) kalinliklari 10 nm - 14 nm
araligindadir. Hedeflenen seçicilik ve optik performansin yakalanmasi için ürünün
gümüs içeren iki ayri kizilötesi yansitici katmana sahip olmasi gerekmektedir.
Hedeflenen performans degeri 6 mm alt cam (10) kullanimi için isil islem öncesi
görünür bölge geçirgenlik degeri %35 ile %52 arasinda olmasi tercih edilmektedir.
Daha tercihen, %37 ile %50 arasinda, daha da tercih edilen bir yapida ise %40 ile
günes enerjisi gecirgenligi degeri %14 ile %30 arasinda olmasi tercih edilmektedir.
Daha tercihen, %16 ile %28 arasinda, daha tercih edilen bir yapida ise %19 ile
de bu performansin elde edilmesi desteklenmelidir.
SIOXNy içeren üst dielektrik katman (263), tercih edildigi ve NiCr içeren bir ikinci
bariyer katman (261) ile dogrudan temas halinde olacak sekilde kullanildigi
durumda, NiCr içeren bir ikinci bariyer katmani (261) ile SIOXNy içeren üst dielektrik
katmani (263) birbirleriyle uyumsuz davranis göstermekte ve isil islem sonrasinda
delaminasyon gerçeklesmektedir. Bu amaçla patente konu olan low-e kaplamada
(20) bulunan NiCr içeren bir ikinci bariyer katmani (261) ile SIOXNy içeren üst
dielektrik katman (263) arasina bir besinci dielektrik katman (262) eklenerek
katmanlar arasi yapisma performansi artirilmistir. Besinci dielektrik katman (262)
ZnAIOX içermektedir.
Ust dielektrik katman (263) olarak SIXNy içeren katman yerine SIOXNy içeren bir
katman kullanildigi durumda, SIOXNy içeren katmanin kirma indisi, SIXNy içeren
katmanin kirma indisinden daha düsük oldugu için ayni optik davranis daha kalin
SiOXNy içeren bir katman ile elde edilebilmektedir. Böylece daha kalin bir üst
dielektrik katman (263) kullanilarak kaplamanin mekanik dayanimi artirilmaktadir.
SiOXNy içeren üst dielektrik katman (263) kalinligi 213 nm - 35 nm arasindadir.
Tercih edilen uygulamada SiOXNy içeren üst dielektrik katman (263) kalinligi 23 nm
- 33 nm arasindadir. Daha da tercih edilen uygulamada SIOXNy içeren üst dielektrik
katman (263) kalinligi 25 nm - 31 nm arasindadir.
Birinci çekirdeklestirici yapi (213) olarak ZnAIOX içeren birinci çekirdeklestirici
katman (2131) ve bir yutucu katman (2132) birlikte kullanilmaktadir. Yutucu katman
(2132) birinci kizilötesi katman (22) olan Ag ile temas etmektedir.
Bulusun bir uygulamasinda yutucu katman (2132) NiCr içermektedir. Tercih edilen
yapilanmada yutucu katman (2132) NiCrOX içermektedir. Yutucu katman (2132)
kalinligi 2,0 nm - 5,5 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada yutucu katmani
kalinligi 2,5 nm - 4,5 nm araligindadir Yutucu katman (2132) olarak metalik NiCr
kullanilmasi durumunda low-e kaplamali (20) cam (10) disa yansima degeri
artmaktadir. Disa yansimayi düsürmek için kullanilan yutucu katmanin (2132) oksit
yapida olmasi tercih edilmektedir.
Bulus konusu low-e kaplamada (20) bir birinci bariyer katman (23) ve bir ikinci
bariyer katman (261) mevcuttur. Bahsedilen birinci bariyer katman (23), bahsedilen
ikinci bariyer katmani (261) NiCr, NiCrOX, TiOX, ZnAIOX katmanlarindan en az birini
içermektedir. Bulusun bir uygulamasinda birinci bariyer katmani (23) NiCr
içermektedir. Tercih edilen uygulamada birinci bariyer katmani (23) NiCrOX
içermektedir. NiCrOX içeren birinci bariyer katman (23) olan katmani kalinligi 1,0
nm - 5,5 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada NiCrOX içeren birinci bariyer
katman (23) olan katmani kalinligi 1,5 nm - 5,0 nm araligindadir. Daha tercihen
NiCrOX içeren birinci bariyer katman (23) olan katmani kalinligi 2,0 nm - 4,5 nm
araligindadir.
