CN114341075A - 可强化的涂覆基材 - Google Patents
可强化的涂覆基材 Download PDFInfo
- Publication number
- CN114341075A CN114341075A CN202080061506.7A CN202080061506A CN114341075A CN 114341075 A CN114341075 A CN 114341075A CN 202080061506 A CN202080061506 A CN 202080061506A CN 114341075 A CN114341075 A CN 114341075A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- layer
- coated
- layers
- glass substrate
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 141
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title description 87
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title description 71
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 title description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 361
- 239000005329 float glass Substances 0.000 claims abstract description 50
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 50
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 43
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims abstract description 37
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 19
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 19
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 13
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims description 126
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 76
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 76
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims description 71
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 70
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 60
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 49
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 25
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 23
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 21
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 21
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 20
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 claims description 17
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 16
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 16
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 claims description 13
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- -1 tungsten nitride Chemical class 0.000 claims description 6
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 4
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 claims description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 claims description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 73
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 53
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 50
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 47
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 41
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 40
- JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N tellanylidenegermanium Chemical compound [Te]=[Ge] JBQYATWDVHIOAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 39
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 38
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 37
- 230000003667 anti-reflective effect Effects 0.000 description 28
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 24
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 22
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 22
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 20
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 20
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 20
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 18
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000000047 product Substances 0.000 description 16
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 16
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 14
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 13
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 12
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 description 11
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 10
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 9
- 229910003087 TiOx Inorganic materials 0.000 description 8
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 8
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 7
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 7
- 238000005546 reactive sputtering Methods 0.000 description 7
- HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N tioxidazole Chemical compound CCCOC1=CC=C2N=C(NC(=O)OC)SC2=C1 HLLICFJUWSZHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910003455 mixed metal oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 4
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 4
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 3
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 3
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000006124 Pilkington process Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 229910000423 chromium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000006058 strengthened glass Substances 0.000 description 2
