KR20160088394A

KR20160088394A - Ir 반사층 사이의 주석산 아연 기반 층을 갖는 저-e 코팅을 포함하는 열처리 가능한 코팅 제품 및 상응하는 방법

Info

Publication number: KR20160088394A
Application number: KR1020167016300A
Authority: KR
Inventors: 피에르 팔로타; 호세 페레이라; 허버트 라게; 마르크스 프랭크
Original assignee: 센트르 룩셈부르크게오이 데 레체르체 푸으 르 베르 에 라 세라미끄 에스. 에이. (씨.알.브이.씨.)
Priority date: 2013-11-20
Filing date: 2014-11-10
Publication date: 2016-07-25
Also published as: US20150140354A1; RU2666809C1; US9873633B2; CA2930394A1; BR112016011140B1; CN106164003B; PL3071530T3; EP3071530B1; WO2015077064A3; WO2015077064A2; BR112016011140A2; CA2950498A1; US20180111873A1; ES2952365T3; JP2017506203A; RU2016124111A; EP3071530A2; US10287209B2; JP6553031B2; CN106164003A

Abstract

특정한 예에서 열처리(예를 들면, 열 강화)될 수 있는 코팅 제품이 제공된다. 특정한 예의 실시형태에서, 코팅 제품은 은 기반 적외선(IR) 반사층 상에 제공된 주석산 아연 기반 층을 갖는 저 방사율 (저-E) 코팅을 포함하고,주석산 아연 기반층은 바람직하게 제1 및 제2 은 기반 IR 반사층 사이에 위치한다. 주석산 아연 기반 층은, (i) Ni 및/또는 Cr (또는 Ti, 또는 TiOx)의 또는 이를 포함하는 상부접촉층, 및 (ii) 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 층 사이에 접촉해서 제공될 수 있다.

Description

IR 반사층 사이의 주석산 아연 기반 층을 갖는 저-E 코팅을 포함하는 열처리 가능한 코팅 제품 및 상응하는 방법{HEAT TREATABLE COATED ARTICLE WITH LOW-E COATING HAVING ZINC STANNATE BASED LAYER BETWEEN IR REFLECTING LAYERS AND CORRESPONDING METHOD}

본 발명은 저방사율(저-E) 코팅을 포함하는 코팅 제품에 관한 것이다. 특정한 예의 실시형태에서, 코팅 제품은 열처리(예를 들면, 열 강화(thermally tempered), 열 굽힘(heat bent) 및/또는 반강화(heat strengthened))될 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅 제품은, 은 기반 적외선(IR) 반사층에 근접해서(예를 들면, 그 상에) 제공되는 주석산 아연 기반 층을 포함하고, 바람직하게 주석산 아연 기반 층은 제1 및 제2 은 기반 IR 반사층 사이에 위치한다. 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 기반 층은 (i) Ni 및/또는 Cr의 또는 이를 포함하는 상부접촉층 및 (ii) 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 층 사이에 접촉해서 제공되고, 예를 들면, 유리 기판으로부터의 층 스택은, 유리 . . . Ag/NiCrOx/ZnSnO/SiN . . . Ag . . .을 포함하는 층을 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시형태에 따른 저-E 코팅은 예를 들면, 2개 또는 3개의 은 기반 IR 반사층을 가질 수 있다. 놀랍게도 주석산 아연 기반층을 제공하면, 열처리(HT) 시 개선된 열 안정성을 갖는 코팅 제품을 형성하는 것을 발견했다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에 따른 코팅 제품은 열처리되거나 열처리되지 않을 수 있고, 예시의 용도에서 모노리식 또는 IG 윈도우 유닛 등의 윈도우에서 사용될 수 있다.

해당 분야에서, 코팅 제품이 단열 유리(IG) 윈도우 유닛 등과 같은 윈도우 용도에서 사용되는 것은 공지되어 있다. 특정 예에서 강화, 굽힘, 등의 목적을 위해서는 이러한 코팅 제품의 열처리(예를 들면, 열 강화, 열 굽힘, 및/또는 반강화)가 바람직하다는 것을 알 수 있다. 일반적으로 코팅 제품의 열처리(HT)는 적어도 580℃, 더 바람직하게 적어도 약 600℃, 더욱 더 바람직하게 적어도 620℃의 온도를 사용하는 것을 필요로 한다. 이러한 높은 온도(예를 들면, 약 5 내지 10분 이상)에서는 종종 코팅이 파괴되고 및/또는 열화되거나, 예기치 않게 변화된다. 따라서, HT가 요구되는 경우, 코팅을 상당히 손상시키지 않는 예측 가능한 방법으로 이러한 열처리(예를 들면, 열 강화)에 견딜 수 있는 코팅이 바람직하다.

강화 코팅 유리 제품을 생산하기 위해서, 저-E 코팅과 같은 건축 코팅은 일반적으로 열처리가 요구된다. 강화 유리는 비강화 유리에 비해 비싸기 때문에, 강화 코팅 제품은 일반적으로 필요로 하는 경우에만 이용된다. 따라서, 시장에서 제공되는 2개의 제품 - 열처리된 제품 및 열처리되지 않은 제품 - 즉 특이적 색상 및 열 성능을 갖는 실제 "코팅된" (AC) 제품, 또한 열 강화와 같은 열처리 후의 성능 및 색상에 대해 AC 제품에 실질적으로 매칭하는 열처리(HT) 메이트(mate) 제품이 바람직하다. AC와 HT 메이트 사이의 색 매칭은, 2개의 제품이 구체적인 방법으로 나란히 적용될 때 실질적으로 또는 필수적으로 육안으로 구별될 수 없도록 충분히 유사한 것이 바람직하다. 이것은, (a) AC 및 HT 제품이 동일한 또는 유사한 코팅을 갖는 경우, (b) 코팅 제품이 열처리된 경우(예를 들면, 열 강화) 및 (c)열처리된 코팅 제품이 낮은 ΔE* 값(예를 들면, 5.0 이하, 더 바람직하게 4.0 이하의 ΔE* 값)인 경우에, 달성된다. HT에 기인한 저ΔE* 값은, 예를 들면, 코팅 제품의 색상이, HT 버전이 코팅 제품의 비-HT 버전에 실질적으로 매칭되도록, HT에 의해서 상당히 변화되지 않는 것을 나타낸다.

ΔE^*는, 해당 분야에서 잘 이해되고, Hunter et. al., The Measurement of Appearance, 2^nd Ed. Cptr. 9, page 162 et seq. [John Wiley & Sons, 1987] 에 보고된 것과, ASTM- 2244-93에서 ΔE^*를 결정하기 위한 다양한 기술과 함께 보고된다. 해당 분야에서 사용된 바와 같이, ΔE^*(및 ΔE)를, 열처리 후 또는 열처리에 의해 제품의 반사율 및/또는 투과율을 적절하게 변화(결핍)시키는 (따라서 색상이 발색되는) 방법이다. ΔE는 "ab"기술 또는 Hunter 기술 (하첨자 "H"로 지정됨)에 의해 산출될 수 있다. ΔE는 Hunter Lab L, a, b 스케일(또는 L_h, a_h, b_h)에 상응한다. 마찬가지로, ΔE^*는 CIE LAB Scale L*, a*, b*에 상응한다. 이러한 방법 모두 유용한 것으로 고려되고 본 발명의 목적과 일치한다. 예를 들면, 상기 참조된 Hunter et. al. 에 보고된 바와 같이, L*, a*, b* 스케일로서 공지된 직사각형 좌표/스케일 기술(CIE LAB 1976)이 사용될 수 있고, L*는 (CIE 1976) 명도 유닛이고; a*는 (CIE 1976) 적녹색 유닛이고, b*는 (CIE 1976) 황청색 유닛이고; L*_oa*_ob*_o와 L*₁a*₁b*₁사이의 거리 ΔE^*는 [(ΔL*)²+(Δa*)²+(Δb*)²]^1/2이고, ΔL*=L*₁-L*₀; Δa*=a*₁-a*₀; Δb*=b*₁-b*₀; 하첨자 "o"는 열처리 전 (코팅 제품) 코팅을 나타내고, 하첨자 "l"은 열처리 후 (코팅 제품) 코팅을 나타내고; 사용된 수치(예를 들면, a*, b*, L*)는 상기(CIE LAB 1976) L*, a*, b* 좌표 기술에 의해 산출된다. 예를 들면, 유리측 반사율 ΔE^*이 측정되면, 유리 측 반사율 a*, b* 및 L* 이 사용된다. 마찬가지로, ΔE는 상기 ΔE^*의 식(즉, [ΔE^* = (ΔL*)²+(Δa*)²+(Δb*)²]^1/2)에서, a*, b*, L* 를 Hunter Lab 값 (a_h, b_h, L_h)으로 교체함으로써 산출될 수 있다. 본 발명의 범위 내에서, ΔE^*의 정량화는, 상기 기재된 것과 동일한 개념의 ΔE^*을 사용하는 임의의 다른 기술에 의해 산출된 것으로 전환되는 경우 동일한 수치이다. ΔE* 는 참조로 본원에 포함된 미국 특허 제7,964,284호에 정의된다.