Bulusun bir uygulamasinda ikinci bariyer katmani (261) NiCrOX içermektedir.
Tercihen ikinci bariyer katmani (261) NiCr içermektedir. Ikinci bariyer katman (261)
kalinligi 1,5 nm - 5,5 nm araligindadir. Tercih edilen uygulamada ikinci bariyer
katman (261) kalinligi 1,8 nm - 5,3 nm araligindadir. Daha tercihen ikinci bariyer
katman (261) kalinligi 2,0 nm - 5,0 nm araligindadir.
Metalik NiCr içeren ikinci bariyer katmaninin (261) ikinci kizilötesi yansitici
katmandan (25) sonra konumlanmasi ile, metalik NiCr katmani camdan (10)
uzaklastirilmakta ve low-e kaplamali (20) camin (10) %ngs degeri
düsürülmektedir. Disa yansimayi düsürmek için kullanilan ikinci bariyer katmanin
(261) metal yapida olmasi tercih edilmektedir. Low-e kaplamali (20) camin (10) cift
cam ve isil islem öncesi görünür bölge içe ve disa yansima degerleri asagida
verilmektedir.
Tablo 1: Görünür bölge yansima degerleri
Içe Yansima (%) 15-18
Disa Yansima (%) 12-16
NiCrOX içeren birinci bariyer katman (23); Ag içeren birinci kizilötesi yansitici
katmanindan (22) sonra gelen katmanlarin üretimi için kullanilan proses
gazlarindan Ag içeren birinci kizilötesi yansitici katmaninin (22) etkilenmemesi için
kullanilmaktadir. Ayni zamanda NiCrOX içeren birinci bariyer katmani (23), Ag
katmanindan sonra gelerek dielektrik katmanlar arasindaki metalik ve dielektrik
geçisinde yapisal uyumu saglayarak isil islem öncesi olasi yapisma zayifligini
bertaraf etmektedir.
Yukarida diziliminde bahsedilen optimize edilmis low-e kaplamali (20) camin (10)
isil islem sonrasi cam tarafi yansima a* degeri (Rg-a*) açisal renk degisimi tablo
2'de verilmektedir.
Tablo 2: Low-e kaplamali (20) camin (10) açisal renk degisimi
Açisal renk degisimi, tüm katmanlarin birlikte ve belirtilen kalinlik araliklarinda
kaplanmasi ile düsük tutulabilmektedir. Birinci bariyer katman (23) için metalik NiCr
yapisi kullanilmasi durumunda her ne kadar yansima düsürülse de açisal renk
degisimi artmaktadir. Dolayisi ile 75° ve altindaki açisal renk degisimini disa
yansima a* degerini 2 birimin altinda ve negatif bölgede tutabilmek üzere birinci
kizilötesi yansitici katmandan (22) sonra gelen birinci bariyer katman (23) olarak
oksit yapisinda olan NiCrOX kullanilmasi ve ikinci bariyer katman (261) olarak
metalik yapidaki NiCr kullanilmasi, kaplamanin açisal renk degisiminin düsük
olmasi açisindan önem tasimaktadir.
Bulusun koruma kapsami ekte verilen istemlerde belirtilmis olup kesinlikle bu
detayli anlatimda örnekleme amaciyla anlatilanlarla sinirli tutulamaz. Zira teknikte
uzman bir kisinin, bulusun ana temasindan ayrilmadan yukarida anlatilanlar
isiginda benzer yapilanmalar ortaya koyabilecegi açiktir.
Claims (8)
1. Mimari ve otomotiv alaninda kullanilmak üzere gelistirilmis isil islenebilir bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir birinci dielektrik katman (211), NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir birinci çekirdeklestirici katman (2131), NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOxlden seçilen bir yutucu katman (2132), Bir birinci kizilötesi yansitici katman (22), NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx 'den seçilen bir bariyer katman (23), SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAlOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen bir üçüncü dielektrik katman (241 ), SixNy, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren bir dördüncü dielektrik NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen bir ikinci Bir ikinci kizilötesi yansitici katman (25), NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx'den seçilen bir ikinci bariyer katman (261), ZnSnOx, ZnAlOx, SiOxNy, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen bir besinci dielektrik katman (262), SiOxNy içeren bir üst dielektrik katman (263) içermesidir. .