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 2
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 2
- 229910007667 ZnOx Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007717 ZnSnO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910007696 ZnSnO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000005347 annealed glass Substances 0.000 description 1
- 239000006117 anti-reflective coating Substances 0.000 description 1
- 239000005388 borosilicate glass Substances 0.000 description 1
- CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N cadmium oxide Inorganic materials [Cd]=O CXKCTMHTOKXKQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N cadmium(2+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Cd+2] CFEAAQFZALKQPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000010730 cutting oil Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000005816 glass manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000005346 heat strengthened glass Substances 0.000 description 1
- 238000013003 hot bending Methods 0.000 description 1
- 235000019239 indanthrene blue RS Nutrition 0.000 description 1
- UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N indanthrone blue Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=C4NC5=C6C(=O)C7=CC=CC=C7C(=O)C6=CC=C5NC4=C3C(=O)C2=C1 UHOKSCJSTAHBSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005340 laminated glass Substances 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000623 nickel–chromium alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 description 1
- 238000001303 quality assessment method Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000007619 statistical method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007669 thermal treatment Methods 0.000 description 1
- GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N tin zinc Chemical compound [Zn].[Sn] GZCWPZJOEIAXRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000699 topical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001429 visible spectrum Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3644—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the metal being silver
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3626—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer one layer at least containing a nitride, oxynitride, boronitride or carbonitride
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/36—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal
- C03C17/3602—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer
- C03C17/3657—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating being a metal the metal being present as a layer the multilayer coating having optical properties
- C03C17/366—Low-emissivity or solar control coatings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C23/00—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
- C03C23/007—Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments by thermal treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/30—Aspects of methods for coating glass not covered above
- C03C2218/365—Coating different sides of a glass substrate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
本发明涉及可强化的涂覆的浮法玻璃基材，其制备方法及其用途，所述浮法玻璃基材包含第一表面和第二表面，其中第一表面包含一个或多个通过化学气相沉积(CVD)施加的层和第二表面包含一个或多个通过物理气相沉积(PVD)施加的层；并且其中所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层；并且其中第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层；并且其中涂覆的浮法玻璃基材表现出根据CIE色彩空间的透射b*颜色值小于或等于3和外反射b*小于或等于‑5。
Description
本发明涉及可强化的涂覆基材及其制造方法。更具体地，本发明涉及可强化的涂覆的玻璃基材及其制备方法，其中将一个或多个层施加至基材的每侧以形成涂覆的基材，然后将其通过热处理强化，而没有明显损坏在基材每侧上的涂覆层。
已知出于各种目的在基材例如玻璃上沉积层或涂层。例如，在EP 1429997、DE10146687、EP1328483和US 6918957每个中公开了溶胶凝胶型沉积方法，其中将硅溶胶施加至基材的表面并然后在升高的温度下加热基材以“驱除”有机材料，从而导致氧化硅涂层的产生。
其它类型的沉积方法包括例如化学气相沉积(CVD)，由此经常在升高的温度下将前体的蒸汽导向基材的表面。
还已知沉积导电氧化物例如铟锡氧化物、掺杂的氧化锡、掺杂的氧化锌和掺杂的氧化镉的方法。这些方法可包括例如但不限于化学气相沉积(CVD)、火焰热解、溅射或其它类型的物理气相沉积。
可通过物理气相沉积方法例如溅射来沉积提供低辐射率和/或用于阳光控制的玻璃涂层。
施加至玻璃基材的溅射的低辐射率(低-e)和阳光控制涂层堆叠体常见地由基于以下重复的序列组成：
介电层序列/(Ag/介电层序列)n，
其中n个介电层每个可能在厚度和/或组成方面变化。n的值可为1或2和甚至3或4。
还已知涂覆玻璃基材的两侧以生产用于建筑窗玻璃市场的窗玻璃单元。确实，可获得使用以上描述的技术来涂覆例如玻璃基材的第一侧然后另一侧的产品。例如，NSG生产涂覆的玻璃产品，其中玻璃基材的一侧涂覆有通过化学气相沉积(CVD)施加的自洁或抗反射涂层，和玻璃基材的另一侧涂覆有物理气相沉积(PVD)(溅射的)低辐射率涂层。
存在替代产品，其中低辐射率的涂层施加到玻璃基材的每一侧，但是其中低辐射率涂层之一通过化学气相沉积施加，而另一低辐射率涂层通过溅射施加。
然而，使用上述技术制备的许多涂覆的玻璃产品难以在不损坏涂覆层的情况下实现热回火或强化，由此导致在缺乏颜色均匀性或视觉清晰度方面的劣等产品。
在强化或回火玻璃中，通过受控的热处理或化学处理加工玻璃基材，以与普通玻璃相比提高玻璃基材的强度。回火或强化的作用使玻璃基材的外表面处于压缩和玻璃基材的内表面处于拉伸。当回火或强化的玻璃破裂时，与玻璃板(还已知为退火玻璃)相反，诱导应力引起强化玻璃粉碎成小的粒状块而不是分裂成锯齿状碎片。
已进行强化从而赋予安全性质和/或弯曲的涂覆的玻璃板期望用于建筑和机动车辆窗玻璃中的大量的应用。已知对于热强化和/或弯曲玻璃板而言有必要通过在接近或大于所使用玻璃的软化点的温度下热处理来加工玻璃板，并然后要么通过快速冷却使它们强化要么借助于弯曲装置使它们弯曲。钠钙硅型标准浮法玻璃的相关温度范围是通常约580-690℃，在开始实际强化和/或弯曲过程之前将玻璃板保持在该温度范围下几分钟。
在以下说明书和权利要求书中“热处理”、“热处理的”和“可热处理的”是指热弯曲和/或强化过程例如以上提到的以及指其它热加工，其间涂覆的玻璃板达到约580至690℃范围内的温度持续几分钟例如至多约10分钟的时间。如果涂覆的玻璃板经历热处理而没有显著损坏，它被认为是可热处理的，通常由热处理引起的损坏是高雾度值、针孔或斑点。
在玻璃工业中当表征低辐射率(低-e)和/或阳光控制涂层时常提到的术语或参数“雾度”经常是不充分的，因为它没有完全反映在涂覆、热处理、加工和/或处理已涂覆玻璃板期间可出现的所有类型的缺陷。例如，一些已知的可热处理的涂覆的玻璃板显示对它们的光学性质，特别是在热处理期间和之后它们的反射颜色的显著和明显的修改。