HT 처리 동안, 코팅된 유리는 650℃ 내지 750℃ 사이의 온도로 가열된 후, 고속으로 냉각되어 고유 응력을 형성하고, 더 높은 강도로 되어, 파괴시 미세한 파괴 패턴으로 될 수 있다. 이러한 높은 온도 처리는, 코팅 내에서 상이한 공정(예를 들면, 산화, 재결정, 확산, 부피 변화, 응력 증가 또는 완화)을 일으키고 코팅 제품의 컬러 밸유(color value)를 변화시키는 경향이 있다. 따라서, 코팅 내에서 변화(예를 들면, a* 및/또는 b* 컬러 밸유의 변화에 의해서 나타낸 색상 변화)하는 것이 바람직하고 이러한 변화는 HT 공정에 의한 것이며, HT 시간 변화에 의해서 예측 가능하다.

하기에 설명된 바와 같이, HT 버전은 적당한 상이한 기간 동안 열처리될 수 있지만, AC 및 HT 메이트가 색상에 대해서 실질적으로 매칭되는(즉, 열처리되지 않은 AC 제품 및 열처리된 HT 제품과 실질적으로 매칭한다) 것이 바람직하다. 실제, 저-E 코팅은 4 mm 내지 12 mm의 다양한 상이한 유리 두께로 적용되고, 이러한 각각의 유리 두께는, 필요한 강화 유리 특성을 달성하기 위해서, HT 공정 동안 상이한 가열 계획을 필요로 한다. 일반적으로, 두꺼운 유리는, 긴 시간 및/또는 고온에서 가열될 필요가 있고 저속으로 냉각된다. 코팅 제품은, 일반적으로 퍼니스의 상이한 모델 및 형태, 예를 들면, 조사(irradiation) 퍼니스, 대류 퍼니스 또는 하이브리드 모델을 이용하는 다양한 소비자에게 판매된다. 이러한 각각의 퍼니스 형태에서, 유리 및 코팅으로의 열전달이 상이하다.

따라서, 적당한 상이한 퍼니스 형태 및 유리 두께에 무관하게 HT 제품의 HT 공정 후, HT 제품이, 색상에 대해 유사한 또는 동일한 코팅을 갖는 어닐링된 제품 및 비-강화제품과 실질적으로 매칭하는 열 안정 제품을 달성하는 것이 바람직하다. 즉, HT 제품이 특정한 HT 기간, 예를 들면, 10분, 16 분 및/또는 24 분 중 하나 이상 내에 낮은 ΔE* 값, 예를 들면, 5.0 이하, 더 바람직하게 4.0 이하의 ΔE* 값을 실현하는 것이 바람직하다.

HT 공정 중에 코팅 내에서 발생하는 상기 기재된 공정으로 인해, 일부 성능 및 색상 변화가 회피될 수 없다. 그러나, 색상 변화가 발생하는 경우, 퍼니스 형태에 무관하게 HT 공정의 증가한 강화 기간에 걸친 색상 변화에 대해 실질적으로 안정하게 유지할 수 있도록, 열처리된 제품이 실질적으로 HT 공정의 초기 16분쯤 내에 최종 소망의 컬러 밸유에 도달하도록, 대부분의 이러한 변화가, HT 공정의 초기 또는 HT 공정의 단기간 내에(예를 들면, HT의 초기 8 내지 16분, 또는 초기 10 내지 12분 또는 10 내지 16분) 발생하는 것이 바람직하다. 물론, HT 기간은, 경우에 따라 16 분 미만이다. 예를 들면, 24분의 예시의 HT 공정을 가정하면, 코팅 제품이 약 16분 내지 24분에 걸친 색상 변화에 대해 실질적으로 안정하게 유지될 수 있도록, 코팅 제품은, 실질적으로 HT 공정의 초기 16분 내에 최종 바람직한 컬러 밸유를 실현하는 것이 바람직하다. 또 다른 방법으로, 코팅 제품은, 24분 열처리 공정의 0 내지 16분 기간 동안 보다 HT의 16 내지 24 분 기간 동안 낮은 ΔE* 값을 실현하는 것이 바람직하다. 따라서, 예를 들면, 동일한 코팅을 포함한 한 쌍의 열 강화 제품은, 하나가 12분 동안 열처리되고 다른 하나가 20분 동안 열처리되는 경우에, 실질적으로 매칭된다.

특정한 상황에서, 코팅 제품의 설계자들은, 바람직한 가시투과율, 바람직한 색상, 저 방사율(또는 방사도) 및 저 시트 저항(R_s)의 조합을 시도한다. 저-방사율(저-E) 및 저 시트 저항 특징에 의해서, 이러한 코팅 제품에 의해, 상당량의 IR의 조가 차단되어 차량 또는 건물 내부의 바람직하지 않은 가열을 줄일 수 있다.

본 발명의 예시의 실시형태는 유리 기판에 의해서 지지된 저방사율(저-E) 코팅을 포함하는 코팅 제품에 관한 것이다. 코팅 제품은 열처리(예를 들면, 열 강화, 열 굽힘 및/또는 반강화)될 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅 제품은, 은 기반 적외선(IR) 반사층 상에 제공되는 주석산 아연 기반 층을 포함하고, 바람직하게 주석산 아연 기반 층은 제1 및 제2 은 기반 IR 반사층 사이에 위치한다. 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 기반 층은 (i) Ni 및/또는 Cr의 또는 이를 포함하는 상부접촉층 및 (ii) 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 층 사이에 접촉해서 제공되고, 예를 들면, 유리 기판으로부터 층 스택은, 유리 . . . Ag/NiCrOx/ZnSnO/SiN . . . Ag . . . 을 포함하는 층을 포함할 수 있다. 본 발명의 다양한 실시형태에 따른 저-E 코팅은, 예를 들면, 2개 또는 3개의 은 기반 IR 반사층을 가질 수 있다. 놀랍게도 주석산 아연 기반층을 제공하면, 열처리(HT) 시 개선된 열 안정성을 갖는 코팅 제품을 형성하는 것을 발견했다. 이러한 코팅 제품은, 열처리되는 경우(예를 들면, 열 강화되는 경우), 10분, 16분, 및/또는 24분 중 하나 이상과 같은 특정한 HT 시간 내에 낮은 ΔE* 값 (유리측 반사율 및/또는 투과율), 예를 들면, 5.0 이하, 더 바람직하게 4.0 이하의 ΔE* 값을 실현한다. 또한, 놀랍게도 주석산 아연 기반 층이 제공되면, 제품의 유리측 반사율 및/또는 투과율 ΔE* 값이, 주석산 아연 기반 층이 존재하지 않는 경우(예를 들면, 주석산 아연 기반층 대신에 주석 산화물층이 있는 경우)에 비해, 놀랍게도 HT 시 소망의 방법으로 감소하는 것이 발견되었다. 본 발명의 특정한 예시의 실시형태에 따른 코팅 제품은, 열처리되거나 열처리되지 않을 수 있고, 예시의 용도에서 모노리식 또는 IG 윈도우 유닛 등의 윈도우에서 사용될 수 있다.

