CN206553403U - 一种高红外反射镀膜玻璃 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种高红外反射镀膜玻璃，包括玻璃基板，其技术方案要点是：所述玻璃基板上依次设有ITO层、Nb₂O₅层、AZO层、Ag层、Ti层、TIO_x层和Si₃N₄层。本实用新型的一种高红外反射镀膜玻璃，具有较高的可见光透过率和红外反射率，有效阻止热能透过玻璃进入室内。

Description

一种高红外反射镀膜玻璃

【技术领域】

本实用新型涉及一种镀膜玻璃，具体涉及一种高红外反射镀膜玻璃。

【背景技术】

镀膜玻璃具有节能减排及装饰幕墙的双重功效，推出市场后，深受人们喜爱，随着人们对节能需求的不断提高，人们在追求高的透光率的同时，对红外反射率的要求越来越高，需求更高透过率的玻璃。

【发明内容】

本实用新型的一种高红外反射镀膜玻璃，具有较高的可见光透过率和红外反射率，有效阻止热能透过玻璃进入室内。

本实用新型是通过以下技术方案实现的：

一种高红外反射镀膜玻璃，包括玻璃基板，所述玻璃基板上依次设有ITO层、Nb₂O₅层、AZO层、Ag层、Ti层、TIO_x层和Si₃N₄层。

优选的，所述ITO层为磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15欧。

优选的，所述Nb₂O₅层为磁控溅射铌靶，交流电源反应溅射，用Ar气、O₂作为溅射气体，气体流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。

优选的，所述AZO层，为磁控溅射掺铝氧化锌靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，交流电源反应溅射，用Ar气、O₂作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。

优选的，所述Ag层，磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。

优选的，所述Ti层，磁控溅射Ti层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。

优选的，所述TIO_x层，磁控溅射氧化钛靶，交流电源溅射，用Ar气、O₂作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。

优选的，所述Si₃N₄层，磁控溅射硅铝靶(Si:Al＝92:8(wt％))，交流电源溅射，用Ar气、O₂作为溅射气体，气体流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。

优选的，所述玻璃基板为厚度为4～8mm的浮法玻璃。

一种制备绿色基调的低辐射镀膜玻璃的方法，包括以下步骤：

A：选择4～8mm玻璃基板，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基板进行清洗；

B：将玻璃基板送入镀膜室磁控溅射ITO层，用交流电源、Ar气作为保护气体，磁控溅射氧化铟锡靶(In2O3：SnO2＝90：10(wt％))，用Ar气流量800SCCM，在玻璃基板上溅射120～135nm的ITO层；

C：继续磁控溅射Nb₂O₅层，用交流电源，Ar气、O₂作为保护气体，磁控溅射铌靶，用Ar和O₂气体流量400SCCM:800SCCM，溅射20～50nm的Nb₂O₅层；

D：继续磁控溅射第一AZO层，用交流电源，Ar气、O₂作为保护气体，磁控溅射铝氧化锌靶(ZnO:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O₂气体流量1000SCCM:40SCCM，溅射20～50nm的AZO层；

E：继续磁控溅射Ag层，用直流电源，Ar气作为保护气体，磁控溅射，用Ar气体流量500～550SCCM，溅射8～12nm的Ag层；

F:继续磁控溅射Ti层，用直流电源，Ar气作为保护气体，磁控溅射，用Ar气体流量500～550SCCM，溅射0.8～2nm的第二Ti层；

G：继续磁控溅射TIO_x层，用交流电源，Ar气、O₂作为保护气体，磁控溅射氧化钛靶，用Ar和O₂气体流量1000SCCM:40SCCM，溅射20～35nm的TIO_x层；

H：继续磁控溅射Si₃N₄层，用交流电源，Ar气、O₂作为保护气体，磁控溅射硅铝靶(Si:Al＝92:8(wt％))，用Ar和O₂气体流量400SCCM:600SCCM，溅射50～85nm的Si₃N₄层。

与现有技术相比，本实用新型具有如下优点：

1、本实用新型的一种高红外反射镀膜玻璃，在红外反射层外制备扩散阻挡层，金属层和介质层间隔设置形成吸收层，在吸收层外制备减反射层，形成具有间隔设置的金属层和介质层的吸收层，其工艺流程简单，靶材成本低，可大规模制备生产，其制成的产品可见光透过率达60％以上，红外反射率99％以上，实现高红外光反射的特点，利于低辐射玻璃的推广使用；