因此，期望在热处理之前和之后维持涂覆的玻璃板的热和光学性质。这可通过在热处理之前和之后维持类似的方块电阻值，或在一些情况下通过在热处理之后实际获得涂覆的玻璃板的较低水平的方块电阻来表征。
虽然确实存在其中玻璃基材(其可被强化或简单地退火)在一侧上涂覆有通过化学气相沉积(CVD)施加的涂层并且在另一侧上涂覆有溅射的阳光控制涂层的产品，但是这样的产品在它们的适用性方面经常受到限制，不能与由包含通过PVD施加的银抗反射层的涂覆的玻璃基材提供的性能竞争。
在浮法玻璃工艺中，将连续的熔融玻璃条从熔炉倾倒至大的浅的熔融金属浴上以形成浮法玻璃带。锡经常用作熔融金属。玻璃浮在锡上并且随着玻璃冷却，它铺开形成平的表面。在玻璃顶部上使用辊，从而将玻璃拉制或拉伸至需要的玻璃片厚度。传统上已知在生产期间与锡接触的玻璃片的表面为玻璃片或基材的“锡”侧。传统上已知与浴中产生的氮和氢的气氛接触的玻璃片的相对表面为“空气”侧。
在浮法工艺期间，经常使用钢提升辊将玻璃从浴中移至退火炉中。然而，因为玻璃通过钢辊移除时仍是软的，所以它特别容易损坏。通常，这样的损坏在玻璃表面上表现为可见的斑点、条纹和线条。损坏明显地损害最终玻璃产品的美观，其要么不得不以降低的成本出售，要么在更坏的情况下被完全废弃并再循环。
另外，当一个或多个涂覆层施加至玻璃基材的锡侧时，常进一步加剧在生产过程中出现的玻璃基材表面上的上述不完美。如果随后热处理(或回火)玻璃，尤其如此。
本发明因此寻求解决这样的损坏出现在玻璃基材的表面，并由此不仅满足玻璃所需要的美观，而且实现在建筑和汽车工业两者中需要的玻璃性质。
另外，虽然本发明涉及用于生产当从两侧观察时具有可接受的参数和外观的涂覆浮法玻璃的方法，但是本发明还可应用于保护其它玻璃基材例如钢化玻璃、可从NSG以Glanova TM商标得到的化学强化玻璃和硼硅酸盐玻璃。
因此，根据本发明的第一方面，提供了可强化的涂覆的浮法玻璃基材，所述浮法玻璃基材包含：
i)第一表面，和
ii)第二表面，其中
第一表面包含通过化学气相沉积(CVD)施加的一个或多个层和第二表面包含通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层；并且其中
所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层；并且其中
第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层；并且其中
涂覆的浮法玻璃基材表现出根据CIE色彩空间的透射b*颜色值小于或等于3和外反射b*小于或等于-5。
优选地，对于根据本发明第一方面的可强化的涂覆基材而言，保护层包含氧化硅(SiOx)层，其中x在1.5和2.0范围内。
根据CIE色彩空间，根据本发明的可强化的涂覆基材优选包含关于外反射均为负的b*和a*值。即，b*值在CIE色彩空间的蓝色区域和a*值在CIE色彩空间的绿色区域。
同样，关于本发明的第一方面，优选通过物理气相沉积(PVD)施加保护层。
优选地，保护层的厚度在10至100nm范围内。更优选地，保护层的厚度在15至80nm范围内。甚至更优选地，保护层的厚度在30至70nm范围内。然而最优选地，保护层的厚度在40至70nm的范围内。替代地，保护层的厚度可在30至60nm或甚至50至60nm的范围内。
关于本发明的第一方面优选的是，对于可强化的涂覆基材而言，浮法玻璃的第二表面在制造过程中接触熔融的锡，和浮法玻璃的第一表面在制造过程中接触氮和氧的浴气氛。
同样，关于根据本发明的第一方面的可强化的涂覆基材，优选的是，通过化学气相沉积(CVD)施加至玻璃基材的第一表面的一个或多个层包含一个或多个选自以下的掺杂的或未掺杂的氧化物层：
氧化硅(SiO2)、氧化锡(SnO2)、氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)、氧化钛(TiO2)和锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)。
优选地，通过物理气相沉积(PVD)施加至可强化的涂覆基材的第二表面的一个或多个层包含功能金属层。优选的是，功能金属包含银。
另外，关于根据本发明的可强化的涂覆基材，通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层优选包括至少一个基于Ti、V、Cr、Fe，或W、Ni、Nb，和它们的合金和氮化物的吸收层。最优选地，至少一个吸收层包含钨(W)，优选氮化钨。
此外，关于根据本发明第一方面的可强化的涂覆基材，优选的是，对于涂覆基材而言，在热处理之后透射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。更优选地，优选的是，对于涂覆基材而言，在热处理之后透射颜色的改变(ΔE*)小于或等于8或7。最优选地，优选的是，对于涂覆基材而言，在热处理之后透射颜色的改变(ΔE*)小于或等于5。
另外，关于根据本发明第一方面的可强化的涂覆基材，优选的是，对于涂覆基材的每侧而言，在热处理之后反射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。更优选地，优选的是，对于涂覆基材的每侧而言，在热处理之后反射颜色的改变(ΔE*)小于或等于8或7。最优选地，对于涂覆基材的每侧而言，在热处理之后反射颜色的改变(ΔE*)小于或等于5。
根据本发明的第二方面，提供了制备根据本发明第一方面的双重涂覆的可强化浮法玻璃基材的方法，包括以下步骤：
i)提供具有第一表面和第二表面的浮法玻璃基材，其中玻璃基材的第二表面在制造过程中接触熔融的锡，和第一表面在制造过程中接触氮和氢的浴气氛；
ii)通过化学气相沉积(CVD)在基材的第一表面上沉积一个或多个层；和
iii)通过物理气相沉积(PVD)在基材的第二表面上沉积一个或多个层；和
iv)在第二表面上沉积一个或多个层前，通过物理气相沉积(PVD)直接在玻璃基材上沉积保护层，其中保护层包含在10nm和100nm之间的厚度；和
v)热处理涂覆的玻璃基材从而强化玻璃而不使在基材的每侧上沉积的一个或多个层劣化。
关于本发明的第二方面，优选的是，保护层包含氧化硅(SiOx)层，其中x在1.5和2.0之间。
另外，优选的是，通过物理气相沉积(PVD)在基材的第二表面上沉积的一个或多个层包含功能金属层。最优选地，功能金属层包含银。
同样，关于本发明的第二方面优选的是：保护层沉积至30nm-70nm的厚度。优选地，沉积的保护层厚度在10至100nm范围内。更优选地，沉积的保护层厚度在15至80nm范围内。甚至更优选地，沉积的保护层厚度在30至70nm范围内。然而最优选地，沉积的保护层厚度在40至70nm的范围内。替代地，沉积的保护层厚度可在30至60nm或甚至50至60nm的范围内。
优选地，通过化学气相沉积(CVD)施加至基材的第一表面的一个或多个层包含一个或多个选自以下的层：
氧化硅(SiO2)、氧化锡(SnO2)、氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)、氧化钛(TiO2)和锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)。
在根据本发明第二方面的方法中，可在基材的第一表面上施加一个或多个层之后，沉积通过物理气相沉积(PVD)层沉积至基材的第二表面的层。
根据本发明的第三方面，提供了根据本发明第一方面的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在窗玻璃制品中的用途。
根据本发明的第四方面，提供了根据本发明第一方面的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在隔热窗玻璃制品中的用途。
根据本发明的第五方面，提供了根据本发明第一方面的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在汽车窗玻璃例如风挡、侧窗、天窗或后窗中的用途。
应理解，关于本发明第一方面的所有特征也适用于本发明的第二、第三和第四方面。
在根据本发明具有施加至玻璃基材的“锡”侧的SiOx保护层的涂覆的玻璃基材中，当涂层堆叠体包含单一基于银的功能层时，涂层堆叠体优选从SiOx层依序包含以下序列：
下抗反射层；
基于银的功能层；
阻挡层；和
上抗反射层。
替代地，当根据本发明具有施加至玻璃基材的“锡”侧的SiOx保护层的涂覆玻璃基材包含两个银层时，涂层堆叠体优选从SiOx层依序包含以下序列：
下抗反射层；
第一基于银的功能层；
阻挡层；
中心抗反射层；
第二基于银的功能层；和
上抗反射层。
关于在根据本发明的涂覆的玻璃基材上使用的涂层序列，下抗反射层可优选从保护性氧化硅SiOx层依序包含：基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层，和基于Zn的氧化物的顶侧。
下抗反射层还可优选包含一个或多个基于硅的(氧)氮化物、铝的(氧)氮化物和/或它们的合金的基础层。一个或多个基于硅的(氧)氮化物、铝的(氧)氮化物和/或它们的合金的基础层优选位于保护性氧化硅SiOx层和下抗反射层中的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层之间。
因此，在本发明的实施方案中，涂覆的玻璃板优选包含位于保护性氧化硅(SiOx)层和基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层之间的基础层，其基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金。即，下抗反射层可包含三个层。
对于包含基于银的功能层的涂覆玻璃基材而言，下抗反射层还可包含分离层。分离可优选基于金属氧化物和/或硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金。
另外，分离层可优选具有至少0.5nm，或优选0.5-6nm，更优选0.5-5nm，甚至更优选0.5-4nm，最优选0.5-3nm的厚度。这些优选厚度能够在热处理时进一步改进雾度。在沉积工艺过程中和在随后的热处理过程中，分离层优选提供保护。分离层优选在沉积之后立即被基本完全氧化，或它在沉积随后的氧化物层过程中氧化成基本完全氧化的层。
当分离层基于金属氧化物时，所述分离层可优选包含基于Ti、Zn、NiCr、InSn、Zr、Al和/或Si的氧化物的层。
当分离层优选基于金属氧化物时，可通过如下沉积分离层：使用非反应性溅射从基于例如略微亚化学计量的氧化钛的陶瓷靶，例如TiO1.98靶，作为基本化学计量或略微亚化学计量的氧化物，通过在O2的存在下反应性溅射基于Ti的靶，或通过沉积基于Ti的薄层，然后将其氧化。在本发明的上下文中，“基本化学计量的氧化物”意指至少95％但至多100％化学计量的氧化物，而“略微亚化学计量的氧化物”意指至少95％但小于100％化学计量的氧化物。当涂层序列包含单一基于银的功能层时，TiOx用作分离层是尤其优选的。
除了分离层所基于的金属氧化物和/或硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们合金之外，分离层还可包含一种或多种化学元素，所述化学元素选自以下元素中的至少一种：Ti、V、Mn、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、Si，或来自基于这些材料中至少一种的合金，用作例如掺杂剂或合金剂(alloyant)。
