CN201376937Y - 可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃 Download PDF

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吴斌
李志军
顾云
葛建军
徐佳霖
黄一波
方志坚
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SHANGHAI YAOPI BUILDING GLASS CO Ltd
TIANJIN YP ENGINEERING GLASS GROUP Co Ltd
YAOPI ENGINEERING GLASS Co Ltd SHANGHAI
Yaohua-Pierjindun Glass Co Ltd Shanghai
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TIANJIN YP ENGINEERING GLASS GROUP Co Ltd
YAOPI ENGINEERING GLASS Co Ltd SHANGHAI
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Abstract

本实用新型提供一种可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃，该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为：玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层；该死玻璃在镀膜后可以进行钢化处理工艺，而不影响产品的质量；利用以氮化硅Si3N4+ZnO作为基层复合电介质层；选用包括氧化锡SnO2，氧化钛TiO2，氮化硅Si3N4；氧化铌Kb2O5中的一种或几种辅以ZnO的吸收层组成中层复合电介质层，合理选择其他各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的双银结构低辐射镀膜玻璃。

Description

可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃
技术领域：
本发明涉及一种镀有双银层、复合电介质层及吸收层，具有高效遮阳性能并且能够实现可钢化加工的低辐射镀膜玻璃。
背景技术：
可钢化双银结构的镀膜玻璃，是在玻璃表面镀制包括双银层在内的多层金属或其他化合物组成的具有良好性能和可钢化加工能力的膜系产品。由于采用双银层结构使得该产品对可见光有较高的透射率的同时保有良好的隔热性能和遮阳性能，并且设置复合结构的多重金属化合层的长路径确保银层稳定来实现镀膜后的钢化再加工。
采用真空磁控溅射法生产普通双银结构低辐射玻璃的膜层结构一般为：玻璃/基层电介质层/银层/阻隔层/中层电介质层/银层/阻隔层/顶层电介质层。
基层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO2，ZnO，Nb2O5，TiO2，Si3N4等；
阻隔层一般为NiCr或者NiCrOx；
中层和顶层电介质层的材料一般为金属或非金属的氧化物或氮化物，如SnO2，ZnO，Nb2O5，TiO2，Si3N4等
但是，在上述这种传统结构的双银低辐射玻璃加工中，只能对玻璃采用先钢化再镀膜的加工方式，这是因为：
1.先镀膜后钢化，加热过程中玻璃中含有的纳离子等物质活性增强会渗透到膜系中，破坏电介质层和银层；
2.先镀膜后钢化，银层中的银粒子会受热迁移，凝聚，产生雾化现象；
3.先镀膜后钢化，热环境下氧气容易渗过化合物保护层，使银层部分或者全部氧化。
钠离子的渗入，银粒子凝聚和银层氧化，会使镀膜玻璃产生斑点，雾化，降低低辐射性能。
随着现代建筑的发展，出于美观节能等考虑，普通的单银结构的可钢化低辐射镀膜玻璃在光学性能上已经不能够满足客户和设计师的要求，而越来越多的要求双银低辐射玻璃在镀膜后也可以进行钢化处理工艺。
发明内容
本发明的目的在于，生产出来的双银低辐射玻璃，在镀膜后可以进行钢化处理工艺，而不影响产品的质量；利用双极脉冲电源溅射技术生产的Si3N4作为基层电介质层，辅以陶瓷ZNO的吸收层组成2层复合电介质层(基层和中间层)，合理选择其他各层的厚度和膜层成分，生产出可以进行高温热处理的低辐射镀膜玻璃。
该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为：玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层；其中：
包含吸收层的基层复合电介质层为：氮化硅Si3N4+氧化锌ZnO镀层，其总膜层厚度为5nm～75nm；
银层Ag：膜层厚度为2nm～25nm；
阻隔层一般为NiCr，NiCrOx，Ti，Cr或其他金属元素：
膜层厚度为0～30nm；
包含吸收层的中层复合电介质层可以为：氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，或氧化锌ZnO材料中的一种或者几种组合构成，其总膜层厚度为10nm～200nm；
顶层电介质层为：金属或者非金属的氧化物或氮化物，氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，膜层厚度为10nm～100nm。
本发明优点是在于，生产出来的双银低辐射玻璃，在镀膜后可以进行高温钢化处理工艺热处理，而不影响产品的质量。
本发明采用脉冲磁控溅射的方法，控制溅射电源的频率和占空比，在每层银的前后采用复合电介质层来设置长路径，借助氮化硅Si3N4在热处理中稳定的物理、化学性能，有效的控制和阻隔了钠离子的渗入，银粒子凝聚和银层氧化等一系列的影响双银镀膜玻璃低辐射性能和外观质量的问题，保证低辐射镀膜玻璃经过热钢化或者热弯后，镀膜玻璃的颜色、透射率、反射率和低辐射率都不会产生较大的变化，仍然保持的良好外观效果和光热性能。
附图说明
附图是本实用新型的玻璃层结构示意图。
图中标号说明：
1-玻璃2-包含吸收层的基层复合电介质层3-银层；4-阻隔层；5-包含吸收层的中层复合电介质层；6-银层；7-阻隔层；8-顶层电介质层。
具体实施方
请参阅附图所示，本发明各个膜层的镀膜厚度及各层结构如前所述；各膜层结构自玻璃向外依次是：-玻璃1；包含吸收层的基层复合电介质层2；银层3；阻隔层4；包含吸收层的中层复合电介质层5；银层6；阻隔层7；顶层电介质层8。
具体生产配置如是用平板玻璃双端连续式镀膜机，包括11个交流阴极，10个直流阴极，使用8个交流圆靶，4个直流单靶，共12个靶位进行生产，制出本发明可钢化双银结构的镀膜玻璃。

Claims (1)

1、一种可钢化双银复合结构低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该玻璃的膜层结构自玻璃向外层依次为：玻璃、包含吸收层的基层复合电介质层、银层、阻隔层、包含吸收层的中层复合电介质层、银层、阻隔层、顶层电介质层；其中：
包含吸收层的基层复合电介质层为：氮化硅Si3N4+氧化锌ZnO镀层，其总膜层厚度为5nm～75nm；
银层Ag：膜层厚度为2nm～25nm；
阻隔层一般为NiCr，NiCrOx，Ti，Cr；膜层厚度为0～30nm；
包含吸收层的中层复合电介质层可以为：氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，或氧化锌ZnO材料中的一种或者几种组合构成，其总膜层厚度为10nm～200nm；
顶层电介质层为：金属或者非金属的氧化物或氮化物，氮化硅Si3N4，或氧化锡SnO2，或氧化钛TiO2，或氧化铌Kb2O5，或氧化锌锡ZnSnOx，膜层厚度为10nm～100nm。
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