Istem 1'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; SixNy, SiOxNy, ZnSnOx, TiOx, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren birinci dielektrik katman (211), TiOx, ZrOx, NbOx'den seçilen bir ikinci dielektrik katman (212), NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAlOx, ZnOx'den seçilen birinci çekirdeklestirici - NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOxlden seçilen yutucu katman (2132), - birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx 'den seçilen bariyer katman (23), - SixNy, TiNx, ZrNx, ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, TiOx, ZnOx' den seçilen üçüncü dielektrik katman (241 ), - SixNy, TiNx, ZrNx'den en az birini içeren dördüncü dielektrik katman (242), - NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx, ZnOx'den seçilen ikinci çekirdeklestirici - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOx, TiOx, ZnAIOx”den seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnSnOx, ZnAIOx, SiOxNy, SiOx, SixNy, TiOx, ZnOx'den seçilen besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
3. Istem 2”ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; - SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), - TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), - ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), - NiCr, NiCrOx'den seçilen yutucu katman (2132), - birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCr, NiCrOx 'den seçilen bariyer katman (23), - ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), - SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), - ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOx”den seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
4. istem 2'ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; - SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), - TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), - ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), - NiCr içeren yutucu katman (2132), - birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCr, NiCrOx'den seçilen bariyer katman (23), - ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), - SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), - ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOxiden seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
5. Istem 2”ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; - SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), - TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), - ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), - NiCrOx içeren yutucu katman (2132), - birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCr, NiCrOx'den seçilen bariyer katman (23), - ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), - SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), - ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOx”den seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
6. istem 5'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; - SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), - TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), - ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), - NiCrOx içeren yutucu katman (2132), - Birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCr içeren bariyer katman (23), - ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), - SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), - ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOxiden seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
7. Istem 5'e göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; - SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), - TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), - ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), - NiCrOx içeren yutucu katman (2132), - birinci kizilötesi yansitici katman (22), - NiCrOx içeren bariyer katman (23), - ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), - SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), - ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) - ikinci kizilötesi yansitici katman (25), - NiCr, NiCrOx”den seçilen ikinci bariyer katman (261), - ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), - SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir.
8. istem 7'ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), NiCrOx içeren yutucu katman (2132), birinci kizilötesi yansitici katman (22), NiCrOx içeren bariyer katman (23), ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) ikinci kizilötesi yansitici katman (25), NiCr içeren ikinci bariyer katman (261), ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir. . Istem 7'ye göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; camdan (10) disari dogru sirasiyla konumlanan; SixNy içeren birinci dielektrik katman (211), TiOx içeren ikinci dielektrik katman (212), ZnAIOx içeren birinci çekirdeklestirici katman (2131), NiCrOx içeren yutucu katman (2132), birinci kizilötesi yansitici katman (22), NiCrOx içeren bariyer katman (23), ZnAIOx içeren üçüncü dielektrik katman (241), SixNy içeren dördüncü dielektrik katman (242), ZnAIOx içeren ikinci çekirdeklestirici katman (243) ikinci kizilötesi yansitici katman (25), NiCrOx içeren ikinci bariyer katman (261), ZnAIOx içeren besinci dielektrik katman (262), SiOxNy içeren üst dielektrik katman (263) içermesidir. 10.0nceki istemlerden herhangi birine göre bir low-e kaplamali (20) cam (10) olup özelligi; bahsedilen camin (10) 8 °- 75° araligindaki açisal renk degisiminin en fazla 2 birim olmasidir.