따라서, 10분, 16분, 및/또는 24분 중 하나 이상과 같은 특정한 HT 시간 내에 약 5.0 이하, 더 바람직하게 약 4.5 이하, 가장 바람직하게 4.0 이하의 유리측 반사율 ΔE* 값을 달성하기 위하여, (i) 소망의 가시투과율, (ii) 양호한 내구성, (iii) 소망의 착색, (iv) 소망의 방사율, (v) 저 헤이즈, 및/또는 (vi) HT 시 열 안정성 중 하나 이상을 특징으로 하는 코팅 제품을 제공하는 것이 바람직하다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로, 상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층; 상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층; 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층; 상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층; 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층; 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및 적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층; 을 포함하는, 코팅 제품이 제공된다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 열 강화 코팅 제품의 제조 방법으로서, 상기 방법은, 유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로, 상기 코팅이 상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층; 상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층; 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층; 상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층; 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층; 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및 적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층;을 포함하는, 코팅 제품을, 적어도 600℃의 온도에서 열처리하는 단계;를 포함하고, (i) 상기 코팅 제품의 가시투과율은 실질적으로 유지되어, 상기 열처리 동안 12 내지 24분의 열처리 시간 사이에 1.0% 이하로 변화되고 및/또는 (ii)코팅 제품은 0 내지 30분의 모든 시간 동안 열처리 시, 0.60% 이하의 헤이즈%를 갖는, 방법이 제공된다.

도 1은 본 발명의 예시의 실시형태에 따른 코팅 제품의 단면도이다.
도 2는 본 발명의 또 다른 예시의 실시형태에 따른 코팅 제품의 단면도이다.
도 3은 (IG 윈도우 유닛의 표면 2 상의)본 발명의 예시의 실시형태에 따른 IG 윈도우 유닛 내에 제공된 도 1 또는 도 2의 코팅 제품의 단면도이다.
도 4는 실시예 1 대 비교예(CE)를 플롯팅한 열처리 (HT) 시간 (단위:분), 대 가시투과율 (TY %) 그래프이다.
도 5는 실시예 1 대 비교예(CE)를 플롯팅한 열처리 (HT) 시간 (단위:분), 대 헤이즈 % 그래프이다.

구체적으로 수반하는 도면을 참조하고, 동일한 부호는 여러 도면/실시형태에서 동일한 부분을 나타낸다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에 따른 코팅 제품은, 단열 유리(IG) 윈도우 유닛, 차량 윈도우, 또는 다른 형태의 윈도우에 대해서 사용될 수 있다. 예를 들면, 본원에서의 코팅은 예를 들면, 도 3에 도시된 IG 윈도우 유닛의 표면 #2에 사용될 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에 따른 코팅 제품은, (i) 소망의 가시투과율, (ii) 양호한 내구성, (iii) 소망의 착색, (iv) 소망의 방사율, (v) 저 헤이즈, 및/또는 (vi) HT 시 열 안정성 중 1개, 2개, 3개, 4개, 5개 또는 6개 모두를 특징으로 한다.

본 발명의 예의 실시형태는 유리 기판(1)에 의해서 지지된 저방사율(저-E) 코팅(30)을 포함하는 코팅 제품에 관한 것이다. 코팅(30)은 스퍼터 증착될 수 있다. 코팅 제품은 열처리(예를 들면, 열 강화, 열 굽힘 및/또는 반강화)될 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅 제품은, 은 기반 적외선(IR) 반사층(9) 상에 제공되는 주석산 아연 기반 층(14)을 포함하고, 바람직하게 주석산 아연 기반 층(14)은 제1 및 제2 은 기반 IR 반사층(9 및 19) 사이에 위치한다. 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 기반 층(14)은 (i) Ni 및/또는 Cr의 또는 이를 포함하는 상부접촉층(11) 및 (ii) 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 층(15) 사이에 접촉해서 제공되고, 예를 들면, 유리 기판(1)으로부터 순서대로 IR 반사층 을 포함하고 및/또는 사이의 층 스택은, 유리 . . . Ag/NiCrOx/ZnSnO/SiN . . . Ag . . .을 포함하는 층을 포함할 수 있다 (예를 들면, 도 1 및 2에서 층(9, 11, 14 및 15) 참조). 본 발명의 다양한 실시형태에 따른 저-E 코팅은, 예를 들면, 2개 또는 3개의 은 기반 IR 반사층을 가질 수 있다.

또한, 놀랍게도 주석산 아연 기반 층(14)의 제공은, HT 시 개선된 열 안정성을 갖는 코팅 제품을 형성하는 것을 발견했다. 본 발명의 실시형태에 따른 코팅 제품은, 열처리되는 경우(예를 들면, 열 강화되는 경우), 10분, 16분, 및/또는 24분 중 하나 이상과 같은 특정한 HT 시간 내에, 낮은 ΔE* 값 (유리측 반사율 및/또는 투과율), 예를 들면, 5.0 이하, 더 바람직하게 4.0 이하의 ΔE* 값을 실현한다. 놀랍게도, 주석산 아연 기반층(14)의 제공은, 제품의 유리측 반사율 및/또는 투과율 ΔE* 값이, 놀랍게도 주석산 아연 기반 층(14)이 존재하지 않는 경우(예를 들면, 주석산 아연 기반층(14) 대신에 주석 산화물층이 있는 경우)에 비해 HT 시 소망의 방법으로 감소하는 것이 발견되었다.

예시의 실시형태에서, 유전체 주석산 아연(예를 들면, ZnSnO, Zn₂SnO₄, 등) 기반 층(14)은 Sn 중량보다 많은 Zn을 포함할 수 있다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 예를 들면, 주석산 아연 기반 층(14)의 금속 함량은 약 51 내지 90% Zn 및 약 10 내지 49% Sn, 더 바람직하게 약 51 내지 70% Zn 및 약 30 내지 49% Sn 을 포함하고, 일례로 약 52% Zn 및 약 48% Sn (중량%, 층 내의 산소와 함께)를 포함한다. 따라서, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 예를 들면, 주석산 아연 기반 층은 약 52% Zn 및 약 48% Sn을 포함하는 금속 타겟을 사용해서 스퍼터 증착될 수 있다. 선택적으로, 주석산 아연 기반 층(14)은 Al 등과 같은 그 외의 금속으로 도프될 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 코팅(30)은, 이중 은 스택을 포함하지만(예를 들면, 도 1 참조), 본 발명은 모든 예에서 한정되지 않는다(예를 들면, 특정한 예에서 3개의 은 기반 층은, 예를 들면, 도 2에 도시된 바와 같이 사용될 수 있다). 도 1 및 2는 모노리식 형태의 코팅 제품을 도시하는 것으로 인식된다. 예를 들면, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 다수개의 IR 반사층 (예를 들면, 2개 또는 3개의 이격된 은 기반 층)을 갖는 열처리 및/또는 비-HT 코팅 제품은 3.0 옴/스퀘어 이하 (더 바람직하게 2.5 이하, 더욱 더 바람직하게 2.0 이하, 및 가장 바람직하게 1.6 옴/스퀘어 이하)의 시트 저항 (R_s) 을 실현할 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, HT 또는 비-HT 형태의 모노리식 형태로 측정된 본원의 코팅 제품은, 적어도 약 40%, 더 바람직하게 적어도 약 50%, 더 바람직하게 적어도 약 55%, 가장 바람직하게 적어도 약 60% 의 가시투과율 (Ill. C, 2 degree)을 실현할 수 있다.

본원에 사용된 "열처리" 및 "열처리하는 것"은 유리-포함 코팅 제품의 열 강화, 열 굽힘 및/또는 반강화를 얻기 위해 충분한 온도까지 제품을 가열하는 것을 의미한다. 이 정의는, 강화, 굽힘 및/또는 반강화를 얻기 위해, 예를 들면, 적어도 약 580℃, 바람직하게 적어도 약 600℃의 온도에서 오븐 또는 퍼니스에서 충분한 기간 동안 코팅 제품을 가열하는 것을 포함한다. 특정한 예에서, 열처리는 본원에서 검토된 적어도 약 4 내지 5 분 이상 동안 실시될 수 있다.