然而优选地，基于金属氧化物和/或硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的分离层不包括一种或多种其它化学元素。
在本发明的一种优选实施方案中，分离层基于金属氧化物，其包含锌(Zn)的氧化物和/或钛的氧化物。
在本发明的另一种优选实施方案中，分离层基于金属氧化物，其包含钛的氧化物。
然而，当层序列包含一个基于银的功能层时，分离层可优选是基于钛的氧化物，还可优选的是，当层序列或堆叠体包含多于一个基于银的功能层时，层序列在下抗反射层中不包含分离层。
另外，优选的是，当分离层基于金属氧化物时，该金属氧化物基于钛氧化物，该钛氧化物具有0.5-3nm的优选厚度。
是否下抗反射层优选包含如以上描述的三个、四个或更多个层组成将取决于序列中存在的基于银的功能层的数量。
下抗反射层的基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金的基础层可优选包含至少5nm的厚度。更优选地，下抗反射层的基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们合金的基础层包含5-60nm的厚度。甚至更优选地，下抗反射层的基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们合金的基础层包含10-50nm、15至45nm或20至40nm的厚度。最优选地，下抗反射层的基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们合金的基础层包含25-35nm的厚度。该基础层除其它用途外还充当玻璃侧扩散阻挡体。
术语“硅的(氧)氮化物”涵盖硅(Si)氮化物(SiNx)和硅(Si)氧氮化物(SiOxNy)两者，而术语“铝的(氧)氮化物”涵盖铝(Al)氮化物(AlNx)和铝(Al)氧氮化物(AlOxNy)两者。硅(Si)氮化物、硅(Si)氧氮化物、铝(Al)氮化物和铝(Al)氧氮化物层优选基本是化学计量的(例如在氮化硅＝Si3N4中，SiNx中x的值＝1.33)，但也可为亚化学计量的或甚至超化学计量的，只要由此该涂层的可热处理性没有受到负面影响。下抗反射层的基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的基础层的一个优选组成是基本化学计量的混合氮化物Si90Al10Nx。
可在含有氮和氩的溅射气氛中分别从硅(Si-)和/或铝(Al-)基靶反应溅射硅的(氧)氮化物层和/或铝的(氧)氮化物层。基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的基础层的氧含量可由溅射气氛中残余的氧或由所述气氛中受控添加的氧含量产生。通常优选的是：硅(氧)氮化物和/或铝(氧)氮化物的氧含量显著小于它的氮含量，即层中的原子比O/N保持显著小于1。对于下抗反射层的基础层最优选使用氧含量忽略不计的Si氮化物和/或铝氮化物。可通过确保该层的折射指数不明显异于无氧的Si氮化物和/或铝氮化物层的折射指数来控制该特征。
使用混合的硅(Si)和/或铝(Al)靶或向该层的硅(Si)和/或铝(Al)组分另外添加金属或半导体落在本发明的范围内，只要不损失下抗反射层中基础层的基本的阻挡和保护性质。例如，可混合铝(Al)靶与硅(Si)靶，而不排除其它混合的靶。另外的组分可通常以10-15重量％的量存在。铝通常以10重量％的量存在于混合的硅靶中。
下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选通过提供致密且热稳定的层并促进减小热处理之后的雾度而起到改进热处理过程中稳定性的作用。下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层可优选具有至少0.5nm的厚度。优选地，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层可具有0.5-15nm，或0.5至13nm或1至12nm的厚度。另外，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层可具有1-7nm，或2至6nm或3至6nm的厚度。最优选地，对于包含单一基于银的功能层的层序列的涂覆的玻璃板而言，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层可具有3-5nm的厚度。由于光学干涉条件和由于维持抗反射功能层的光学干涉边界条件所需产生的基础层厚度降低所致的可热处理性减小，厚度上限在8nm范围中是优选的。
在关于本发明第一方面的替代实施方案中，当涂覆的玻璃板包含多于一个基于银的功能层时，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选具有至少12nm的厚度。更优选地，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选具有12nm-20nm的厚度。甚至更优选地，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选具有12nm-16nm的厚度。然而，最优选地，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选具有12nm-14nm的厚度。
下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物和/或锡(Sn)的氧化物的层优选直接位于基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们合金的层上。
下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物(缩写：ZnSnOx)的层可优选包含：10至90重量％锌(Zn)和90至10重量％锡(Sn)；更优选约40至60重量％锌(Zn)和约40至60重量％锡(Sn)；甚至更优选约50重量％锌(Zn)和锡(Sn)中每种，以该层的总金属含量的重量％计。在一些优选实施方案中，下抗反射层的基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层可包含：至多18重量％锡(Sn)、更优选至多15重量％锡(Sn)、甚至更优选至多10重量％锡(Sn)。还可优选通过在O2的存在下反应性溅射混合的ZnSn靶来沉积基于Zn和Sn的氧化物的层。
除了分离层所基于的金属氧化物和/或硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金之外，分离层还可包括一种或多种其它化学元素，所述其它化学元素选自以下元素中的至少一种：Ti、V、Mn、Co、Cu、Zn、Zr、Hf、Al、Nb、Ni、Cr、Mo、Ta、Si，或来自基于这些材料中至少一种的合金，用作例如掺杂剂或合金剂。
然而优选地，基于金属氧化物和/或硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的分离层不包括一种或多种其它化学元素。
在本发明的一种优选实施方案中，分离层基于金属氧化物，其包含锌(Zn)的氧化物和/或钛的氧化物。
在本发明的另一种优选实施方案中，分离层基于金属氧化物，其包含钛的氧化物。
另外，优选的是，当分离层基于金属氧化物时，该金属氧化物基于钛氧化物，该钛氧化物具有0.5-3nm的优选厚度。
然而，优选的是，当层序列包含两个或更多个基于银的功能层和分离层基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金的一个或多个层时，下抗反射层包含两个或更多个层，当层序列包含一个基于银的功能层时，其可优选是基于钛的氧化物，还可优选的是，当层序列或堆叠体包含多于一个基于银的功能层时，下抗反射层中的分离层包含硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物和/或它们的合金的两个或更多个层。
基于锌(Zn)的氧化物的顶层主要充当用于随后沉积的基于银的功能层的生长促进层。基于锌(Zn)的氧化物的顶层任选与金属例如铝(Al)或锡(Sn)以至多约10重量％(重量％指的是目标金属含量)的量混合。所述金属例如铝(Al)或锡(Sn)的典型含量为约2重量％，其中铝(Al)是实际优选的。氧化锌(ZnO)和混合的锌(Zn)氧化物已证明作为生长促进层非常有效，并由此在随后沉积的基于银的功能层的给定厚度下促进实现低的方块电阻。如果在氧(O2)的存在下从锌(Zn)靶反应溅射下抗反射层的基于锌(Zn)的氧化物的顶层，或如果通过在含有零或仅少量(即通常不大于约5体积％的氧)的气氛中溅射例如基于ZnO：Al的陶瓷靶来沉积该顶层，则是优选的。基于锌(Zn)的氧化物的下抗反射层的顶层可优选具有至少2nm的厚度。更优选地，基于锌(Zn)的氧化物的下抗反射层的顶层可优选具有2-15nm或3-12nm的厚度。甚至更优选地，基于锌(Zn)的氧化物的下抗反射层的顶层可优选具有3-10nm的厚度。最优选地，基于锌(Zn)的氧化物的下抗反射层的顶层具有3-8nm的厚度。
(一个或多个)基于银的功能层优选基本上由银组成而没有任何添加剂，如通常在低辐射率和/或阳光控制涂层领域中的情况那样。然而，通过添加掺杂剂、合金添加剂等或甚至添加非常薄的金属或金属化合物层来改变(一个或多个)基于银的功能层的性质落在本发明的范围内，只要(一个或多个)充当高透光率和低吸光率的IR反射层所需的(一个或多个)基于银的功能层的性质基本上不受损害。
每个基于银的功能层的厚度由它的技术目的控制。对于典型的低-辐射率和/或阳光控制目的，对于单一基于银的层而言优选的层厚度可优选为5-20nm，更优选5-15nm，甚至更优选6-15nm，甚至更优选8-15nm，最优选8-14nm。具有这样的层厚度时，按照本发明对于单一银涂层而言，可容易实现在热处理之后大于86％的透光率值和小于0.05的正常辐射率。如果需要更好的阳光控制性质，可适当提高基于银的功能层的厚度或者可如以下进一步解释那样提供几个间隔的功能层。
优选地，在下抗反射层中的基于锌(Zn)的氧化物的顶层与基于银的功能层直接接触。优选地，在玻璃基材和基于银的功能层之间的层可由以上描述的下抗反射层的三个层、四个层或更多个层组成。
虽然本发明涉及包含仅一个基于银的功能层的涂覆的板，但是应用本发明构思来制备包含两个或更多个基于银的功能层的低辐射率和/或阳光控制涂层优选落在本发明的范围内。当提供多于一个基于银的功能层时，全部的基于银的功能层被居间介电层(本文统称为“中心抗反射层”)隔开从而形成法布里-珀罗(Fabry-Perot)干涉过滤器，由此可为各种应用进一步优化低辐射率和/或阳光控制涂层的光学性质。
优选地，每个基于银的功能层被居间的中心抗反射层与相邻的基于银的功能层间隔开。居间的中心抗反射层(一个或多个)可包含一个或多个以下层的组合：
基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的层；基于Zn和Sn的氧化物和/或Sn的氧化物的层；和基于金属氧化物例如Zn的氧化物的层。
在一些优选实施方案中，每个基于银的功能层被居间的中心抗反射层与相邻的基于银的功能层间隔开，其中每个中心抗反射层从位于最靠近玻璃基材的基于银的功能层依序包含至少：基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的层；基于Zn和Sn的氧化物和/或Sn的氧化物的层；和基于金属氧化物例如Zn的氧化物的层。