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2017/22929A TR201722929A2 (tr) | 2017-12-29 | 2017-12-29 | Low-e kaplamali cam |
| PCT/TR2018/050662 WO2019132824A1 (en) | 2017-12-29 | 2018-11-06 | Low-e coated glass |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2017/22929A TR201722929A2 (tr) | 2017-12-29 | 2017-12-29 | Low-e kaplamali cam |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR201722929A2 true TR201722929A2 (tr) | 2018-02-21 |
Family
ID=67067913
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2017/22929A TR201722929A2 (tr) | 2017-12-29 | 2017-12-29 | Low-e kaplamali cam |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| TR (1) | TR201722929A2 (tr) |
| WO (1) | WO2019132824A1 (tr) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020130980A3 (en) * | 2018-12-18 | 2021-02-18 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | A low-e coated architectural glass having high selectivity |
| RU2788500C1 (ru) * | 2018-12-18 | 2023-01-20 | Туркые Сысе Ве Джам Фабрыкалары Аноным Сыркеты | Имеющее низкоэмиссионное покрытие архитектурное стекло с высокой селективностью |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN111825339A (zh) * | 2020-08-11 | 2020-10-27 | 浙江旗滨节能玻璃有限公司 | 中性灰低辐射镀膜玻璃及制备方法 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1829835A1 (de) * | 2006-03-03 | 2007-09-05 | Applied Materials GmbH & Co. KG | Infrarotstrahlung reflektierendes Schichtsystem sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| US8834976B2 (en) * | 2010-02-26 | 2014-09-16 | Guardian Industries Corp. | Articles including anticondensation and/or low-E coatings and/or methods of making the same |
| US9873633B2 (en) * | 2013-11-20 | 2018-01-23 | Guardian Europe S.A.R.L. | Heat treatable coated article with low-E coating having zinc stannate based layer between IR reflecting layers and corresponding method |
-
2017
- 2017-12-29 TR TR2017/22929A patent/TR201722929A2/tr unknown
-
2018
- 2018-11-06 WO PCT/TR2018/050662 patent/WO2019132824A1/en active Application Filing
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2020130980A3 (en) * | 2018-12-18 | 2021-02-18 | Turkiye Sise Ve Cam Fabrikalari Anonim Sirketi | A low-e coated architectural glass having high selectivity |
| RU2788500C1 (ru) * | 2018-12-18 | 2023-01-20 | Туркые Сысе Ве Джам Фабрыкалары Аноным Сыркеты | Имеющее низкоэмиссионное покрытие архитектурное стекло с высокой селективностью |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2019132824A1 (en) | 2019-07-04 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR101677572B1 (ko) | 열 특성을 갖는 스택을 구비하고 고 굴절률의 층을 포함하는 기재 | |
| RU2707829C2 (ru) | Материал, снабженный системой тонких слоев с термическими свойствами | |
| US11214514B2 (en) | Optical film exhibiting improved light to solar gain heat ratio | |
| EA030587B1 (ru) | Прозрачное солнцезащитное остекление | |
| MX2013010055A (es) | Capas barrera que comprenden ni y/o ti, articulos revestidos que incluyen capas barrera y metodos para hacer los mismos. | |
| JP2014524405A (ja) | 熱処理が可能な低放射ガラス及びその製造方法 | |
| RU2578071C1 (ru) | Ir-отражающая и прозрачная система слоев, имеющая стабильную окраску, и способ ее изготовления, стеклоблок | |
| KR101499288B1 (ko) | 저방사 코팅막 및 이를 포함하는 건축 자재 | |
| US10207952B2 (en) | Glazing comprising a substrate coated with a stack comprising a functional layer made from silver and a thick blocking underlayer made from TiOx | |
| KR20200120936A (ko) | 규소 질화물 및/또는 규소 산소질화물을 함유하는 보호 코팅을 갖는 코팅된 물품 | |
| TR201819743A2 (tr) | Yüksek seçi̇ci̇li̇ğe sahi̇p low-e kaplamali mi̇mari̇ cam | |
| EA030367B1 (ru) | Отражающее инфракрасное излучение стекло и способ его изготовления | |
| TR201722929A2 (tr) | Low-e kaplamali cam | |
| WO2017178171A1 (en) | Antireflective glass substrate and method for manufacturing the same | |
| TR201718310A2 (tr) | Isil i̇şlenebi̇li̇r bi̇r low-e kaplama ve üreti̇m yöntemi̇ | |
| WO2016181739A1 (ja) | 車両用の断熱ガラスユニット | |
| KR20180050716A (ko) | 박층 스택을 포함하는 글레이징 | |
| EP4288394A2 (en) | A low-e coating including double silver and with high transmittance and with increased mechanical resistance | |
| RU2715000C1 (ru) | Подложка, покрытая термически обрабатываемым низкоэмиссионным слоем | |
| TR201801333A2 (tr) | Yüksek isi kontrollü bi̇r low-e kaplamali cam | |
| TR2022014362A2 (tr) | Açisal renk deği̇şi̇mi̇ azaltilmiş bi̇r low-e kaplamali cam | |
| WO2019190419A2 (en) | Low-e coated glass with increased transmittance | |
| EP4284763A1 (en) | A low-e coating including double silver and with high transmittance and with increased thermal reflection | |
| TR2022002129A2 (tr) | Orta geçi̇rgenli̇kte lowe kaplamali cam | |
| TR2022005047A2 (tr) | Cam yüzeyler i̇çi̇n bi̇r low-e kaplama ve low-e kaplama i̇çeren bi̇r cam |