도 1은 본 발명의 예의 비제한 실시형태에 따르는 코팅 제품의 측 단면도이고, 저-E 코팅(30)은 2개의 은 기반 IR 반사층(9 및 19)을 갖는다. 코팅 제품은 기판(1)(예를 들면, 두께가 약 1.0 내지 10.0 mm, 더 바람직하게 약 1.0 내지 8.0 mm인, 예를 들면, 약 6 mm 인 투명, 녹색, 청동색, 또는 청녹색 유리 기판) 및 기판(1) 상에 직접 또는 간접적으로 제공되는 코팅(또는 층 시스템)(30)을 포함한다. 코팅(또는 층 시스템)(30)은, 예를 들면, Si₃N₄일 수 있는, 헤이즈 감소용 Si-풍부 형태의, 또는 본 발명의 다른 실시형태에서 임의의 다른 적합한 화학양론의, 하부 실리콘 포함 투명한 유전체층(3), 제1하부접촉층(7)(이는 IR 반사층(9)과 접촉함), 제1 전도성(바람직하게 금속성 또는 실질적으로 금속성) 적외선(IR) 반사층(9), 제1상부접촉층(11)(IR 반사층(9)에 접촉), 상기 접촉층(11) 상에 접촉하는 주석산 아연의 또는 이를 포함하는 투명한 유전체층(14), 일부 산화물을 포함하거나 포함하지 않을 수 있는 투명한 유전체 실리콘 질화물 포함 층(15a 및 15b), NiCr, NiCrOx 등의 또는 이를 포함하는 선택적 흡수제 및/또는 배리어층(16), 제2하부접촉층(17)(IR반사층(19)에 접촉), 제2전도성(바람직하게 금속성 또는 실질적으로 금속성) IR 반사층(19), 제2상부접촉층(21)(IR 반사층(19)에 접촉함), 투명한 유전체층(23), 및 투명한 실리콘 질화물 포함 유전체층(25)를 포함한다. 배리어/흡수제층(16)이 존재하지 않으면, 2개의 실리콘 질화물 기반층(15a 및 15b)는 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 단일층(15)를 형성하기 위해서 결합될 수 있다. "접촉"층(7,11, 17, 21)은 각각 적어도 하나의 IR 반사층(예를 들면, Ag-기반 층)에 접촉한다. 상기 층(3 내지 25)은, 유리 또는 플라스틱 기판(1) 상에 제공되는 스퍼터 증착된 저-E(즉, 저 방사율) 코팅(30)을 구성한다.

도 2는 본 발명의 또 다른 예의 실시형태에 따른 코팅 제품의 측 단면도이다. 도 2는 3중 은 코팅(30)을 도시하는 반면, 도 1은 2중 은 코팅(30)을 도시한다. 도 2 실시형태는 참조 부호로 도시된 도 1 실시형태에서 도시된 많은 층을 포함한다. 도 2 실시형태의 저-E 코팅(30)은, 도 1 실시형태에 비해, 티타늄 산화물(예를 들면, TiO₂)의 또는 이를 포함하는 투명한 유전체층(5), 아연 산화물의 또는 이를 포함하는 투명한 유전체 하부접촉층(27), NiCr, NiCrOx 등의 또는 이를 포함하는 투명한 제3하부접촉층(28), 제3전도성(바람직하게는 금속성 또는 실질적으로 금속성) IR 반사층(29), 제3상부접촉층(31)(층(29)에 접촉), 투명한 유전체층(33), 및 투명한 실리콘 질화물 포함 유전체층(35)을 더 포함한다. 도 1 실시형태로부터 NiCr 또는 NiCrOx 배리어층(16)은 도 2 실시형태에서 존재할 필요는 없다.

도 1 및 도 2 실시형태의 각각에서, 주석 산화물층(33)을 층(14)와 유사한 주석산 아연층으로 대체하여 주석산 아연층이 접촉층(31) 상에 바로 접촉하도록 할 수 있다. 이는, 상기 설명된 것과 유사한 이유에 대해서 유리할 수 있다.

모노리식 예에서, 코팅 제품은 도 1 및 2에서 도시된 바와 같이 하나의 유리 기판(1)만을 포함한다. 그러나, 본원에 기재된 모노리식 코팅 제품은 적층된 차량 차폐판, IG 윈도우 유닛 등과 같은 장치에서 사용될 수 있다. IG 윈도우 유닛에 대해서, IG 윈도우 유닛은 적어도 2개의 이격된 유리 기판을 포함할 수 있다. 예시의 IG 윈도우 유닛은 미국특허 문헌 제2004/0005467호에서 도시되어 기재되고, 그 전체 내용은 참조로 본원에 포함되어 있다. 도 3에는 예시의 IG 윈도우 유닛을 도시하고, 이는, 도 1 또는 2에 도시된 코팅된 유리 기판(1)이 또 다른 유리 기판(2)과 사이에 한정된 갭(50)을 갖도록, 스페이서, 씰란트(40) 등을 통해서 또 다른 유리 기판(2)에 커플링된 것을 포함한다. IG 윈도우 유닛 실시형태에서 기판 사이의 갭(50)은, 특정한 예에서 아르곤(Ar)과 같은 기체 또는 Ar 기체와 공기의 혼합물로 충진될 수 있다. 예시의 IG 윈도우 유닛은, 한 쌍의 이격된 투명한 유리 기판(1 및 2)을 포함하고, 각각의 두께는 약 3 내지 8 mm이고(예를 들면, 두께 6mm), 2개의 기판 중 하나는 특정한 예에서 코팅(30)으로 코팅되고, 기판 사이의 갭(50)은 약 5 mm 내지 30 mm, 바람직하게 약 10 내지 20 mm, 더 바람직하게 약 16 mm일 수 있다. 특정한 예에서, 저-E 코팅(30)은 갭을 대향하는 2개의 기판의 내측 표면에 제공된다(코팅은 갭(50)을 대향하는 도 3에 도시된 기판(1)의 내측 주요면 상에 배치되지만, 대신에 갭(50)을 대향하는 기판(2)의 내측 주요면 상에 배치될 수도 있다). 기판(1) 또는 기판(2)은 건물 외측에 IG 윈도우 유닛의 최외측 기판일 수 있다(예를 들면, 도 3에 도시된 기판(1)은 건물 외측에 가장 가까운 기판이고 저-E 코팅(30)은 IG 윈도우 유닛의 표면 #2 상에 제공된다). 본 발명의 바람직한 실시형태에서, 코팅(30)은 도 3에 도시된 IG 윈도우 유닛의 표면 #2에 제공된다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 도 1 또는 도 2의 코팅(30)은, 3중 광택(glazed) IG 윈도우 유닛에 사용될 수 있고, 예를 들면, 이러한 3중 광택 IG 윈도우 유닛의 표면 #2 또는 이러한 유닛의 임의의 그 외의 적당한 표면에 위치된다.

본 발명의 특정한 실시형태에서, 유전체층(3, 15(15a, 15b 포함), 25 및 35)은, 실리콘 질화물의 또는 이를 포함할 수 있다. 실리콘 질화물층(3, 15, 25, 및 35)은 특히 코팅 제품의 열처리(예를 들면, 열 강화 등) 능력을 개선하고, 일부 산소를 포함하거나 포함하지 않을 수 있다. 층(3, 15, 25 및/또는 35)의 실리콘 질화물은, 화학양론 형태의 것(즉, Si₃N₄)이거나, 본 발명의 상이한 실시형태에서 Si-풍부 형태의 것일 수 있다. 예를 들면, 주석산 아연(14)과 결합된 Si-풍부 실리콘 질화물 층(3 및/또는 15 및/또는 25)은, 은 아래에 특정한 다른 물질이 있는 것에 비해 시트 저항이 감소되는 방법으로 은이 (예를 들면, 스퍼터링 등을 통해) 증착될 수 있다. 또한, Si-풍부 실리콘 질화물층에서 프리 Si(free-Si)가 존재하면, 열처리(HT) 중에 유리(1)로부터 외측으로 이동하는 나트륨(Na)과 같은 특정한 원자가 은에 도달하고 손상시키기 전에, Si-풍부 실리콘 질화물 포함 층에 의해서 특정한 원자가 효율적으로 차단될 수 있다.