2、本实用新型的一种高红外反射镀膜玻璃制备方法，功能膜层依次沉积在玻璃基板上，膜层具有耐候性和耐腐蚀性能优秀、辐射率低、表面电阻小、均匀性好、结合力强的优点。

【附图说明】

图1是本实用新型结构示意图。

【具体实施方式】

如附图1所示的一种高红外反射镀膜玻璃，包括玻璃基板1，所述玻璃基板1上依次设有ITO层2、Nb₂O₅层3、AZO层4、Ag层5、Ti层6、TIOx层7和Si3N4层8。本实用新型的玻璃由一块玻璃基片及多层镀层复合而成，以获得搞红外反射率，可见光透过率达60％以上，红外反射率99％以上，有效隔绝热源透过玻璃进入室内，实现节能的效果。

所述ITO层2为磁控溅射氧化铟锡靶In2O3：SnO2＝90：10(wt％)，交流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量800SCCM，膜厚120～135nm，方阻<15欧。

所述Nb₂O₅层3为磁控溅射铌靶，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:800SCCM，膜厚20～50nm。该镀层能够提高膜层折射率，从而提高透过率。

所述AZO层4，为磁控溅射掺铝氧化锌靶ZnO:Al＝92:8(wt％)，交流电源反应溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～50nm。该镀层用来平整银层，并降低面电阻，可进一步降低红外的透过率。

所述Ag层5，磁控溅射Ag层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚8～12nm。该镀层用来作为功能层，反射红外线。

所述Ti层6，磁控溅射Ti层，直流电源溅射，用Ar气作为溅射气体，气体流量500～550SCCM，膜厚0.8～2nm。该镀层作为阻挡层，防止并减缓银层被氧化。

所述TIOx层7，磁控溅射氧化钛靶，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量1000SCCM:40SCCM，膜厚20～35nm。该镀层为玻璃提供高折射率，从而实现高的透过率，并且膜层耐磨、耐腐蚀。

所述Si₃N₄层8，磁控溅射硅铝靶Si:Al＝92:8(wt％)，交流电源溅射，用Ar气、O2作为溅射气体，气体流量400SCCM:600SCCM，膜厚50～85nm。该镀层提供高折射率，从而实现玻璃的高透过率，并使膜层具有较高的机械性能

所述玻璃基板1为厚度为4～8mm的浮法玻璃。

结合具体实施例，说明本实用新型制备高红外反射镀膜玻璃的方法：

实施例1-4

一种制备高红外反射镀膜玻璃的方法，包括以下步骤：

A：选择玻璃基板，按预定尺寸用切割机进行切割，用清洗机对玻璃基板进行清洗；

B：将玻璃基板送入镀膜室内逐层进行磁控溅射，条件如表1所示；

表1：

如上条件所得的高红外反射镀膜玻璃，按照GB/T2680-94《建筑玻璃可见光透射比、太阳光直接透射比、太阳能总透射比、紫外线投射比及有关窗玻璃参数的测定》对实施例1-4制得的玻璃进行光学性能的测定，测试结果如表2所示：

表2：

本实用新型的一种高红外反射镀膜玻璃，功能膜层依次沉积在玻璃基板上，膜层具有耐磨性和耐腐蚀性能，较高折射率和透过率，产品成本低廉。

Claims (9)

1.一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：包括玻璃基板(1)，所述玻璃基板(1)上依次设有ITO层(2)、Nb₂O₅层(3)、AZO层(4)、Ag层(5)、Ti层(6)、TIO_x层(7)和Si₃N₄层(8)。

2.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述ITO层(2)膜厚120～135nm，方阻<15欧。

3.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述Nb₂O₅层(3)膜厚20～50nm。

4.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述AZO层(4)膜厚20～50nm。

5.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ag层(5)膜厚8～12nm。

6.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述Ti层(6)膜厚0.8～2nm。

7.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述TIO_x层(7)膜厚20～35nm。

8.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述Si₃N₄层(8)膜厚50～85nm。

9.根据权利要求1所述的一种高红外反射镀膜玻璃，其特征在于：所述玻璃基板(1)为厚度为4～8mm的浮法玻璃。