根据本发明的涂覆的玻璃板优选还包含阻挡层。阻挡层优选位于与基于银的功能层直接接触。
阻挡层可优选基于Zn的氧化物，具有至少0.5nm的厚度，更优选地，阻挡层基于Zn的氧化物，具有0.5-10nm的厚度。最优选地，阻挡层基于Zn的氧化物，具有1-10nm的厚度。
发现了如果阻挡层包含由混合金属氧化物靶溅射的混合金属氧化物层，则可实现在沉积工艺过程中基于银的功能层的优异保护和在热处理过程中高光学稳定性。当阻挡层基于锌(Zn)的氧化物时，所述氧化物可为混合金属氧化物例如ZnO：Al。如果由导电的ZnO：Al靶溅射基于ZnO：Al的层，则特别实现好的结果。ZnO：Al可完全氧化沉积，或者使得它是略微亚氧化的。
另外，当阻挡层包含基于锌(Zn)的氧化物的层时，对于阻挡层来说可实际上包含许多氧化锌层，例如不仅基于混合金属氧化物如ZnO：Al，而且还基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层。合适的阻挡层因此可处于ZnO：Al、ZnSnO4、ZnO：Al的形式。这样的三个阻挡层布置可具有在3和12nm之间的总厚度。
另外的三个阻挡层布置可优选选自以下：依序从基于银的功能层的以下层组合：ZnO:Al/TiOx/ZnO:Al，ZnO:Al/ZnSnOx/ZnO:Al，TiOx/ZnSnOx/ZnO:Al，TiOx/ZnO:Al/TiOx，TiOx/ZnSnOx/TiOx和ZnO:Al/ZnSnOx/TiOx。
优选使用非反应性溅射氧化性靶(以避免银损失)来沉积与基于银的功能层直接接触的至少一部分阻挡层。
另外，并且作为对基于锌(Zn)的氧化物的阻挡层的替代，还发现了如果阻挡层包含基于镍(Ni)和铬的混合金属氧化物例如亚化学计量的NiCrOx层，还可实现在沉积工艺过程中基于银的功能层的合适保护和在热处理过程中高光学稳定性。当涂覆的玻璃板包含两个或更多个基于银的功能层时，尤其如此，然而，当涂覆的玻璃板包含单一基于银的功能层时，还可使用亚化学计量的NiCrOx层。
因此，对于包含两个或更多个基于银的功能层(或甚至3个或4个银层)的涂覆的玻璃板而言，优选的是：每个基于银的功能层被居间的中心抗反射层与相邻的基于银的功能层间隔开，其中每个中心抗反射层从位于最靠近玻璃基材的基于银的功能层依序包含至少：
i)基于镍(Ni)和铬的氧化物或用铝(Al)掺杂的锌的氧化物的最上面的阻挡层；和/或
ii)基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层或基于锌和铝的氧化物的层，或基于钨的氮化物的层；和/或
iii)基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的层；和/或
iv)基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层。
同样，关于本发明的第一方面，涂覆的玻璃优选包含上抗反射层。上抗反射层优选包含：
i)基于镍(Ni)和铬的氧化物或用铝(Al)掺杂的锌的氧化物的最上面的阻挡层；和/或
ii)基于锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层或者基于锌和铝，或钨的氮化物的层；和/或
iii)基于硅的(氧)氮化物和/或铝的(氧)氮化物的层，或者基于锌和铝的层。
在上抗反射层中基于Zn和Sn的氧化物和/或Sn的氧化物的层可优选具有至少1.0nm，更优选至少3nm或4nm，或甚至至少5nm，但优选至少6nm，更优选至少7nm的厚度。另外，上抗反射层中基于Zn和Sn的氧化物和/或Sn的氧化物的层优选具有12nm或更小，最优选至多10nm，和尤其7-9nm的厚度。这些优选的厚度使进一步容易沉积并改善光学特性例如雾度同时保持机械耐久性成为可能。
在上抗反射层中基于Zn的氧化物的层可优选具有至少0.5nm，更优选至少0.5nm或1nm，或甚至至少1.5nm，但优选小于5nm，更优选4nm的厚度。这些优选的厚度还使进一步容易沉积并改善光学特性例如雾度同时保持机械耐久性成为可能。
优选地，上抗反射层中的层基于基本化学计量的金属氧化物。使用基于基本化学计量的金属氧化物的阻挡层而不是金属性或小于95％化学计量的阻挡层导致在热处理过程中涂层极高的光学稳定性，并有效地帮助在热处理过程中保持光学变化小。另外，使用基于基本化学计量的金属氧化物的层提供关于机械坚固性方面的优势。
在本发明的上下文中，术语“非反应性溅射”包括在低氧气氛(即具有零或至多5体积％氧)中溅射氧化性靶从而提供基本化学计量的氧化物。
同样在本发明的上下文中，当称层是“基于”特定的一种或多种材料时，这意味着该层主要包含量为至少50原子％的所述一种或多种材料，除非另外指出。
当层基于ZnSnOx时，“ZnSnOx”意为如说明书其它地方描述和限定的Zn和Sn的混合氧化物。
基于铝的(氧)氮化物或硅的(氧)氮化物的上抗反射层中的层可优选包含至少5nm，优选5-50nm，更优选10-45nm，甚至更优选10-40nm，最优选25-40nm的厚度。这样的厚度提供关于涂覆板的机械坚固性的进一步改进。所述基于铝的(氧)氮化物、硅的(氧)氮化物的层可优选与上抗反射层中基于锌(Zn)的氧化物的层直接接触。
基于铝的(氧)氮化物、硅的(氧)氮化物的层可构成上抗反射层的主要部分，并提供稳定性(在热处理过程中更好的保护)和扩散阻挡性质。优选通过在含有N2的气氛中反应性溅射Si、Al或混合的SiAl靶例如Si90Al10靶作为Al氮化物和/或Si氮化物层来沉积所述层。基于铝的(氧)氮化物和/或硅的(氧)氮化物的层的组成可为基本化学计量的Si90Al10Nx。
为了最小化涂层中的任何光吸收并减小在热处理过程中透光率增加，优选以基本化学计量的组成沉积上抗反射层和下抗反射层的所有单一层。
为了进一步优化涂覆板的光学性质，上抗反射层可包含由合适的材料组成的另外的局部层(通常已知用于低-e和/或阳光控制涂层的介电层)，特别是选自以下一种或多种：Sn、Ti、Zn、Nb、Ce、Hf、Ta、Zr、Al和/或Si的氧化物，和/或Si和/或Al的(氧)氮化物或它们的组合。然而，当添加这样另外的局部层时，应验证作为本文目的的可热处理性没有因此受到损害。
应理解，任何另外的层可含有改变其性质和/或促进其制造的添加剂，例如掺杂剂或反应性溅射气体的反应产物。在基于氧化物的层的情况下，可向溅射气氛添加氮从而导致形成氧氮化物而不是氧化物，在基于氮化物的层的情况下可向溅射气氛添加氧，也导致形成氧氮化物而不是氮化物。
当向本发明板的基础层序列添加任何这样的另外的局部层时，必须通过进行适当的材料、结构和厚度选择而加以小心，使得作为主要目的的性质例如高热稳定性没有显著受损。
另外，根据本发明的涂覆的玻璃板优选包含一个或多个吸收层。一个或多个吸收层可优选位于下抗反射层和/或上抗反射层中，取决于基于银的功能层数。
至少一个吸收层可包含基于Ti、V、Cr、Fe，或W、Ni、Nb，和它们的合金和氮化物的层。更优选地，至少一个吸收层基于钨(W)，优选氮化钨。
另外，优选的是，至少一个基于钨的吸收层位于下抗反射层和/或上抗反射层中。
关于本发明还优选的是，至少一个吸收层优选与至少一个基于Si的(氧)氮化物和/或Al的(氧)氮化物和/或它们的合金的层接触。更优选地，至少一个吸收层嵌入在两个基于Si的(氧)氮化物和/或Al的(氧)氮化物和/或它们的合金的层之间并与它们接触。在表现出最低雾度和有潜力在热处理之前和之后实现最中性的透射或反射颜色方面，这种布置是有益的。
优选地，至少一个吸收层与至少一个基于Al的氮化物的层接触。更优选地，至少一个吸收层嵌在两个基于Al的氮化物的层之间并与它们接触。
在下和或上抗反射层中基于钨(优选采用氮化钨WNx的形式)的吸收层可优选具有至少0.5nm，更优选至少0.5nm或1nm，或甚至至少1.5nm，但优选小于10nm，更优选8nm的厚度。这些优选的厚度还使进一步容易沉积并改善光学特性例如雾度同时保持机械耐久性成为可能。
现在将通过举例的方式仅参照以下实施例描述本发明的实施方案。
实验
进行了一系列实验以评价提供氧化硅(SiOx)底层对浮法玻璃片的未涂覆的锡侧的影响。在将氧化硅层施加至浮法玻璃基材的“锡”侧之后，在氧化硅层上面施加另外的涂覆层，该另外的涂覆层包括至少一个基于银的层。另外，浮法玻璃片的“空气”侧也涂覆有一系列涂覆层。
实验1-在存在和不存在施加至玻璃基材的锡侧的氧化硅(SiO2)底涂层的情况下
涂覆有基于银的低辐射率涂层的玻璃基材的结果之比较
在沉积一系列涂覆层(被称作堆叠体)前将氧化硅(SiOx)底涂层沉积至浮法玻璃基材的锡侧上；涂覆层包括至少一个基于银的低辐射率涂层。所述系列的层在表1中确定。
使用配备有MF-AC和/或DC(或脉冲DC)电源的单或双磁控管在具有透光率在88％范围内的6mm厚的标准浮法玻璃板上沉积氧化硅(SiOx)层和另外的涂覆层。
在表1中列出了材料以及括号中的以纳米计的每个层的几何厚度。如下获得涂覆层：
在氩/氧(Ar/O2)溅射气氛中由锌-锡靶(重量比Zn：Sn约50:50)反应性溅射锌(Zn)和锡(Sn)的氧化物的层。
在氩/氧(Ar/O2)溅射气氛中由金属性钛(Ti)靶沉积钛氧化物(TiOx)层。
在Ar/O2溅射气氛中由Al-掺杂的Zn靶(铝(Al)含量约2重量％)溅射ZnOx层。
在没有任何添加的氧并且残余氧的分压小于10-5毫巴的Ar溅射气氛中，由银靶溅射基本纯银(Ag)的功能层。
在仅含有残余氧的氩/氮(Ar/N2)溅射气氛中,由混合的Si90Al10靶反应性溅射氮化硅(SiNx)层。
在氩/氧(Ar/O2)中,由混合的Si90Al10靶溅射氧化硅(SiOx)层。
在仅含有残余氧的氩/氮(Ar/N2)溅射气氛中,由Al靶反应性溅射AlN层。
在Ar/O2溅射气氛中,由陶瓷ZnO:Al靶(具有的铝(Al)含量在10重量％的范围内)溅射ZAO层。
在Ar/O2溅射气氛中由镍-铬合金靶(具有约80重量％镍(Ni)和20重量％铬(Cr))反应性溅射NiCrOx层。
在Ar/N2溅射气氛中由金属性W靶反应性溅射WNx层。
使用标准工艺条件沉积涂层堆叠体层。
表1-在存在和不存在氧化硅SiO2底层的情况下施加至浮法玻璃片的基于银的低
辐射率涂层堆叠体的结果
表1、2a、2b和3提供对比性涂覆的玻璃板和根据本发明的涂覆的玻璃板的层序列的细节，以及用于测试以下的每个堆叠体的结果：
雾度扫描、油摩擦测试(oil rub test)值、TL％-在热处理之前玻璃基材的百分比(％)透光率值，ΔTL-在热处理时百分比(％)透光率的改变，Rs AD-在热处理之前的方块电阻，
Rs HT-在热处理之后的方块电阻，ΔRs(欧姆/平方)-热电阻的改变，和TΔE*-其为热处理时透射颜色改变的量度。
以下给出了用于收集表1、2a、2b和3中数据的方法。对于每个实施例，以从每列顶部的层开始所示的顺序，将层沉积到玻璃板上。
油摩擦测试-油摩擦测试充当模拟用于切割玻璃板的切割油对涂层的机械坚固性的影响。不耐受油摩擦测试的涂覆玻璃板难以加工，并且不适合于大多数实际应用。使用浸入折射指数为1.52(1.515至1.517)的显微镜油中面积为1.2×1.2cm的毡垫摩擦表1(和2)中限定的涂覆样品。样品以每分钟37循环的速度经受具有1,000g载荷的500个循环。然后，使用内部评价系统在0(完美，无损坏)至9(完全去除了部分涂层堆叠体)的完美度等级上评价经油摩擦的样品。优选6或更小的分数。
可热处理性测试-在表1、2a、2b和3中每个实施例中向玻璃基材沉积涂层之后，立即测量每个涂覆玻璃基材的涂层堆叠体参数(例如方块电阻(Rs)、透光率(TL)、雾度扫描和颜色坐标。然后，将涂覆的玻璃基材在650℃的范围内热处理5分钟30秒。此后，再次测量雾度扫描值、方块电阻(Rs)、两个表面的百分比透光率和反射率(TL、R膜、R玻璃)和颜色坐标，并且由此计算热处理时颜色的改变(ΔE*)以及从两侧透光率和反射率的改变(ΔTL、ΔR膜、ΔR玻璃)。