특정한 예의 실시형태에서, Si-풍부 실리콘 질화물이 층(3, 15, 25)의 하나 이상에 사용되면, 증착된 Si-풍부 실리콘 질화물층은, Si_xN_y 층을 특징으로 하고, x/y는 0.76 내지 1.5, 더 바람직하게 0.8 내지 1.4, 더욱 바람직하게 0.85 내지 1.2일 수 있다. 또한, 특정한 예의 실시형태에서, HT 전 및/또는 후, Si-풍부 Si_xN_y 층은 굴절률 "n"이 적어도 2.05, 더 바람직하게 적어도 2.07, 경우에 따라 적어도 2.10 (예를 들면, 632 nm)이다(주: 사용될 수 있는 화학양론 Si₃N₄는 인덱스 n이 2.02 내지 2.04이다). 특정한 예의 실시형태에서, 개선된 열 안정성은, 증착된 Si-풍부 Si_xN_y층이 굴절률 "n" 적어도 2.10, 더 바람직하게 적어도 2.20, 가장 바람직하게 2.2 내지 2.4인 경우에 실현될 수 있는 것이 발견되었다. 또한, 특정한 예의 실시형태에서 Si-풍부 Si_xN_y층은 소멸 계수 "k"가 적어도 0.001, 더 바람직하게 적어도 0.003 이다(주: 화학양론 Si₃N₄는 소멸계수 "k"가 효과적으로 0이다). 또한, 특정한 예의 실시형태에서, 놀랍게도 개선된 열 안정성은, (550 nm)증착된 Si-풍부 Si_xN_y 층의 "k"가 0.001 내지 0.05인 경우에 실현될 수 있는 것이 발견되었다. n 및 k는 열처리로 인해 감소하는 경향이 있는 것을 주목한다. 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 본원에 검토된 실리콘 질화물층(3, 15, 25, 35)의 일부 및/또는 전부가 스테인레스 스틸 또는 알루미늄과 같은 그 외의 물질로 도프될 수 있다. 예를 들면, 본원에서 검토된 실리콘 질화물층의 일부 및/또는 전체는, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 선택적으로 약 0 내지 15% 알루미늄, 바람직하게 약 1 내지 10% 알루미늄을 포함할 수 있다. 실리콘 질화물은, 본 발명의 특정한 실시형태에서, 적어도 질소 기체를 갖는 분위기에서 타겟 Si 또는 SiAl을 스퍼터링함으로써 증착될 수 있다.

적외선(IR) 반사층(9, 19 및 29)은 바람직하게 실질적으로 또는 전체 금속성 및/또는 전도성을 갖고, 은(Ag), 금, 또는 임의의 그 외의 적합한 IR 반사 물질을 포함하거나 필수적으로 이들로 구성될 수 있다. IR 반사층(9, 19 및 29)은 코팅이 저-E 및/또는 양호한 광 조절 특징을 가질 수 있도록 돕는다. 그러나, 본 발명의 특정한 실시형태에서, IR 반사층은 약간 산화될 수 있다.

상부접촉층(11, 21 및 31) (및 경우에 따라 하부접촉층(28))은 니켈(Ni) 산화물, 크로뮴/크롬(Cr) 산화물, 또는 니켈 크롬 산화물(NiCrO_x)과 같은 니켈 합금 산화물, 또는 Ti 또는 Ti 산화물과 같은 그 외의 적당한 물질의, 또는 이를 포함할 수 있다. 예를 들면, 이러한 층 내에서 NiCrO_x이 사용되면, 내구성이 개선될 수 있다. 본 발명의 특정한 실시형태에서 이러한 층의 NiCrO_x 가 충분히(즉, 충분히 화학양론으로) 산화될 수 있거나, 부분적으로만(즉, 서브 산화물로) 산화될 수 있다. 특정한 예에서, NiCrO_x 층은 적어도 약 50% 산화될 수 있다. 접촉층(11, 21, 28, 및/또는 31)(예를 들면, Ni 및/또는 Cr의 산화물의 또는 이를 포함)은 본 발명의 상이한 실시형태에서 산화 구배되거나 산화 구배되지 않을 수 있다. 산화 구배는, 층 내의 산화 정도가 층의 두께에 걸쳐서 변화하는 것을 의미한다. 예를 들면, 접촉층은, 바로 인접한 IR 반사층으로부터 더/가장 먼 접촉층의 일부에서보다 바로 인접한 IR 반사층과의 접촉 계면에서 덜 산화되도록 구배될 수 있다. 다양한 형태의 산화 구배된 접촉층은 미국 특허 제6,576,349호 기재되어 있고, 본원에 참조로 포함되어 있다. 접촉층(11, 21, 28 및/또는 29)(예를 들면, Ni 및/또는 Cr의 산화물의 또는 이를 포함)은 본 발명의 상이한 실시형태에서 상부 또는 하부 IR 반사층 전체에 대해서 연속되거나 연속되지 않을 수 있다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 투명한 유전체층(23 및 33)은 주석 산화물의 또는 이를 포함할 수 있다. 그러나, 다른 실시형태에서 특정한 그 외의 물질, 예를 들면, 특정한 예의 또 다른 실시형태에서 Al 또는 Zn으로 도프될 수 있다.

본 발명의 특정한 실시형태에서 하부접촉층 또는 씨드층(7 및/또는 17) 및 투명한 유전체층(27)은 아연 산화물(예를 들면, ZnO)의 또는 이를 포함한다. 이러한 층의 아연 산화물은 (예를 들면, ZnAlO_x를 형성하기 위해) Al과 같은 그 외의 물질도 포함할 수 있다. 예를 들면, 본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 아연 산화물 층(7, 17, 27) 중 하나 이상은 약 1 내지 10% Al, 더 바람직하게 약 1 내지 5% Al, 및 가장 바람직하게 약 1 내지 4% Al로 도프될 수 있다.

주석산 아연 기반 층(14)은, 제1반사층과 제2반사층(9 및 19) 사이의 층 스택의 특정한 부분에서, Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층(11) 상에 접촉하고, 경우에 따라서 실리콘 질화물의 또는 이를 포함하는 층(15 또는 15a) 하에 접촉해서 제공된다. 상기 기재된 바와 같이, 놀랍게도, 이러한 층 스택은 HT 시 열 안정성을 상당히 개선시키고 내구성을 향상시킨다. 특정한 또 다른 실시형태에서, 주석산 아연 기반 층(14) (예를 들면, ZnSnO) 은, Al, Zn, N, 등과 같은 그 외의 물질로 도프될 수 있다. 주석산 아연 기반 층(14)은 본 발명의 바람직한 실시형태에서 실질적으로 또는 실질적으로 충분히 산화된다. 상술한 바와 같이, 주석산 아연 기반 층(14)이 도시된 위치에 존재하면, 놀랍게도 코팅의 열 안정성을 개선시키는 것이 발견되고, 이는 실시예 대 비교예에 대해서 하기에 충분히 입증될 것이다.

도시된 코팅 하 또는 상의 그 외의 층이 제공될 수 있다. 따라서, 층 시스템 또는 코팅은 (직접적 또는 간접적으로) 기판(1) "상에" 또는 "에 의해서"지지되더라도, 그 사이에 그 외의 층이 제공될 수 있다. 따라서, 예를 들면, 도 1 또는 도 2의 코팅은 층(3)과 기판(1) 사이에 그 외의 층이 제공되더라도, 기판 (1) "상에" 또는 기판(1)에 "의해서" 지지된다고 볼 수 있다. 또한, 특정한 실시형태에서, 도시된 코팅의 특정한 층이 제거될 수 있고, 다양한 층 사이에 그 외의 층이 추가되거나, 다양한 층은, 본 발명의 특정한 실시형태의 전체의 사상을 벗어나지 않는 범위에서, 본 발명의 그 외의 실시형태에서 분리된 영역 사이에 첨가된 그 외의 층으로 분리될 수 있다.