表1和3中的涂覆的玻璃板实施例在热处理时百分比(％)透光率和反射率的改变的所述值来自于根据EN 410的测量结果，其细节通过引用并入本文。
实施例的方块电阻/方块电阻的改变-使用NAGY SRM-12进行方块电阻测量。该装置利用电感器在100mm×100mm涂覆的样品中产生涡流。这产生可测量的磁场，磁场大小与样品的电阻率有关。使用该方法，可计算方块电阻。该仪器用于测量样品在650℃下热处理5分钟30秒之前和之后的方块电阻。
颜色特性-使用确立已久的CIE LAB L*、a*、b*坐标(如例如在WO 2004/063111A1的第[0030]和[0031]段中描述，通过引用并入本文)测量和报告了样品1至14中每个的颜色特性。在热处理时透射颜色的改变，TΔE*＝((Δa*)2+(Δb*)2+(ΔL*)2)1/2，其中ΔL*、Δa*和Δb*是涂覆的玻璃板各自在热处理之前和之后的颜色值L*、a*、b*的差。小于3(例如2或2.5)的ΔE*值对于具有一个基于银的功能层的层序列是优选的，其代表由热处理引起的低的且实际上不明显的颜色变化。对于包含两个或更多个基于银的功能层的层序列，较低的TΔE*值表明序列的稳定性；TΔE*值越低，涂覆的玻璃板的结果和外观越优异。
雾度扫描-雾度评分系统应用于每个实施例。下文中描述的品质评估系统也用于更清楚地区分在亮光条件下涂层的视觉品质；通过按照ASTM D 1003-61测量的标准雾度值没有完全反映的性质。
评估系统考虑了涂层中可见缺陷的更宏观效应，其在涂层受损或不完美(表1中的雾度扫描)时引起局部颜色变化。该评估分析了使用固定光照条件和几何形状获取的经热处理样品的图像中的光水平。
为了产生用于计算雾度扫描值的图像，将样品放置在距离相机镜头30cm远的黑箱内。使用具有在2400和2800Lux之间亮度的标准1200流明光照射样品，如样品位置处测量的。然后使用标准光圈大小和曝光长度拍照样品。然后，记录所得图像中每个像素的灰度，其中值为0表示黑色，和255表示白色。进行这些值的统计分析以给出样品雾度的总体评估，本文称作雾度扫描值。记录的雾度扫描值越低，结果越优异。
实验2a和2b-在存在不同厚度的氧化硅(SiO2)底涂层的情况下涂覆有基于银的低
辐射率的涂层的玻璃基材之比较
在实验2a和2b中，对于实施例1和2而言，在沉积表1中详述的每个基于银的低辐射率涂层堆叠体前在浮法玻璃基材上沉积各种厚度的氧化硅(SiOx)底涂层的层。即，在沉积表1中列出的实施例1的基于银的低辐射率涂层堆叠体之前将氧化硅底涂层施加至浮法玻璃基材的锡侧。
以7.5mm(仅实施例1)、15nm、30nm和60nm的厚度在一系列6mm的浮法玻璃基材的锡侧上沉积氧化硅(SiOx)层。
表2a和2b包括分别在表1中的实施例1和2中详述的在存在不同厚度的SiO2底层的情况下施加至浮法玻璃片的基于银的低辐射率涂层的雾度扫描结果和平均分布值的细节。
表2a
在每个实施例4至8中，将基于热解氧化硅/氧化钛的涂层施加至玻璃空气侧。
表2b
在每个实施例9至12中，将基于热解氧化硅/氧化钛的涂层施加至玻璃空气侧。
如可从表2a和2b看出，当将氧化硅(SiO2)层以30至60nm的厚度范围施加至浮法玻璃基材时获得改进的雾度扫描结果。如以上描述记录了雾度扫描测量结果，其中将使用照相方法的雾度评分系统应用于表2a和2b中的每个实施例，在该方法中分析每个样品拍摄的图像并然后将观察的结果表示为“平均雾度”值。
在图1和2中提供的照片表明了包括氧化硅(SiOx)底层的益处。
实验3-涂覆有氧化硅(SiO2)底层和基于氮化硅的层的浮法玻璃基材相对于仅涂
覆有氮化硅基础层的浮法玻璃基材之比较
与使用氧化硅底层(SiOx)作为施加至浮法玻璃基材的锡侧和位于玻璃基材和包括至少一个溅射沉积金属层的另外的层之间的保护涂覆层相关的另外优点在于，氧化硅(SiOx)底层的折射指数(1.54)非常接近于玻璃基材的折射指数(1.51)。随后，很大程度上维持了由例如随后的低辐射率和阳光控制涂层提供的所需光学性质，而仅观察到涂覆的玻璃板外观的很小改变。这通过具有包括50nm的SiOx作为保护层的相同涂层(实施例14)以及其中基础SiNx层厚度提高50nm的相同涂层(实施例15)的变体的涂层之比较来说明。在表3中提供层序列的细节。
表3
在表4和表5中提供了表3中描述的实施例13、14和15所测量的CIE L*、a*和b*值的比较，其中热解(CVD)涂层在浮法玻璃基材的“空气”侧上，和低辐射率涂层沉积在锡侧上，均在650℃下热处理5分钟之前和之后。
即，测量了在热处理时透射颜色的改变，TΔE*＝((Δa*)2+(Δb*)2+(ΔL*)2)1/2，其中ΔL*、Δa*和Δb*是涂覆的玻璃板各自在热处理之前和之后的颜色值L*、a*、b*的差。小于3(例如2或2.5)的ΔE*值对于具有一个基于银的功能层的层序列是优选的，其代表由热处理引起的低的且实际上不明显的颜色变化。对于包含两个或更多个基于银的功能层的层序列，较低的TΔE*值表明序列的稳定性；TΔE*值越低，涂覆的玻璃板的结果和外观越优异。
从表4和5可看出，关于实施例14，可获得根据本发明的涂覆基材的强化，同时实现可接受的热处理之后颜色改变。与此相反，比较例15对于SiNx层的提高的厚度和强化没有弹性，导致当透视观察时关于涂覆玻璃基材的颜色而言不可接受的涂层发黄。
表6和7说明了以上描述的浮法玻璃实施例14和15的每侧测量的CIE L*、a*和b*值的差，与没有改变层厚度和不存在SiOx保护层的比较例13所记录的值相比。
另外，可从表6和7看出，虽然当在浮法玻璃基材的锡侧上沉积实施例15的堆叠体和热处理时，存在SiN3层提供所观察的不完美的一定改善，但是使用这样的涂覆层，尤其是当沉积较厚层时，导致在热处理之前和之后浮法玻璃所观察颜色的改变，致使涂覆有这样层的玻璃基材在颜色和美观方面是不期望的。
可从表6和7中的结果看出，对于与具有另外的SiOx层作为保护层的实施例14相比的比较例13，L*、a*或b*的值观察到5个单位或更小的微小的差。
与此相反，对于与具有更厚的SiNx基础层的比较例15相比的实施例14，L*、a*或b*值的比较揭示至多29.89个单位的差。
表8的结果突出显示出的额外益处在于，在热处理至650℃持续5分钟之后，比较例13、15和实施例14的L*、a*、b*和ΔE值的改变对于具有SiOx保护层的实施例14非常小。另外，与实施例15(具有更厚的SiNx层的堆叠体)获得的值相反，实施例14的测量值接近实施例13(未改性的堆叠体)的测量值。
对于表8中概述提供的结果，表明在热处理之后涂覆的玻璃基材的观察值改变，优选在涂覆的玻璃上透射和反射的ΔE*的记录值改变小于10。对于在热处理之后涂覆的玻璃基材观察到的值，高度优选在涂覆的玻璃上透射和反射的ΔE*的记录值改变小于5。
实验4-包括可见光吸收层
在本发明的另一实施方案中，调查了在涂层堆叠体的下抗反射层中包括可见光吸收层(例如氮化钨WNx)。发明人发现，通过在涂层堆叠体的下抗反射层中包括可见光吸收层，可实现额外的益处，即所透射颜色值偏移至基本更负的b*值(即透射中蓝颜色的值)，同时维持对于涂覆的玻璃板的两个面而言反射的负b*值。
当生产双侧涂层时这是尤其期望的，其中例如通过CVD施加的第一涂层包含在可见光谱的蓝色区域中反射的材料，因为CVD涂层具有提高涂覆制品的所得透射b*值并因此提供涂覆的玻璃板在透射中淡黄色的外观的效果。即，发明人发现了可通过在涂层序列的下抗反射层中添加可见光吸收层例如氮化钨(WNx)来避免涂层的发黄外观。
额外的可见光吸收层的另一益处在于，在涂覆板的两个面上反射的颜色在所有情况下都明显是蓝色，即b*的值为-15或更低。甚至更有益的是，反射的颜色全部显示负的a*值。
如表9中描述，将一系列涂层沉积至浮法玻璃板的锡侧上，其中热解的(CVD)涂层在浮法玻璃板的空气侧上。热解的(CVD)涂层是以商标Pilkington ActivTM可得的基于硅和钛的涂层。(包括实施例1和2用于比较)在表10中说明了对沉积值观察的颜色的有益影响，和表11中说明了热处理后的值。
表9
可从以上讨论和结果看出，本发明的关键优势在于：它能够生产设置有施加至浮法玻璃片的相对面的化学气相沉积(CVD)和物理气相沉积(PVD)或溅射的涂覆层的组合的玻璃片，其可随后热处理或强化。
由本发明提供的另外的益处在于它使来自于施加至玻璃基材的两种类型的沉积方法的优势最大化。例如，可将通过例如CVD沉积的自洁涂层施加至玻璃片的一侧，因为已显示这些比纯溅射的对应物显示出高得多的光活性水平，同时可将已知出于低-e/阳光控制目的而言具有较低雾度、方块电阻和较大选择性的基于银的低辐射率(低-e)涂层沉积在玻璃基材的第二侧上，这比通过CVD沉积的低-e涂层具有优异性能。
虽然确实存在利用多种技术的涂覆的玻璃产品，但与本发明相比，这样的产品不可热回火。
同样，即使存在确实使用多种技术来生产涂层并可强化或退火的产品，但是这样的产品的选择性有限，并且该产品的性能差，因为涂层不包括银层。
通过在根据本发明的单一双重涂覆的玻璃板中组合技术，其中溅射的涂层沉积在浮法玻璃基材的锡侧(即在浮法玻璃带的形成和退火过程中的下表面)上和CVD涂覆层沉积在浮法玻璃的大气(或空气/气体)侧(在浮槽内侧的浮法玻璃带的形成和退火期间的上表面)上，本发明避免仅在玻璃基材的大气侧上溅射沉积物的常规实践的限制(因为在玻璃基材的制造过程中这一侧不与辊接触，并且这可在溅射的涂层上导致斑点和不完美)，同时维持高品质的溅射涂层。
因此，本发明克服了与这样的产品的先前生产相关的问题，并且这些问题导致热回火后溅射涂层的损坏或由于与浮法玻璃制造方法中，特别是在退火炉中使用的各种类型的辊接触而引起的损坏，并且其通常只在强化时会变得明显，表现为雾度扫描值改进至少25％。
存在替代方法，由此可生产具有例如存在于一个面上的CVD涂层和存在于基材的第二面上的溅射的含银涂层的热强化玻璃板。这样的一个实例将是CVD涂覆玻璃的热强化的切割尺寸板材，随后在已切割尺寸和钢化玻璃的相对面上沉积基于银的PVD涂层，然而，这样的方法的缺点很多，包括PVD涂覆设备的低效利用、将切割尺寸板材手动装载到设备上的额外劳动以及供应链的额外复杂性增加了生产在一个表面上设置有CVD涂层和在相对面上设置有基于银的PVD涂层的强化板材所需的成本和时间。
生产这样的最终产品的第二种替代方法可为将两个强化的涂覆玻璃板层压在一起，其中之一在一个面上设置有CVD涂层，且另一在一个面上设置有基于银的PVD涂层。这样的层压玻璃板允许加工者避免在玻璃基材的锡侧上沉积可强化的涂层。然而，这种方法极大地提高生产最终玻璃板的成本，并且要求生产商必须有分别加工并然后层压在一起的两种不同产品的库存。
本发明避免上述两种困难情况，并且允许以最高效且有成本效益的方式生产在玻璃基材的一个表面上设置有CVD涂层并且在玻璃基材的第二面上设置有基于银的PVD涂层的热钢化玻璃板。
由于本发明描述的SiOx保护层的折射指数接近玻璃基材的折射指数，这为本发明提供了进一步的益处，即包括所述保护层对涂覆的玻璃板外观产生很小影响，特别是当透射观察时和甚至更特别在透射b*方面。如果使用例如SiNx的替代材料(其折射指数高于本发明描述的SiOx保护层的折射指数)，则涂覆的玻璃板的外观改变很大，并且通常以大于10个单位的非常高的透射b*值的形式。这使得涂覆的玻璃板在透射观察时呈现不美观的淡黄色外观。与此相反，根据本发明将等厚的SiOx用作保护层生产的类似产品不仅表现出优异的强化性能(即较低的雾度)，而且具有低于10个单位，更优选低于8个单位，和甚至更优选低于6个单位的显著较低的透射b*值，这在美学上更令观察者愉悦。
本发明的另一益处是，除了提供以上描述的益处之外，在反射观察时，特别是空气侧反射(即设置有CVD涂层的表面的反射，其当构造成隔热窗玻璃单元时将是最外面的)，本发明还维持令人愉悦的外观。根据本发明生产的单片板通常具有10至-10个单位范围内、更优选在7和-10个单位之间、和甚至更优选在5和-10个单位之间的空气侧反射a*值。同时，记录的空气侧反射b*值通常是负的(即外观为蓝色)，优选在0至-30个单位的范围内，更优选在-2至-27个单位的范围内，和甚至更优选在-4至-25个单位的范围内。
Claims (23)
1.可强化的涂覆的浮法玻璃基材，所述浮法玻璃基材包含：
i)第一表面，和
ii)第二表面，其中
第一表面包含通过化学气相沉积(CVD)施加的一个或多个层,且第二表面包含通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层；并且其中
所述通过物理气相沉积(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个功能金属层；并且其中
第二表面还包含与第二表面直接接触施加的保护层；并且其中
根据CIE色彩空间，涂覆的浮法玻璃基材表现出小于或等于3的透射b*颜色值和小于或等于-5的外反射b*。
2.根据权利要求1所述的可强化的涂覆基材，其中保护层包含氧化硅(SiOx)层，其中x在1.5和2.0范围内。
3.根据权利要求1所述的可强化的涂覆基材，其中根据CIE色彩空间，b*和a*关于外反射是负的。
4.根据权利要求1、2或3所述的可强化的涂覆基材，其中保护层通过物理气相沉积(PVD)施加。
5.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中保护层的厚度在10至100nm范围内。
6.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中保护层的厚度在30至70nm范围内。
7.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中在制造期间浮法玻璃的第二表面接触熔融的锡，并且其中在制造期间浮法玻璃的第一表面接触包含氮和氢的浴气氛。
8.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中通过化学气相沉积(CVD)施加至玻璃基材的第一表面的一个或多个层包含一个或多个选自以下的掺杂的或未掺杂的氧化物层：
氧化硅(SiO2)、氧化锡(SnO2)、氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)、氧化钛(TiO2)和锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)。
9.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中功能金属层包含银。
10.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中对于涂覆基材而言，在热处理之后透射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。
11.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中对于涂覆基材的每侧而言，在热处理之后反射颜色的改变(ΔE*)小于或等于10。
12.根据任一前述权利要求所述的可强化的涂覆基材，其中所述通过物理气相沉(PVD)施加的一个或多个层包括至少一个基于Ti、V、Cr、Fe，或W、Ni、Nb，和它们的合金和氮化物的吸收层。
13.根据权利要求12所述的可强化的涂覆基材，其中至少一个吸收层包含钨(W)，优选氮化钨。
14.用于制备根据权利要求1至13中任一项所述的双重涂覆的可强化的浮法玻璃基材的方法，包括以下步骤：
i)提供具有第一表面和第二表面的浮法玻璃基材，其中玻璃基材的第二表面在制造过程中接触熔融的锡，且第一表面在制造过程中接触包含氮和氢的浴气氛；
ii)通过化学气相沉积(CVD)在基材的第一表面上沉积一个或多个层；和
iii)通过物理气相沉积(PVD)在基材的第二表面上沉积一个或多个层；和
iv)在第二表面上沉积一个或多个层前，通过物理气相沉积(PVD)直接在玻璃基材上沉积保护层，其中保护层具有在10nm和100nm之间的厚度；和
v)热处理涂覆的玻璃基材从而强化玻璃而不使在基材的每侧上沉积的一个或多个层劣化。
15.根据权利要求14所述的方法，其中保护层包含氧化硅(SiOx)层，其中x在1.5和2.0之间。
16.根据权利要求14或15所述的方法，其中通过物理气相沉积(PVD)在基材的第二表面上沉积的一个或多个层包含功能金属层。
17.根据权利要求16所述的方法，其中功能金属层包含银。
18.根据权利要求14至17中任一项所述的方法，其中沉积保护层至30nm和70nm范围内的厚度。
19.根据权利要求14至18中任一项所述的方法，其中通过化学气相沉积(CVD)施加至基材的第一表面的一个或多个层包含一个或多个选自以下的层：
氧化硅(SiO2)、氧化锡(SnO2)、氟掺杂的氧化锡(SnO2:F)、氧化钛(TiO2)和锑掺杂的氧化锡(SnO2:Sb)。
20.根据权利要求14至19中任一项所述的方法，其中在基材的第一表面上施加一个或多个层之后施加物理气相沉积(PVD)层，其施加至基材的第二表面。
21.根据权利要求1至13中任一项所述的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在建筑窗玻璃制品中的用途。
22.根据权利要求1至13中任一项所述的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在隔热窗玻璃单元中的用途。
23.根据权利要求1至13中任一项所述的可强化的涂覆的浮法玻璃基材在汽车窗玻璃例如风挡、天窗、侧窗或后窗中的用途。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| GB1910988.3 | 2019-08-01 | ||
| GBGB1910988.3A GB201910988D0 (en) | 2019-08-01 | 2019-08-01 | Touchenable coated substrate |
| PCT/GB2020/051855 WO2021019257A1 (en) | 2019-08-01 | 2020-07-31 | Toughenable coated substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN114341075A true CN114341075A (zh) | 2022-04-12 |
Family
ID=67990743
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202080061506.7A Pending CN114341075A (zh) | 2019-08-01 | 2020-07-31 | 可强化的涂覆基材 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20220267199A1 (zh) |
| EP (1) | EP4007742A1 (zh) |
| JP (1) | JP2022543075A (zh) |
| CN (1) | CN114341075A (zh) |
| GB (1) | GB201910988D0 (zh) |
| WO (1) | WO2021019257A1 (zh) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP4255860A1 (en) * | 2020-12-04 | 2023-10-11 | AGC Glass Europe | Enhanced anti-reflective effect |
Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5833817A (en) * | 1996-04-22 | 1998-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for improving conformity and contact bottom coverage of sputtered titanium nitride barrier layers |
| US20030162033A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
| US20050026002A1 (en) * | 2003-06-24 | 2005-02-03 | Klaus Hartig | Concentration-modulated coatings |
| CN1609030A (zh) * | 2004-10-26 | 2005-04-27 | 烟台佳隆纳米产业有限公司 | 一种透明导电低辐射玻璃涂层的生产方法 |
| CN1812940A (zh) * | 2003-06-06 | 2006-08-02 | 皮尔金顿公共有限公司 | 涂层的玻璃 |
| WO2008075107A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Pilkington Group Limited | Coated glass panes and process for their manufacture |
| US20130149473A1 (en) * | 2011-12-13 | 2013-06-13 | Marcus Frank | Insulating glass units with low-e and antireflective coatings, and/or methods of making the same |
| CN103946173A (zh) * | 2011-09-19 | 2014-07-23 | 皮尔金顿集团有限公司 | 在玻璃基板上形成氧化硅涂层的方法 |
| CN103958731A (zh) * | 2011-09-30 | 2014-07-30 | 阿科玛股份有限公司 | 通过常压化学气相沉积沉积氧化硅 |
| CN105517968A (zh) * | 2013-08-16 | 2016-04-20 | 皮尔金顿集团有限公司 | 可热处理的涂覆玻璃板 |
Family Cites Families (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2730990B1 (fr) * | 1995-02-23 | 1997-04-04 | Saint Gobain Vitrage | Substrat transparent a revetement anti-reflets |
| US20030039843A1 (en) * | 1997-03-14 | 2003-02-27 | Christopher Johnson | Photoactive coating, coated article, and method of making same |
| US6610410B2 (en) * | 1998-12-18 | 2003-08-26 | Asahi Glass Company, Limited | Glazing panel |