다양한 두께 및 물질이, 본 발명의 상이한 실시형태에서 층에 사용되면, 도 1 실시형태에서 유리 기판(1) 상의 각각의 층에 예시의 두께 및 물질은 유리 기판으로부터 순서대로 다음과 같다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 주석 아연 포함 층(14)은 코팅(30)의 가장 두꺼운 층으로, 코팅(30)에서 그 외의 모든 층보다도 더 두꺼울 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 포함층(14)는 접촉층(예를 들면, Ni 및/또는 Cr의 산화물) (11)과 실리콘 질화물 포함층(15a)(또는 15) 사이에 바로 접촉해서 위치한다. 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 포함층(14)은 바로 인접한 접촉층(예를 들면, Ni 및/또는 Cr의 산화물) (11)보다 적어도 2배 더 두껍다(더 바람직하게 적어도 5배, 가장 바람직하게는 적어도 10배 더 두껍다). 특정한 예의 실시형태에서, 주석산 아연 포함층(14)은 바로 인접한 실리콘 질화물 기반층(15a)(또는 15)보다 적어도 2배 더 두껍다(더 바람직하게 적어도 3배 더 두껍다). 이는 도 1 및/또는 도 2 실시형태에 적용한다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서 (예를 들면, 도 1 참조), 상부 은 기반 IR 반사층(19)은 하부 은 기반 IR 반사층(9)보다 더 두꺼운 것을 알 수 있다. 특정한 예의 실시형태에서, 상부 은 기반 IR 반사층(19)은, 하부 은 기반 IR 반사층(9)보다 적어도 20 옹스트롱 더 두껍다(더 바람직하게 적어도 40 옹스트롱 더 두껍고, 더 바람직하게 적어도 60 옹스트롱 더 두껍고, 가장 바람직하게 적어도 70 옹스트롱 더 두껍다). 본원의 모든 두께는 물리적인 두께이다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 도 1 실시형태에 따른 코팅 제품은, 선택적 HT 전 및/또는 후에 모노리식으로 측정된 다음의 광학 및 광 특징을 가질 수 있다. 본원의 시트 저항(R_s)은 모든 IR 반사층(예를 들면, 은층(9, 19))을 고려한다.

다양한 두께 및 물질은 본 발명의 상이한 실시형태에서 층에서 사용될 수 있지만, 도 2 실시형태에서 유리 기판(1) 상의 각각의 층의 예의 두께 및 물질은 유리 기판으로부터 순서대로 다음과 같다.

본 발명의 특정한 예의 실시형태에서, 도 2 실시형태에 따른 코팅 제품은, 선택적 HT 전 및/또는 후에 모노리식으로 측정된 다음의 광학 및 광 특징을 가질 수 있다. 본원의 시트 저항(R_s)은 모든 IR 반사층(예를 들면, 은층(9, 19, 29))을 고려한다.

다음의 실시예는 단지 예시의 목적으로 제공되는 것으로, 구체적으로 청구되지 않는 한 제한되는 것으로 의도되지 않는다.

실시예-도 1 실시형태

다음의 실시예는, 하기에 기재된 층 스택을 갖도록 6 mm 두께의 투명한 유리 기판(1) 상에 도 1에 도시된 코팅을 스퍼터링해서 행해졌다. 두께는 옹스트롱(Å) 단위이다. 비교예는, 본 발명의 실시예 1의 주석산 아연층(14) 대신에 비교예의 주석 산화물층이 사용되는 것을 제외하고 본 발명의 실시예 1과 동일한 것을 알 수 있다("n/a"는 이 예에서 적용가능한 층이 존재하지 않는 것을 의미한다). 즉, 본 발명에 따른 실시예 1는, CE의 중앙 유전체 부분에서의 주석 산화물층을 본 발명의 실시예 1에서의 주석산 아연층(14)으로 대체하는 것을 제외하고 비교예(CE)와 동일하다.

유리 기판(1) 상에 스퍼터 증착된 후, CE 및 실시예 1의 샘플은 650℃에서 박스 퍼니스에서 12 내지 30분의 다양한 시간 동안 열처리(HT) 했다. 하기 표에서는 비교예(CE)에 대한 결과를 표시하고, 다양한 열처리 시간 후, 다양한 컬러 밸유(a*, b*), 가시투과율 % (TY), L* 값, 가시 유리측 반사율(RgY), 가시 필름측 반사율(Rfy), 시트 저항(R_s, 단위 옴/스퀘어), 및 헤이즈%를 표시한다[Ill.C2 deg.Observer]. 하기 데이터를 얻기 위해서, 다수개의 동일한 CE 가 행해졌고, 각각의 것이 제거되고, 하기 표에서 각각의 HT 시간 후에 측정값이 취해진다. CE의 하기 표는 0 내지 16분의 HT 기간으로 인한 투과율, 유리측 반사율 및 필름측 반사율 ΔE* 값 (ΔE* 0/16)를 표시한다. 특히, 650 ℃에서 16분 열처리 동안, CE는 투과율 ΔE* 값 3.27, 유리측 반사율 ΔE* 값 1.29, 및 필름측 반사율 ΔE* 값 2.16를 실현했다. 하기 표에서 ΔE* 16/30은 16분 동안 열처리한 CE 샘플과 30분 동안 열처리한 CE 샘플 사이의 ΔE* 변화를 나타낸다. 따라서, 유리측 반사율 ΔE* 값에 대해서, 예를 들면, ΔE*값은 HT의 초기 16분 동안 1.29 변화하지만, 이어서 16분 마크로부터 30분 마크까지의 또 다른 HT 기간 동안 추가의 2.87이 변화한다. 따라서, 유리측 반사율 컬러 밸유는, 안정하지 않고, 16분 마크로부터 30분 마크까지의 HT 기간 동안 지속적으로 상당히 변화하는 것을 알 수 있다.

하기 표에서, 본 발명의 실시예 1에 대한 결과가 표시되고, 다양한 열처리 시간 후 다양한 컬러 밸유(a*, b*), 가시투과율 % (TY), L* 값, 가시 유리측 반사율 (RgY), 가시 필름측 반사율 (RfY), 시트 저항 (R_s 단위 옴/스퀘어), 및 헤이즈 % 를 표시한다[Ill. C 2 deg. Observer]. 하기 데이터를 얻기 위해서, 실시예 1의 다수개의 동일한 샘플이 만들어지고 각각의 것이 제거되고 하기 표에서 각 HT 후 이로부터 측정값이 취해진다. 실시예 1에 대한 하기 표는, 0 내지 16 분의 HT 기간으로 인해 투과율, 유리측 반사율 및 필름측 반사율ΔE* 이 도시된다(ΔE* 0/16). 특히, 650℃에서 16분 열처리 동안, 실시예 1는 투과율 ΔE* 값 2.50, 유리측 반사율 ΔE* 값 2.70, 및 필름측 반사율 ΔE* 값 3.74를 실현했다. 하기 표에서 ΔE* 16/30은 16분 동안 열처리한 실시예 1 샘플과 30분 동안 열처리한 실시예 1 샘플 사이의 ΔE* 변화를 나타낸다. 따라서, 유리측 반사율 ΔE* 값에 대해, 예를 들면, ΔE*값은 HT의 초기 16분 동안 2.70 변화하고, 16분 마크로부터 30분 마크까지의 또 다른 HT 기간 동안 추가의 1.25을 변화시킨다. 실시예 1에 대한 투과율 ΔE*에 대해, ΔE*는 HT의 초기 16분 동안 2.50 변화하고, 16분 마크로부터 30분 마크까지의 또 다른 HT 기간 동안 추가의 0.93을 변화시킨다.

따라서, CE와 달리, 실시예 1에서 주석산 아연층(14)이 존재하는 경우, 적어도 유리측 반사율 컬러 밸유 및 투과율 컬러 밸유는 안정화되고, 16분 마크부터 30분 마크까지의 HT 중에 상당히 변화하지 않는 것을 상기 표로부터 알 수 있다. 특히, 실시예 1 에 대한 ΔE* 16/30 값은, 놀랍게도 CE보다 상당히 낮아서 주석산 아연 기반층(14)을 사용하는 것과 관련된 예기치 않은 이점을 입증한다(주석산 아연층(14)은 실시예 1에는 존재하지만, CE에서는 존재하지 않는다). CE와 달리, 실시예 1은 HT 공정의 초기 16분쯤 내에 최종 바람직한 컬러 밸유 (예를 들면, 투과율 또는 유리측 반사율의 하나 또는 둘 다에서의 a*, b* 및 L*)를 실질적으로 실현하고, 실시예 1 은 16분 내지 30분의 열처리 기간에 걸쳐서 a*, b* 및 L* 값(유리측 반사율 및/또는 투과율)에 대해 실질적으로 안정하게 유지된다. 따라서, 예를 들면, 실시예 1의 한 쌍의 열 강화 제품은, 하나는 16분 동안, 또 다른 하나는 30분 동안 열처리하는 경우, 투과율 및 유리측 반사율 값에 대해 실질적으로 서로 매칭된다. 이는, CE에 대한 경우가 아니고, 0 내지 30분 열 처리 기간 동안 CE에 대해 5를 초과한 바람직하지 않게 높은 투과율 ΔE* 값을 주목하고, 이 값은 CE에 대한 투과율 ΔE* 0/16 (3.27) 및 투과율 ΔE* 16/30 (2.54)을 합해서 얻어진다. 또한, 실시예 1은, 상응하는 유리측 반사율, 필름측 반사율, 및 투과율 ΔE* 0/16 값보다 낮은 유리측 반사율, 필름측 반사율, 및 투과율 ΔE* 16/30 값을 갖고, 이는, 실시예 1에서의 샘플의 외관이 잠재적으로 긴 열처리 공정 전에 실질적으로 안정한 반면, CE는 유리측 반사율 또는 필름측 반사율 ΔE* 값에 대해 달성할 수 없는 것을 나타내고, 또한 주석 산 아연 기반층(14)의 사용은 놀랍게도 코팅의 열 안정성을 개선시키는 것을 나타낸다. 또한, 모든 투과율 ΔE* 값은 CE에 대한 상응하는 ΔE* 값보다 실시예 1에 대해서 상당히 더 우수한(낮은) 것을 알 수 있다.

도 4 및 5는, 도 1에 도시된 주석산 아연 기반 층(14)을 사용해서 달성된 개선된 열 안정성을 도시한다. 도 4는 실시예 1 대 비교예 1에 대해 플롯팅한 열처리(HT) 시간(단위:분), 대 가시투과율(TY %)그래프이다. 도 5는 실시예 1 대 비교예(CE)를 플롯팅한 열처리 (HT) 시간 (단위:분), 대 헤이즈 % 그래프이다. 도 4 및 5에서의 실시예 1 플롯(ZnSn)은 복수의 원형이고, 도 4 및 5에서의 CE 플롯(Sn)은 복수의 X형이다. 도 4는, 실시예 1의 가시투과율이 실질적으로 약 12 내지 24분의 HT 시간 사이에 유지되는 반면(예를 들면, 1.5% 이하로 변화되고, 더 바람직하게는 1.0% 이하로 변화된다), CE 의 가시투과율은 실질적으로 HT 기간보다 훨씬 더 짧은 시간 동안 유지되어 실시예 1이 CE보다 가시투과율에 대해서 열에 더 안정한 것을 입증한다. 이는, 실제 적용에서 코팅은, 열처리 장치에 의해서 사용된 퍼니스 형태 및 코팅이 적용된 지지된 유리(1)의 두께에 기초해서, 상이한 시간 동안 열처리되는 경향이 있기 때문에 유리하고, 긴 HT 범위에 걸쳐서 개선된 열 안정성은, 더 많은 양의 제조된 코팅에 의해서 최종적으로 바람직한 외관을 실현하기 때문에 유리하다. 마찬가지로, 도 5는 HT의 22 내지 30분 마크로부터 헤이즈%에 대해 매우 안정한 반면, CE는 HT의 22분 마크 후 바람직하지 않게 상방으로 상당히 급상승하는 것을 도시한다. 또한, 헤이즈에 대한 실시예 1은 CE에서 보다 잠재적으로 긴 HT 시간의 범위에 걸쳐서 열에 안정한 것을 입증한다. 본 발명의 예시의 실시형태에서 코팅 제품은 0 내지 30분의 전체 HT 기간에 걸쳐서 0.60% 이하의 헤이즈%를 실현한다. 또한, 헤이즈, 색상 및/또는 가시투과율에 대한 잠재적으로 긴 HT 시간의 기간에 걸친 열 안정성은, 실제 적용에서 코팅은, 제작자의 열처리 장치에 의해서 사용된 퍼니스 형태 및 코팅이 적용된 지지된 유리(1)의 두께에 기초해서 상이한 기간 동안 열처리되는 경향이 있기 때문에 유리하고, 긴 HT 범위에 걸쳐서 개선된 열 안정성은 많은 양의 제조된 코팅에 의해서 소망의 최종 외관을 실현하기 때문에 유리하다.

실시예-도 2 실시형태

다음의 실시예는, 하기에 기재된 층 스택을 갖도록 6 mm 두께의 투명한 유리 기판(1) 상에 도 2에 도시된 코팅을 스퍼터링해서 행해졌다. 두께는 옹스트롱(Å) 단위이다. 비교예 (CE)는, CE에서 주석산 아연층(14)에 인접한 주석 산화물층이 본 발명의 실시예 2에서 존재하지 않는 것을 제외하고 본 발명의 실시예 2과 동일한 것을 알 수 있다("n/a"는 이 예에서 적용가능한 층이 존재하지 않는 것을 의미한다). 즉, 본 발명에 따른 실시예 2는, (CE에서 사이의 주석 산화물층을 갖는 것과 달리) 실시예 2에서 주석산 아연층(14)이 NiCrOx 접촉층(11)에 바로 접촉하는 것과 주석산 아연 두께를 제외하고는 비교예 (CE)와 본질적으로 동일하다. 주석산 아연층은 ZnSn 타겟을 통해 52/48의 Zn/Sn 중량% 비로 스퍼터링되었다.

유리 기판(1) 상에 스퍼터 증착된 후, CE 및 실시예 2의 샘플은 650℃에서 박스 퍼니스에서 10 내지 24분의 다양한 시간 동안 열처리(HT) 했다. 하기 표에서는 비교예(CE) 및 실시예 2에 대한 특정한 결과를 표시한다 [Ill. C 2 deg. Observer]. 데이터의 이해를 돕기 위해서 실시예 1에 대한 상기 데이터에 대한 검토 참조.

예를 들면, 650℃에서 16분 동안의 열처리에 대해, CE에서는 유리측 반사율 ΔE* 값 2.46를 실현했다. 상기의 표의 ΔE* 16/24는 16분 동안 열처리한 샘플과 24분 동안 열처리한 샘플 사이의 ΔE* 의 변화를 나타낸다. 따라서, 유리측 반사율 ΔE* 값에 대해, 예를 들면, CE의 ΔE*는 HT의 초기 16분 동안 2.46가 변화하지만, 이어서 16분 마크로부터 24분 마크까지의 추가의 HT 기간 동안 추가의 2.11이 변화했다. 그러나, 실시예 2는, 유리측 반사율 ΔE* 값에 대해, 예를 들면, ΔE* 는 HT의 초기 16분 동안 1.81 이 변화했지만, 16분 마크로부터 24분 마크까지 추가의 HT 기간 동안 추가의 1.21만이 변화했다. 실시예 2의 투과율 ΔE* 16/24 값(0.69)은, CE에 비해 상당히 우수하고(낮고), 또한 상술한 바와 같이 유리하다. 따라서, 유리측 반사율 컬러 밸유는 CE보다 실시예 2에서 더 안정한 것을 알 수 있다. 실제 적용에서, 열처리는, 상이한 유리 두께 및/또는 상이한 강화 퍼니스 형태에 기초해서 상술한 상이한 기간 동안 발생할 수 있지만, 열 안정성의 개선은 상술한 바와 같은 강화 공정의 공정 윈도우를 넓히고, 최종 제품 또는 본질적으로 최종 제품 색상을 달성하는 것을 용이하게 한다.

본 발명의 특정한 실시형태에서, 유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로, 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층; 상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층; 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 상부접촉층(예를 들면, Ni 및/또는 Cr의 산화물, 또는 Ti, 또는 Ti의 산화물을 포함); 상기 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층; 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층; 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및 적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층; 을 포함하는, 코팅 제품을 제공한다.

선행하는 단락의 코팅 제품은, 상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함할 수 있다.

선행하는 2개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 상부접촉층은 NiCr의 산화물을 포함할 수 있다.

선행하는 3개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 제1유전체층은 실리콘 질화물을 포함할 수 있다.

선행하는 4개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 주석 산화물을 포함하는 또 다른 유전체층이 있을 수 있다.

선행하는 5개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층과 실리콘 질화물을 포함하는 추가의 층 사이에 바로 접촉해서 위치하는 NiCr을 포함하는 층이 있을 수 있다.

선행하는 6개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품은, 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함할 수 있다.

선행하는 7개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품은, 은을 포함하는 IR 반사층을 2개 이하로 가질 수 있다.

선행하는 8개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은 Sn보다 많은 Zn을 함유할 수 있다.

선행하는 9개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 금속 함유량에 대해, 51 내지 90% Zn 및 10 내지 49% Sn (중량%)을 함유할 수 있다.

선행하는 10개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은 실질적으로 충분히 산화될 수 있다.

선행하는 11개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은 주석산 아연으로 구성되거나, 필수적으로 주석산 아연으로 구성될 수 있다.

선행하는 12개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅은 시트 저항 (R_s)이 3.0 옴/스퀘어 이하일 수 있다.

선행하는 13개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅 제품은, 모노리식으로 측정된 가시투과율이 적어도 약 40%일 수 있다.

선행하는 14개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅 제품이 열 처리될 수 있다.

선행하는 15개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층이 상기 코팅 내에서 가장 두꺼운 층일 수 있다.

선행하는 16개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 상기 상부접촉층보다 적어도 5배 더 두꺼울 수 있다.

선행하는 17개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 층의 적어도 2배만큼 두꺼울 수 있다.

선행하는 18개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층은, 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층보다 적어도 40 옹스트롱 더 두꺼울 수 있다.

선행하는 19개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 주석산 아연을 포함하는 층은 두께가 350 내지 600 옹스트롱일 수 있다.

선행하는 20개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품은, 적어도 상기 또 다른 유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제3 IR 반사층을 더 포함할 수 있다.

선행하는 21개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650℃의 열처리 시 5.0 이하의 투과율 및/또는 유리측 반사율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것일 수 있다.

선행하는 22개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 24분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 4.0 이하의 유리측 반사율 및/또는 투과율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것일 수 있다.

선행하는 23개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 0.60% 이하의 헤이즈%를 갖도록 하는 물질 및 두께의 것일 수 있다.

선행하는 24개의 단락 중 어느 하나의 코팅 제품에서, 상기 코팅층은, 상기 코팅 제품의 가시투과율이 실질적으로 유지되어, 약 650 ℃의 열처리 시 12 내지 24분의 열처리 시간 사이에서 1.0% 이하로 변화되는 물질 및 두께의 것일 수 있다.

본 발명은 현재 가장 실용적이고 바람직한 실시형태로 고려되는 것에 관련해서 기재되지만, 본 발명은 개시된 실시형태로 한정되지는 않고, 첨부한 청구범위의 사상과 범위 내에서 포함된 다양한 변경 및 동등한 배열을 포함하는 것으로 이해된다.

Claims

유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로,
상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층;
상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층;
상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층;
상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층;
상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층;
적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및
적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층;
을 포함하는, 코팅 제품.
제1항에 있어서,
상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 상부접촉층은 NiCr의 산화물을 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 제1유전체층은 실리콘 질화물을 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 또 다른 유전체층은 주석 산화물을 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층과 실리콘 질화물을 포함하는 추가의 층 사이에 바로 접촉해서 위치하는 NiCr을 포함하는 층을 더 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은 은을 포함하는 IR 반사층을 2개 이하로 갖는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 Sn보다 많은 Zn을 함유하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 금속 함유량에 대해, 51 내지 90% Zn 및 10 내지 49% Sn (중량%)을 함유하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 실질적으로 충분히 산화되는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 필수적으로 주석산 아연으로 구성된, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은 시트 저항 (R_s)이 3.0 옴/스퀘어 이하인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은, 모노리식으로 측정된 가시투과율이 적어도 약 40%인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품이 열 처리되는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층이 상기 코팅 내에서 가장 두꺼운 층인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층보다 적어도 5배 더 두꺼운, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은, 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 층의 적어도 2배만큼 두꺼운, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층은, 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층보다 적어도 40 옹스트롱 더 두꺼운, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 두께가 350 내지 600옹스트롱인, 코팅 제품.
제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
적어도 상기 또 다른 유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제3 IR 반사층을 더 포함하는, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 5.0 이하의 투과율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 5.0 이하의 유리측 반사율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 24분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 4.0 이하의 유리측 반사율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 24분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 4.0 이하의 투과율 ΔE* 값을 갖도록 하는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650 ℃의 열처리 시 0.60% 이하의 헤이즈%를 갖도록 하는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
상기 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅층은, 상기 코팅 제품의 가시투과율이 실질적으로 유지되어, 약 650℃의 열처리 시 12 내지 24분의 열처리 시간 사이에서 1.0% 이하로 변화되는 물질 및 두께의 것인, 코팅 제품.
열 강화 코팅 제품의 제조 방법으로서, 상기 방법은,
유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로, 상기 코팅이 상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층, 상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층, 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층, 상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층, 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층, 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층, 및 적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층,을 포함하는, 코팅 제품을, 적어도 600℃의 온도에서 열처리하는 단계;를 포함하고,
상기 코팅 제품의 가시투과율은 실질적으로 유지되어, 상기 열처리 동안 12 내지 24분의 열처리 시간 사이에 1.0% 이하로 변화되는, 방법.
제28항에 있어서,
상기 코팅 제품은, 투과율 ΔE* 값이 0 내지 30분의 모든 기간 동안 열처리 시 5.0 이하인, 방법.
제28항 또는 제29항에 있어서,
상기 코팅 제품은, 유리측 반사율 ΔE* 값이 0 및 30분의 모든 기간 동안 열처리 시 5.0 이하인, 방법.
제28항 내지 제30항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은 유리측 반사율 ΔE* 값이 0 내지 24분의 모든 기간 동안 약 650 ℃에서 열처리 시 4.0 이하인, 방법.
제28항 내지 제31항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은 투과율 ΔE* 값이 0 내지 24분의 모든 기간 동안 열처리시 4.0 이하인, 방법.
제28항 내지 제32항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은 헤이즈%가 0 내지 30분의 모든 기간 동안 약 650℃의 열처리시 0.60% 이하인, 방법.
제28항 내지 제33항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은 상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 방법.
제28항 내지 제34항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅 제품은 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층과 실리콘 질화물을 포함하는 추가의 층 사이에 바로 접촉해서 위치하는 NiCr을 포함하는 층을 더 포함하는, 방법.
제28항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은 은을 포함하는 IR 반사층을 2개 이하로 갖는, 방법.
제28항 내지 제36항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 금속 함량에 대해 51 내지 90% Zn 및 10 내지 49% Sn (중량%)을 함유하는, 방법.
제28항 내지 제37항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 상기 코팅 내에서 가장 두꺼운 층인, 방법.
제28항 내지 제38항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층은 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층보다 적어도 40 옹스트롱 더 두꺼운, 방법.
제28항 내지 제39항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 주석산 아연을 포함하는 층은 두께가 350 내지 600 옹스트롱인, 방법.
제28항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 코팅은 적어도 상기 또 다른 유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제3 IR 반사층을 더 포함하는, 방법.
열 강화 코팅 제품의 제조 방법으로서,
유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로, 상기 코팅은 상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층; 상기 유리 기판에 의해서 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층; 상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층; 상기 Ni 및/또는 Cr의 산화물을 포함하는 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층; 상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층; 적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및 적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층;을 포함하는, 코팅 제품을, 적어도 600℃의 온도에서 열처리하는 단계;를 포함하고,
상기 코팅 제품의 헤이즈%는 0 내지 30분의 모든 열처리 기간 동안 열처리 시 0.60% 이하인, 방법.
유리 기판에 의해 지지되는 코팅을 포함하는 코팅 제품으로서,
상기 유리 기판에 의해서 지지되는 제1유전체층;
상기 유리 기판에 의해 지지되고 적어도 상기 제1유전체층 상에 위치하는 은을 포함하는 제1적외선(IR) 반사층;
상기 은을 포함하는 제1 IR 반사층 상에 바로 접촉해서 위치하는 상부접촉층;
상기 상부접촉층 상에 바로 접촉해서 위치하는 주석산 아연을 포함하는 층;
상기 주석산 아연을 포함하는 층 상에 바로 접촉해서 위치하는 실리콘 질화물을 포함하는 제1층;
적어도 상기 실리콘 질화물을 포함하는 제1층 상에 위치하는 은을 포함하는 제2 IR 반사층; 및
적어도 상기 제2 IR 반사층 상에 위치하는 또 다른 유전체층;
을 포함하는, 코팅 제품.
제43항에 있어서,
상기 은을 포함하는 제2 IR 반사층 하에 바로 접촉해서 위치하는 아연 산화물을 포함하는 층을 더 포함하는, 코팅 제품.
제43항에 있어서,
상기 상부접촉층은 NiCr의 산화물을 포함하는, 코팅 제품.
제43항에 있어서,
상기 상부접촉층은 Ti를 포함하는, 코팅 제품.