| DE10051724A1 (de) | 2000-10-18 | 2002-05-02 | Flabeg Gmbh & Co Kg | Thermisch vorgespanntes Glas mit einer abriebfesten, porösen SiO¶2¶-Antireflexschicht |
| DE10051725A1 (de) | 2000-10-18 | 2002-05-02 | Merck Patent Gmbh | Wäßrige Beschichtungslösung für abriebfeste SiO2-Antireflexschichten |
| DE10146687C1 (de) | 2001-09-21 | 2003-06-26 | Flabeg Solarglas Gmbh & Co Kg | Glas mit einer porösen Antireflex-Oberflächenbeschichtung sowie Verfahren zur Herstellung des Glases und Verwendung eines derartigen Glases |
| EP1429997B1 (de) | 2001-09-21 | 2007-07-18 | MERCK PATENT GmbH | Neuartiges hybrid-sol zur herstellung abriebfester sio 2 antireflexschichten |
| US6994910B2 (en) | 2003-01-09 | 2006-02-07 | Guardian Industries Corp. | Heat treatable coated article with niobium nitride IR reflecting layer |
| EP1640149A4 (en) * | 2003-06-20 | 2009-09-16 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | LINK WITH PHOTOCATALYTIC ACTIVITY AND MULTILAYER GLASS |
| WO2006062102A1 (ja) * | 2004-12-06 | 2006-06-15 | Nippon Sheet Glass Company, Limited | 光触媒機能および熱線反射機能を有するガラス部材、ならびに、それを用いた複層ガラス |
| US8076571B2 (en) * | 2006-11-02 | 2011-12-13 | Guardian Industries Corp. | Front electrode for use in photovoltaic device and method of making same |
| GB0712447D0 (en) * | 2007-06-27 | 2007-08-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| US8865325B2 (en) * | 2010-03-29 | 2014-10-21 | Ppg Industries Ohio, Inc. | Tempered and non-tempered glass coatings having similar optical characteristics |
| BE1019387A3 (fr) * | 2010-06-24 | 2012-06-05 | Agc Glass Europe | Vitrage isolant. |
| FR2975989B1 (fr) * | 2011-05-30 | 2014-04-25 | Saint Gobain | Couche barriere aux alcalins |
| GB201306611D0 (en) * | 2013-04-11 | 2013-05-29 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| GB2518899A (en) * | 2013-10-07 | 2015-04-08 | Pilkington Group Ltd | Heat treatable coated glass pane |
| EP3281922B1 (en) * | 2015-04-10 | 2021-07-28 | AGC Glass Europe | Glass sheet and method for manufacturing same |
-
2019
- 2019-08-01 GB GBGB1910988.3A patent/GB201910988D0/en not_active Ceased
-
2020
- 2020-07-31 WO PCT/GB2020/051855 patent/WO2021019257A1/en unknown
- 2020-07-31 EP EP20751652.7A patent/EP4007742A1/en active Pending
- 2020-07-31 JP JP2022506534A patent/JP2022543075A/ja active Pending
- 2020-07-31 CN CN202080061506.7A patent/CN114341075A/zh active Pending
- 2020-07-31 US US17/630,962 patent/US20220267199A1/en active Pending
Patent Citations (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5833817A (en) * | 1996-04-22 | 1998-11-10 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for improving conformity and contact bottom coverage of sputtered titanium nitride barrier layers |
| US20030162033A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-28 | Afg Industries, Inc. | Method of making self-cleaning substrates |
| CN1812940A (zh) * | 2003-06-06 | 2006-08-02 | 皮尔金顿公共有限公司 | 涂层的玻璃 |
| US20050026002A1 (en) * | 2003-06-24 | 2005-02-03 | Klaus Hartig | Concentration-modulated coatings |
| CN1609030A (zh) * | 2004-10-26 | 2005-04-27 | 烟台佳隆纳米产业有限公司 | 一种透明导电低辐射玻璃涂层的生产方法 |
| WO2008075107A1 (en) * | 2006-12-21 | 2008-06-26 | Pilkington Group Limited | Coated glass panes and process for their manufacture |
| CN103946173A (zh) * | 2011-09-19 | 2014-07-23 | 皮尔金顿集团有限公司 | 在玻璃基板上形成氧化硅涂层的方法 |
| CN103958731A (zh) * | 2011-09-30 | 2014-07-30 | 阿科玛股份有限公司 | 通过常压化学气相沉积沉积氧化硅 |
| US20130149473A1 (en) * | 2011-12-13 | 2013-06-13 | Marcus Frank | Insulating glass units with low-e and antireflective coatings, and/or methods of making the same |
| CN105517968A (zh) * | 2013-08-16 | 2016-04-20 | 皮尔金顿集团有限公司 | 可热处理的涂覆玻璃板 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2021019257A1 (en) | 2021-02-04 |
| EP4007742A1 (en) | 2022-06-08 |
| JP2022543075A (ja) | 2022-10-07 |
| US20220267199A1 (en) | 2022-08-25 |
| GB201910988D0 (en) | 2019-09-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US10487010B2 (en) | Barrier layers comprising Ni and/or Ti, coated articles including barrier layers, and methods of making the same | |
| US10150697B2 (en) | Heat treatable coated glass pane | |
| US10214447B2 (en) | Coated article including low-emissivity coating, insulating glass unit including coated article, and/or methods of making the same | |
| US9981873B2 (en) | Heat treatable coated glass pane | |
| JP6684212B2 (ja) | 熱処理可能な被覆ガラス板 | |
| TW201418755A (zh) | 具低可見光穿透度之具有低發射率塗層的經塗覆物件 | |
| WO2006078491A2 (en) | Heat treatable coated article with zirconium silicon oxynitride layer(s) and methods of making same | |
| EP4058417B1 (en) | Coated glass substrate | |
| CN112074492B (zh) | 涂覆的玻璃板 | |
| CN114341075A (zh) | 可强化的涂覆基材 | |
| WO2021019259A1 (en) | Coated substrate | |
| EP4007743A1 (en) | Toughenable coated substrate | |
| WO2024028614A1 (en) | Coated glass pane suitable for an automotive glazing | |
| WO2023007153A1 (en) | Coated glass pane | |
| CN117940390A (zh) | 涂覆的玻璃板 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination |